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正文內(nèi)容

基因芯片技術(shù)簡(jiǎn)介-文庫(kù)吧資料

2025-01-09 13:35本頁(yè)面
  

【正文】 具有此類(lèi)產(chǎn)品研制能力的公司很少(如Affimetrix公司)。這種類(lèi)型 “芯片 ”的點(diǎn)陣是通過(guò) “點(diǎn)膜 ”形式制作的,并通過(guò)一定的方法使探針能夠牢固地結(jié)合于其上,整個(gè)過(guò)程類(lèi)似于斑點(diǎn)雜交技術(shù)(如 CloneTech公司)。該方法是目前大多數(shù)中小型公司所采用的方法。 優(yōu)點(diǎn): 設(shè)備廉價(jià),技術(shù)相對(duì)簡(jiǎn)單,反應(yīng)產(chǎn)率高 缺點(diǎn): 點(diǎn)陣密度低,易產(chǎn)生交叉污染? “點(diǎn)膜 ”型 合成工作用傳統(tǒng)的 DNA固相合成儀完成,只是合成后用特殊的自動(dòng)化微量點(diǎn)樣裝置將其以比較高的密度涂布于硝酸纖維膜、尼龍膜或玻片上。沖洗、去保護(hù)、偶聯(lián)等則同于一般的固相原位合成技術(shù)。 優(yōu)點(diǎn): 合成效率高,點(diǎn)陣密度高 缺點(diǎn): 設(shè)備昂貴,技術(shù)復(fù)雜,反應(yīng)產(chǎn)率低 壓電打印原位聚合技術(shù) 其裝置與普通的彩色噴墨打印機(jī)并無(wú)兩樣,所用技術(shù)也是常規(guī)的固相合成方法。因?yàn)楹铣伤玫膯误w分子一端按傳統(tǒng)固相合成方法活化,另一端受光敏保護(hù)基的保護(hù),所以發(fā)生偶聯(lián)的部位反應(yīng)后仍舊帶有光敏保護(hù)基團(tuán)。 光引導(dǎo)原位聚合技術(shù) 的簡(jiǎn)要過(guò)程為:首先使支持物羥基化,并用光敏保護(hù)基團(tuán)將其保護(hù)起來(lái),
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