xps儀器及基礎(chǔ)分析講義(完整版)
【正文】 ?實(shí)驗(yàn)時(shí)必須注意并設(shè)法進(jìn)行校正。國(guó)內(nèi)在這方面已有相當(dāng)數(shù)量的研究工作，如 Cu— Be合金， Ni－ W— Mg和 Ni—Mg合金， CrNi— Mn合金， Ni— Cr合金， Nb— NiFe和Mn— Cr— Ni－ Fe合金， A1— Ga— B3合金。測(cè)量化學(xué)位移，可以了解原子的狀態(tài)和化學(xué)鍵的情況。 ?對(duì)大多數(shù)的金屬，其氧化時(shí)會(huì)出現(xiàn)向高結(jié)合能方向的位移。 ?化學(xué)位移在 XPS中是一種很有用的信息，通過(guò)對(duì)化學(xué)位移的研究，可以了解原子的狀態(tài)，可能處于的化學(xué)環(huán)境以及分子結(jié)構(gòu)等。 ? 在化學(xué)分橋光電子能譜中，探測(cè)深度是由樣品中電子的平均自由程 (MFP)決定的。為某一特殊應(yīng)用選擇實(shí)驗(yàn)方法時(shí)，總?？紤]由它們組合起來(lái)的一些折衷方案。雖然右些系統(tǒng)臺(tái)產(chǎn)生一定的光分佩但這種現(xiàn)象是相當(dāng)罕見(jiàn)的，而且不會(huì)妨礙取得有用的數(shù)據(jù)。 ?電子檢測(cè)系統(tǒng)及基于 PC機(jī)或工作站的服務(wù)性數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)，兩者同時(shí)控制譜儀操作并提供處理數(shù)據(jù)的手段 。 X射線比較柔和的特性使我們有可能在中等真空程度下對(duì)表面觀察若干小時(shí)而不會(huì)影響測(cè)試結(jié)果。 ?XPS在實(shí)驗(yàn)時(shí)樣品表面受 輻射損傷小 ，能檢測(cè)周期表中除 H和 He以外所有的元素，并具有很高的絕對(duì)靈敏度。因此， XPS是目前表面分析中使用最廣的譜儀之一。 ?此外， 化學(xué)位移效應(yīng) 也是 XPS法不同于其它方法的另一特點(diǎn)，即采用直觀的化學(xué)認(rèn)識(shí)即可解釋 XPS中的化學(xué)位移，相比之下，在AES中解釋起來(lái)就困難的多。 儀器組成 ?圖 14畫(huà)出了 X射線光電子能譜儀的基本組成部分。 ? 化學(xué)分析光電子能譜得到的信號(hào)源于樣品表面本身。 ?能夠從塑料和有機(jī)物表面獲得詳細(xì)的化學(xué)信息是化學(xué)分析光電子能譜法的突出特點(diǎn)。由于在俄歇電子能譜中探測(cè)深度也是由電子的平均自由程所控制，所以這兩種方法所研究的樣品深度實(shí)際上是一樣的。 化學(xué)位移效應(yīng) ?化學(xué)位移現(xiàn)象可以用原子的靜電模型來(lái)解釋。在氧化狀態(tài)，化學(xué)位移的量級(jí)通常是每單位電荷移動(dòng) 1eV。 XPS的應(yīng)用 ?結(jié)構(gòu)分析 有機(jī)結(jié)構(gòu)分析 表面分析 生物大分子結(jié)構(gòu)分析 高分子結(jié)構(gòu)分析 催化劑表面分析 環(huán)境污染物結(jié)構(gòu)分析 ?定性分析 元素組成與化學(xué)狀態(tài)的鑒定方法 伴峰的鑒別 混合物分析 應(yīng)用簡(jiǎn)介 ?XPS電子能譜曲線的橫坐標(biāo)是電子結(jié)合能，縱坐標(biāo)是光電子的測(cè)量強(qiáng)度（如下圖所示）。 Surface Carbonate on Ni(100) Surface Carbonate Deposition on Ni(100)
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