平版印刷用ps版的制作-文庫吧資料
2025-01-05 16:44本頁面
【正文】 型 PS版曬版工藝流程 ?陰圖型 PS版類型 ?陰圖型 PS版曬版工藝流程 陰圖型 PS版類型 ?外型版 ? 感光層只含有光敏物質(zhì)不含成膜物質(zhì)，印刷前在圖文部分必須涂抹一層高分子親墨性的成膜物質(zhì)（臘克） ?內(nèi)型版 ? 感光層含有光敏物質(zhì)與成膜物質(zhì) 陰圖型 PS版曬版工藝流程 ?裝版 ? 分色片為反向陰圖型； ? 對(duì)分色片圖文以外的感光版部位進(jìn)行全面避光。 ?烤版作用 ? 固化層的感光性消失 ? 固化層具有良好的耐溶劑性、耐腐蝕和耐磨性 涂顯影墨和擦膠 ?涂顯影墨 ? 防止二次曝光使感光層耐抗性降低；親墨作用，印刷時(shí)幫助油墨更好的附著在感光層上。 ? 成膜劑分子受熱交聯(lián)，由線型結(jié)構(gòu)變成網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。因?yàn)槿瞬还芏嗝淳?xì)也很難用手把一個(gè)個(gè)網(wǎng)點(diǎn)正確補(bǔ)齊。 ?修補(bǔ)時(shí)先吹干版面再修補(bǔ)，然后再吹干。此法多用在臟點(diǎn)距離圖文較近的情況，但是技術(shù)難度大，容易損失版面。此法工作效率高，但要控制好曝光量，以免影響圖文。 ? 此法方法簡(jiǎn)單實(shí)用，成本低，但工作效率較慢。 除臟 ? 溶液除臟 ? 利用毛筆把修正液涂抹在臟點(diǎn)位置，把臟點(diǎn)溶解。 ?顯影液濃度控制 ? 手顯比例 1/3（顯影劑 /水） ?顯影液溫度 ? 顯影液溫度控制不需要特別嚴(yán)格，一般為室溫。 顯影操作 ?PS版類型 ? PS版按氧化膜性質(zhì)可分為兩類： 4g/m2以上和4g/m2以下。 ?保護(hù)劑 ? 保護(hù)版基不被腐蝕，圖文膜層不被侵溶，常用磷酸鈉和氯化鉀 ?潤(rùn)濕劑 ? 表面活性劑，降低顯影液的表面張力，幫助潤(rùn)濕版面。 曝光操作過程 ?曝光時(shí)間確定 ? 利用密度梯尺曝光級(jí)數(shù)確定曝光時(shí)間 ?二次抽氣法 ? 保證印版抽氣均勻 顯影 ?顯影原理 ?顯影液組成 ?顯影操作 顯影原理 CO2OHCOOH+HHCOHNaOH+HCONaOH2+曝光部位第一步水解生成茚羧酸 曝光部位第二步中和反應(yīng)，茚羧酸與堿生成鹽和水 顯影原理 ON2OHCH2NaOHON N ONaCH2+未曝光部位的感光層在堿性條件下，感光劑與成膜劑發(fā)生偶合反應(yīng)生成難溶于堿的物質(zhì)，并且感光劑的感光性能消失。 ? 光滲現(xiàn)象和圖文耐印力 光源 ?光源類型 ? 320500nm范圍內(nèi)發(fā)光效率最高的碘鎵燈和曬版熒光燈 ?點(diǎn)光源和面光源 ? 曝光均勻程度和散射光造成的光滲現(xiàn)象 ?燈距 ? 點(diǎn)光源的燈距稍大于面光源的燈距 曝光量 ?理論上，曝光量大于印版臨界光能值就可以正確曝光。21 ? 為什么？ 感光版 ?感光劑分子類型不同，感光能力相差很大。 ? 為什么？ ? 網(wǎng)點(diǎn)虛暈度 ? 虛暈邊小于 46um。 曝光原理 曝光原理 ?原理：重氮萘醌類感光層在光作用下分解放出氮?dú)猓瑫r(shí)生成茚酮，茚酮在水的作用下生成茚羧酸，茚羧酸可以在堿性溶液中溶解。 ?檢查分色片
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