xps儀器及基礎(chǔ)分析講義-文庫(kù)吧資料
2025-05-22 22:44本頁(yè)面
【正文】 ,表面電子態(tài) AES 有一定破壞 固 .液 .氣 表面化學(xué)組成及定量 H, He 。 Surface Carbonate on Ni(100) Surface Carbonate Deposition on Ni(100) 合金材料表面薄膜的深度剖析 ? 合金材料，由于它的應(yīng)用既廣泛又重要，因此其表面薄膜的深度剖析研究特別引人重視．近幾年來(lái)。 XPS的應(yīng)用 ?結(jié)構(gòu)分析 有機(jī)結(jié)構(gòu)分析 表面分析 生物大分子結(jié)構(gòu)分析 高分子結(jié)構(gòu)分析 催化劑表面分析 環(huán)境污染物結(jié)構(gòu)分析 ?定性分析 元素組成與化學(xué)狀態(tài)的鑒定方法 伴峰的鑒別 混合物分析 應(yīng)用簡(jiǎn)介 ?XPS電子能譜曲線的橫坐標(biāo)是電子結(jié)合能，縱坐標(biāo)是光電子的測(cè)量強(qiáng)度（如下圖所示）。 ?當(dāng)元素處于化合物狀態(tài)時(shí)，與純?cè)叵啾龋娮拥慕Y(jié)合能有一些小的變化，稱為化學(xué)位移，表現(xiàn)在電子能譜曲線上就是譜峰發(fā)生少量平移。 應(yīng)用簡(jiǎn)介 ?XPS是當(dāng)代譜學(xué)領(lǐng)域中最活躍的分支之一，雖然只有十幾年的歷史，但其發(fā)展速度很快，在電子工業(yè)、化學(xué)化工、能源、冶金、生物醫(yī)學(xué)和環(huán)境中得到了廣泛應(yīng)用。 化學(xué)位移效應(yīng) ?需指出的是，除了由于原子周圍的化學(xué)環(huán)境的改變引起光電子峰位移外，樣品的荷電效應(yīng)同樣會(huì)影響譜峰位移，從而影響電子結(jié)合能的正確測(cè)量。在氧化狀態(tài)，化學(xué)位移的量級(jí)通常是每單位電荷移動(dòng) 1eV。同樣地，在無(wú)機(jī)化合物中不同電負(fù)性基團(tuán)的置換作用也能引起化學(xué)位移的細(xì)微變化，而且可用來(lái)研究表面物質(zhì)電子環(huán)境的詳細(xì)情況。由此可從被測(cè)原子內(nèi)層電子結(jié)合能變化來(lái)了解其價(jià)態(tài)變化和所處化學(xué)環(huán)境。當(dāng)外層電子密度減少時(shí)，屏蔽作用將減弱，內(nèi)層電子的結(jié)合能增加；反之則結(jié)合能將減少。 化學(xué)位移效應(yīng) ?化學(xué)位移現(xiàn)象可以用原子的靜電模型來(lái)解釋。化學(xué)結(jié)構(gòu)的變化和原子價(jià)態(tài)的變化都可以引起譜峰有規(guī)律的位移。 ?X射線束比較柔和的特點(diǎn)使我們有可能在中等真空皮下對(duì)表面觀察苦干小時(shí)，特別是當(dāng)真空成分有利時(shí)，例如使用離子泵或其它“干抽”時(shí)就是這種情況，當(dāng)然，原子尺度上清潔的金屬表面在 10－ 9到 10－ 10托以上的真空度下不能保持很長(zhǎng)時(shí)間，這也是事實(shí)，然而，大量的表面分析工作并不是在原子尺度清桔的表面上進(jìn)行的，因此，化學(xué)分析光電子能譜不需要超高真空。 ? 化學(xué)分析光電子能譜的一個(gè)重要特點(diǎn)是它能在不太高的真空度下進(jìn)行表面分析研究，這是所有其它方法都做不到的。由于在俄歇電子能譜中探測(cè)深度也是由電子的平均自由程所控制，所以這兩種方法所研究的樣品深度實(shí)際上是一樣的。聚合物的表
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