xrf光譜儀原理及維護(hù)-文庫(kù)吧資料
2024-08-18 01:20本頁(yè)面
【正文】 File exists Instrument Configuration: Yes Yes Instrument Parameters: Yes Yes Instrument Calibration Data: Yes Yes Esc=Menu F1=Parameterbank to disk F2=Parameterbank to instrument F9=General 2. 參數(shù)的保存：首先輸入文件名， Dyxxx, 檢查文件是否存在，如不存在 按 F1鍵，參數(shù)文件將被保存。二個(gè)月放一次空壓機(jī)的水 6. 每天記錄儀器參數(shù)。 4. 更換 P10氣時(shí)，必須檢查 PHD。真空泵每 6個(gè)月排一次水。定期更換水過(guò)濾器。 日常維護(hù) 1. 清潔試樣蓋。 3. 停機(jī)超 48小時(shí)以上，用常規(guī)老化。 8. 檢查 PHD. X－光管老化 1. 停機(jī)超過(guò) 24小時(shí)以上，再開(kāi)機(jī)時(shí) X光管需老化。變換介質(zhì)為 真空。 5. 快速打開(kāi)氣瓶主開(kāi)關(guān)，沖洗瓶口。取下減壓閥。 3. 設(shè)定介質(zhì)為空氣。 更換 P10氣體 更換 P10氣體 1. 高壓降為 20kv/10mA。 c. 關(guān)主機(jī)電源。 2. 關(guān)機(jī) a. 高壓降為 20kv/10mA。運(yùn)行 SuperQ,進(jìn)入 System setup, 檢查 P10流量 (1L/h左右），真空度（小于 100Pa）。 d. 開(kāi)主機(jī)電源。設(shè)定輸出壓力為 。設(shè)定壓力為 左右。 探測(cè)器的主峰與逃逸峰 逃逸峰現(xiàn)象實(shí)例 V的逃逸峰 V的主峰 (光子峰 ) 22Ti ~ 27Co 各元素出現(xiàn)逃 逸峰 逃逸峰的計(jì)算例 CrKα 的逃逸峰： 分析線(xiàn) ： CrKa ArKa 光子能量 ： keV ； keV 逃逸峰的能量 : E = Cr Ka Ar Ka = = Kev 光子峰 逃逸峰 堆積峰的形成 堆積峰是由于兩個(gè)光子同時(shí)進(jìn)入了探測(cè)器形成的，這兩個(gè)光子各自產(chǎn)生一群電子并被檢測(cè)，所以檢測(cè)的能量相當(dāng)于兩個(gè)初始能量之和 雙多道脈沖分析計(jì)數(shù)電 路 (DMCA) ? 作用是 提高計(jì)數(shù)速度，以實(shí)現(xiàn)快速定性?huà)呙? ? 擴(kuò)大 計(jì)數(shù)的線(xiàn)性范圍，提高靈敏度。 實(shí)際的脈沖高度分布 (封 Xe) 氣體正比計(jì)數(shù)器的逃逸峰 : e – e – e – e – e e +Ar +Ar +Ar +Ar +Ar +Ar (1) Ar原子外層電離，由光電子引起 (2) Ar原子內(nèi)層光電離，由 ArK?光子引起 e – e – e – e – e e +Ar +Ar +Ar +Ar +Ar +Ar 在入射光子的作用下 ， 檢測(cè)器中的原子 Ar， 也會(huì)發(fā)射它們的特征譜線(xiàn) ，由此入射 X射線(xiàn)光子會(huì)損失的一部分能量與探測(cè)氣體 Ar原子 K系譜線(xiàn)的能量相等 ， Ar原子的 K系激發(fā)能大約 3keV。 晶體熒光及逃逸峰； 3. 扣除連續(xù)譜，降低背景強(qiáng)度，提高靈敏度。使幅度高于下限而低于上限的脈沖通過(guò)脈沖高度選擇 器 脈沖高度選擇器的作用 1. 只讓落在上電平甄別與下電平甄別間的脈沖通過(guò)計(jì)數(shù)電路 2. 排除不必要的脈沖如：低電壓噪音 。 脈沖高度分 析器的作用 分析器 上限甄別器 下限甄別器 反符合電路 輸入 輸出 脈沖高度選擇器由上限甄別器、下限甄別器、反符合電路等部分組成。 探測(cè)器 的脈沖高度分布 脈沖高度 分析器 的 主要 作用 是記錄每個(gè) 能量高度 間隔 內(nèi) 產(chǎn)生多少個(gè)脈沖 ？該脈沖 的 數(shù)目與譜線(xiàn)強(qiáng)度有關(guān) 。這 就是探測(cè)器的正比特性。 EX 探測(cè)器能量正比特性 一個(gè)入射光子進(jìn)入探測(cè)器時(shí)形成的最大正負(fù)離子對(duì)的數(shù)量取決于一個(gè)放大因子，這個(gè)因子稱(chēng)為放大倍數(shù)，可根據(jù)以下公式計(jì)算： g a s g a i nni o nE ??EP h o t 式中： n 最大正負(fù)離子對(duì)的數(shù)量； Ephot 為入射光子能量 ； Eion為 Ar 原子的電離能量； gas gain 是氣體的放大倍數(shù)，與探測(cè)器高壓有關(guān)。 4. 探測(cè)器工作原理 以光電效應(yīng)為基礎(chǔ)， 把 X射線(xiàn)光子轉(zhuǎn)換成可測(cè)量的電壓脈沖 .以達(dá)到檢測(cè) X射線(xiàn)光子的目的 . 1. 探測(cè)器不僅能將光子轉(zhuǎn)變成可以測(cè)量的脈沖，而且具有區(qū)分光子能 量大小的正比特性； 2. 常用的探測(cè)器有 :閃爍計(jì)數(shù)器、封閉型正比計(jì)數(shù)器和流氣式正比計(jì)數(shù)器。編碼光盤(pán)共 720條刻痕，每?jī)? 條表示 ,為避免痕距偏差，以一組 22條刻痕的像經(jīng)透鏡投射道光電二極管，收集 頻率為 。 提高掃描速度和角度定位精度 DOPS定位原理 編碼光盤(pán)與軸直接固定 22條光柵刻線(xiàn)的像投影到光敏二極管上 ,產(chǎn)生一個(gè)信號(hào) 。 AXioS 儀器 的準(zhǔn)直器系統(tǒng) 粗 高強(qiáng)度 低分辨率 中 分辨率及強(qiáng)度一般 細(xì) 高分辨 低強(qiáng)度 準(zhǔn)直器 /狹縫 應(yīng)用范圍 準(zhǔn)直器 100/150 mm 300 mm 700 mm L spectra U Pb U Ru Mo Fe K spectra Te As Te K Cl O 準(zhǔn)直器 150 mm 550 mm 4000 mm L spectra U Ru Mo Fe K spectra Te K Cl F O Be 濾光片的用途 1. 消除光管靶材的特征線(xiàn)干擾； 2. 微量分析時(shí)可提高峰 /背比， 獲得
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