pcb干膜制程工藝培訓(參考版)
2025-01-03 06:19本頁面
【正文】 退膜PLUSCO COMPANY實踐中常見問題的解決PLUSCO COMPANY實踐中常見問題的解決u 大多數(shù)的缺陷主要與清潔度和控制不當有關，例如： 曝光機上或底片上的臟物、雜質 板邊的纖維絲、膜碎等雜質 顯影槽中和傳送輪上的膜碎及殘膠物 膜層的擦傷 不當?shù)牟僮鞣绞健⒉豁槙车膫魉洼喌鹊取?線路圖形的密集程度，細線路 /小間距也會很大程度上增加所需的退膜時間。5038干膜的工藝運用與控制顯影PLUSCO COMPANY5038干膜的工藝運用與控制u作用：將作為抗蝕刻層或抗電鍍層的干膜除去除去，從而使線路銅面顯露出來。定期對設備溫度與速度進行校正。傳送輪尤其是擠水輥應每周至少徹底清傳送輪尤其是擠水輥應每周至少徹底清潔一次。每周應至少拆卸檢查并清冼噴嘴一次。5038干膜的工藝運用與控制顯影PLUSCO COMPANYu顯影的維護保養(yǎng)要求：顯影的維護保養(yǎng)要求：顯影槽和第一水洗槽應每周進行一次酸顯影槽和第一水洗槽應每周進行一次酸堿洗。u板面過多的水跡易造成銅面氧化嚴重，從而板面過多的水跡易造成銅面氧化嚴重，從而造成電鍍不均勻。5038干膜的工藝運用與控制顯影PLUSCO COMPANYu烘干的控制：烘干的控制： 顯影出來的板子應被吹干，否則，未顯影出來的板子應被吹干，否則，未吹干的板子易出現(xiàn)：吹干的板子易出現(xiàn)：u線邊的殘余水會繼續(xù)溶解干膜，因而造成線線邊的殘余水會繼續(xù)溶解干膜，因而造成線路鋸齒。一般使用一般使用 510 um的的 PP濾芯。過濾的利用可以明顯地改善細線路的合過濾的利用可以明顯地改善細線路的合格率。5038干膜的工藝運用與控制顯影PLUSCO COMPANYu顯影液和水洗的過濾：顯影液和水洗的過濾：過濾掉溶液中的膜碎、粘性物或其它雜過濾掉溶液中的膜碎、粘性物或其它雜質。水洗缸應每班更換一次。長度。控制噴淋圖形和噴淋壓力。定期維護清潔設備，防止殘渣積聚在噴淋管或噴嘴。調節(jié)閥門應能調節(jié)噴淋壓力與流量。 P ?COO + K+/Na+ ? K or Na salt(P = Polymer)羧酸基離子、鈉或鉀離子均完全溶于水。 CO32 + H2O ? HCO3 + OH曝光PLUSCO COMPANY5038干膜的工藝運用與控制u潔凈度的控制 潔凈房的清潔程序 潔凈房的潔凈度要求： 10K 級 潔凈房的溫度要求： 20 24 ℃ 潔凈房的濕度要求： 40 60 % RH (環(huán)境的控制、無塵服的著裝，等等 ) 局部的清潔程序 (曝光框架上、對位臺上的灰塵、膜碎、或其它雜質的 清潔 ) 基板的清潔程序 避免手印、油脂物等的污染曝光PLUSCO COMPANY5038干膜的工藝運用與控制u作用： 將未受光聚合部分之干膜溶解沖洗掉，從而使線路圖形顯現(xiàn)出來。底片的清潔狀況 l 底片在使用前應作徹底檢查及清潔。底片的設計u板四周邊框不應被曝光，避免產(chǎn)生膜碎。曝光PLUSCO COMPANY5038干膜的工藝運用與控制u底片的控制線路的質量u線寬 /間距u開路、缺口、針孔u短路、突出、虛光光密度l D. Max ? l D. Min ? l 重氮片使用 600次后其光密度會出現(xiàn)明顯衰減。 u 曝光能量和曝光級數(shù)的測量均需通過工作底片的透光區(qū)。 聚合鏈 (紅色與藍色 )COOHCOOHCOOHCOOHCOOHCOOH 粘結劑聚合物 (黑色 )和反應單體 (紅色 ) 曝光前簡單的干膜結構示意圖PLUSCO COMPANY5038干膜的工藝運用與控制u工作參數(shù)： 曝光能量： 3575 mj/cm2 曝光級數(shù)： Cu9 Cu11 (Stouffer 21 Step)， 應每 4 hrs檢查一次。 粘結劑聚合物 (黑色 )曝光PLUSCO COMPANY5038干膜的工藝運用與控制u 光化學反應過程 光啟始劑吸收 ； 自由基與反應單體產(chǎn)生聚合作用； 反應單體間不斷產(chǎn)生聚合作用； 自由基消耗完后或因反應單體 /聚合物的比例而使反應停止。的膜碎。 貼膜PLUSCO COMPANY5038干膜的工藝運用與控制u壓轆溫度太高 壓膜折皺、起泡 掩孔能力變弱 產(chǎn)生熱聚作用貼膜u 壓轆溫度太低壓轆溫度太低 附著力變差附著力變差 填覆性變差填覆性變差 線路鋸齒線路鋸齒 滲鍍滲鍍PLUSCO COMPANY5038干膜的工藝運用與控制u壓力根據(jù)所用設備類型而定u手動貼膜機： 30 60 psi
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