【正文】 行快速而非破壞性的膜厚檢查。（5）應(yīng)用范圍原則上所有導(dǎo)電體上的非導(dǎo)電體覆層均可測量。校準(zhǔn)后就可以在被測產(chǎn)品上進(jìn)行快速無損檢測。如覆層含有導(dǎo)電成份，校準(zhǔn)試樣的覆層也應(yīng)與被測物的覆層有相同的導(dǎo)電性能。； ④ ，一節(jié)9V電池可連續(xù)使用2～3個(gè)月；⑤ 外形尺寸163mm93mm36mm； 重量350g。（3）主要技術(shù)參數(shù)① ； ② 量程0～100μm； ③ 精度177。③數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì) 自動將測量數(shù)據(jù)分組統(tǒng)計(jì)，輸出5個(gè)統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)， 即：平均值、最大值、最小值、標(biāo)準(zhǔn)偏差及測量次數(shù)。（2） 特點(diǎn)①自動校準(zhǔn) 測量前先校正零點(diǎn)，僅按校正鍵即可自動校準(zhǔn)，關(guān)機(jī)后校準(zhǔn)數(shù)據(jù)自動存儲，重新開機(jī)后可直接測量。非磁性測頭一般采用高頻高導(dǎo)磁材料做線圈鐵芯，常用鉑鎳合金及其它新材料制作。渦流測厚儀（1） 測量原理電渦流測厚法主要應(yīng)用于金屬基體上各種非金屬涂鍍層無損傷的測量。該儀器的最大特點(diǎn)是具備超高分辨掃描圖像觀察能力，尤其是采用最新數(shù)字化圖像處理技術(shù)，提供高倍數(shù)、高分辨掃描圖像，并能即時(shí)打印或存盤輸出，是納米材料粒徑測試和形貌觀察最有效儀器。（3） 儀器功能及指標(biāo)① 二次電子分辨率： 1nm；② 背散射電子分辨率：3nm； ③ 最大放大倍數(shù)：650000； ④ 能譜分辨率：133eV； ⑤ 可分析元素： 5(B)－92 (U)；（4） 主要應(yīng)用領(lǐng)域場發(fā)射掃描電子顯微鏡，廣泛用于生物學(xué)、醫(yī)學(xué)、金屬材料、高分子材料、化工原料、地質(zhì)礦物、商品檢驗(yàn)、產(chǎn)品生產(chǎn)質(zhì)量控制、寶石鑒定、考古和文物鑒定及公安刑偵物證分析。掃描電子顯微鏡的放大倍數(shù)范圍很寬（從5到20萬倍連續(xù)可調(diào)），且一次聚焦好后即可從高倍到低倍、從低倍到高倍連續(xù)觀察，不用重新聚焦。由于圖象景深大，故所得掃描電子象富有立體感，具有三維形態(tài)，能夠提供比其他顯微鏡多得多的信息。掃描電子顯微鏡的另一個(gè)重要特點(diǎn)是景深大，圖象富立體感。場發(fā)射掃描電子顯微鏡的主要特點(diǎn)是可觀察試樣的各個(gè)區(qū)域的細(xì)節(jié)，試樣在樣品室中可動的范圍非常大：工作距離大（可大于20mm），焦深大（比透射電子顯微鏡大10倍），樣品室的空間也大。聚焦電子束與試樣相互作用，產(chǎn)生二次電子發(fā)射（以及其它物理信號），二次電子發(fā)射量隨試樣表面形貌而變化。其中二次電子是最主要的成像信號。圖23 JEM6700F場發(fā)射掃描電子顯微鏡（1） 工作原理 用聚焦電子束在試樣表面逐點(diǎn)掃描成像。 檢測設(shè)備及檢測分析原理場發(fā)射掃描電子顯微鏡觀察微弧氧化鋁板表面陶瓷層的微觀形貌使用的儀器是本?，F(xiàn)代分析測試中心的JEM6700F場發(fā)射掃描電子顯微鏡如圖24。其方式可采用懸掛或以上述材料制作的電解槽作為陰極。試驗(yàn)陽極為工件，陰極材料采用不溶性金屬材料。在能量輸出上，新型電源采用的直流輸出，恒流控制的輸出模式。電源要設(shè)置恒電壓和恒電流控制裝置，輸出波形視工藝條件可為直流、方波、鋸齒波等波形。 微弧氧化設(shè)備簡介微弧氧化裝置簡圖如圖23，其中主要部分為脈沖電源和微弧氧化槽兩大部分。 試樣制備在本課題中先將鎂合金板材用剪板機(jī)剪成成所需尺寸的試樣, 的圓孔，以便微弧氧化時(shí)與電極連接,在將試樣用400砂紙去掉邊緣毛刺，氧化膜，打磨掉棱角以便減少尖端放弧現(xiàn)象。 實(shí)驗(yàn)試樣及制備方法試樣材料實(shí)驗(yàn)材料為AZ91鎂合金，其化學(xué)成分(％(質(zhì)量分?jǐn)?shù)))為：表21鎂合金化學(xué)成分成分MgAlMnZn含量余量圖21 試樣形狀示意圖試樣尺寸本課題中，考慮到盡可能大的處理面積以排除計(jì)算能量消耗率時(shí)的系統(tǒng)誤差，故試驗(yàn)究中采用鋁板試樣的尺寸為50mm50mm3mm。在相同的實(shí)驗(yàn)參數(shù)條件下進(jìn)行微弧氧化，控制氧化時(shí)間，觀察不同時(shí)間長度下陶瓷膜層的區(qū)別。一直紀(jì)錄到起弧后的5分鐘。在此參數(shù)下進(jìn)行微弧氧化，并記錄電壓隨時(shí)間的變化。 實(shí)驗(yàn)方法及步驟準(zhǔn)備試樣（AZ31鎂合金,試樣大小50mm50mm3mm）。脈數(shù)對陶瓷層的影響規(guī)律，首先選取脈寬與單位面積峰值電流密度為固定值，改變脈數(shù)進(jìn)行微弧氧化處理，觀察其對陶瓷層的影響。第二章 實(shí)驗(yàn)方法以及設(shè)備儀器 本課題研究的主要內(nèi)容本課題從改變參數(shù)出發(fā)，分別研究了脈寬、脈數(shù)及電流密度對陶瓷層的厚度、表面形貌及能量損耗的影響。電量消耗占鎂合金微弧氧化處理成本的80%以上、且因當(dāng)前消耗水平偏高而嚴(yán)重制約此性能優(yōu)異環(huán)境友好的鎂合金表面處理技術(shù)的應(yīng)用推廣這一關(guān)鍵問題，陶瓷層生長增厚期間金屬鎂原子向氧化鎂陶瓷相轉(zhuǎn)化過程中全部脈沖所承載的集合電量Q( )構(gòu)成微弧氧化處理的主要成本，而這種電量消耗的當(dāng)前水平又遠(yuǎn)高于鎂合金制品行業(yè)所能承受的表面處理成本。鎂合金的微弧氧化即為置于有脈沖電場作用的氧化槽中的鎂合金樣品在微弧放電瞬間，其表面的鎂原子向氧化鎂陶瓷相轉(zhuǎn)化的一個(gè)過程，理論上屬于僅消耗電解液中氧元素的輕合金表面陶瓷化技術(shù)，因此，有“既不消耗陰極又不消耗電解液中溶質(zhì)元素的清潔處理技術(shù)”之稱；然而，目前眾多的研究工作多集中于微弧氧化陶瓷層的物相結(jié)構(gòu)和性能特點(diǎn)的分析與表征，缺少對鎂合金微弧氧化陶瓷層形成與生長的電量消耗機(jī)制和降低電量消耗途徑的理論探討，導(dǎo)致陶瓷層形成與生長過程中的電量消耗遠(yuǎn)高于鎂合金制品所能承受的表面處理成本，嚴(yán)重制約這一技術(shù)的推廣應(yīng)用。微弧氧化技術(shù)生成陶瓷膜的特點(diǎn)決定了其特別適合于對高速運(yùn)動且耐磨、耐蝕性能要求高的部件處理，解決了成本問題，研究工作必將取得突破性進(jìn)展。為了提高材料的綜合性能，人們常常采用表面改性的方法，等離子體微弧氧化技術(shù)便應(yīng)運(yùn)而生。表11 微弧氧化膜層應(yīng)用領(lǐng)域應(yīng)用領(lǐng)域舉例所用性能航空、航天、機(jī)械、汽車軸、氣動元件、發(fā)動機(jī)耐磨性石油、化工、造船、醫(yī)療管道、閥門、Ti合金人工關(guān)節(jié)耐蝕性耐磨性紡織機(jī)械紡杯、壓掌、滾筒耐磨性電器電容器線圈絕緣性兵器、汽車貯藥倉、噴嘴耐熱性建材、日用品裝飾材料、電熨斗、水龍頭耐磨、耐蝕、色彩海洋艦艇耐蝕性醫(yī)療欽合金牙托、骨組織內(nèi)強(qiáng)化絲生物相容性 綜上所述，微弧氧化技術(shù)對合金表面性能有明顯改善，該技術(shù)己引起國內(nèi)外材料研究者的密切關(guān)注，是當(dāng)前及今后一段時(shí)間內(nèi)表面處理領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)，并且微弧氧化膜層以其優(yōu)異性能必將在民用領(lǐng)域獲得廣泛應(yīng)用。此外，在軍工、航空航天、機(jī)械制造業(yè)、紡織工業(yè)、民用品生產(chǎn)等許多領(lǐng)域，微弧氧化技術(shù)都有廣泛的應(yīng)用前景。 微弧氧化技術(shù)具有工藝簡單，效率高，環(huán)保等其他表面處理技術(shù)不可比擬的技術(shù)優(yōu)勢，通過這種技術(shù)在合金表面生成的陶瓷曾具有獨(dú)特的優(yōu)異性能。從國內(nèi)各研究單位發(fā)表的文章來看，對微弧氧化的研究大多集中在鑄鋁及硬鋁合金上，對鎂合金的微弧氧化則研究較少。 我國從20世紀(jì)90年代開始關(guān)注此技術(shù)，目前仍處于起步階段，在引進(jìn)吸收俄羅斯技術(shù)的基礎(chǔ)上，現(xiàn)在也開始由耐磨、裝飾性涂層的形式走向?qū)嵱秒A段。但無論國外還是國內(nèi)，都沒有進(jìn)入大規(guī)模的工業(yè)應(yīng)用階段。目前，在世界范圍內(nèi)，各研究單位各具特色，總體上國外研究水平高于國內(nèi)。工藝控制方面，有恒電壓微弧氧化法和恒電流微弧氧化法兩類，一般采用恒電流法，因?yàn)榇朔ㄊr(shí)且易于控制。相同的微弧電解電壓下，電解質(zhì)濃度越大，成膜速度就越快，溶液溫度上升越慢，反之，成膜速度較慢，溶液溫度上升較快。但目前多采用含有一定金屬或非金屬氧化物堿性鹽溶液(如硅酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等)，并通過添加無機(jī)及有機(jī)添加劑改變微弧氧化膜層的成分，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)膜層性能的可設(shè)計(jì)性。 從電解液選擇上看，電解液是獲到合格膜層的技術(shù)關(guān)鍵。所研究的鎂合金主要有:純鎂、AZ9AZ3AM60、SiCw/AZ91。在鈦合金基體上進(jìn)行微弧氧化處理主要是為了制備具有催化、生物活性等功能的膜層，基體合金成分主要是Ti6Al4V，也有報(bào)道用純鈦?zhàn)鳛榛w。 從基體合金上看，研究主要集中在鋁、鈦、鎂合金上。 微弧氧化是陽極氧化技術(shù)的發(fā)展，其實(shí)質(zhì)仍是較