干膜光致抗蝕劑的技術(shù)條件(參考版)
2024-09-02 20:54本頁面
【正文】 當(dāng)使用于膜作為掩孔蝕刻時，要求干膜具有足夠的柔韌性，以能夠承受顯影過程、蝕刻過 程液體壓力的沖擊而不破裂，這就是干膜的掩蔽性能。在儲存和運輸過程中應(yīng)避免受潮、受熱、受機械損傷和受日光直接照射。儲存條件為：黃光區(qū)，溫度低于27℃(5—21℃ 為最佳)，相對濕度50％左右。 因此在良好的環(huán)境里儲存干膜是十分重要的?！?儲存期 干膜在儲存過程中可能由于溶劑的揮發(fā)而變脆，也可能由于環(huán)境溫度的影響而產(chǎn)生熱聚去膜形式最好是呈片狀剝離，剝離下來的碎片通過過濾網(wǎng)除去，這樣既有利于去膜溶液的 使用壽命，也可以減少對噴咀的堵塞。在酸性光亮鍍銅、氟硼酸鹽普通錫鉛合金、氟硼酸鹽光亮鍍錫鉛合金以及上述電鍍的各種 鍍前處理溶液中，聚合后的于膜抗蝕層應(yīng)無表面發(fā)毛、滲鍍、起翹和脫落現(xiàn)象。 ◎ 耐蝕刻性和耐電鍍性 技術(shù)要求規(guī)定，光聚合后的干膜抗蝕層，應(yīng)能耐三氯化鐵蝕刻液、過硫酸銨蝕刻液、酸性氯 化銅蝕刻液、硫酸——過氧化氫蝕刻液的蝕刻。光線透 過照相底版和聚酯薄膜對干膜曝光時，由于聚酯薄膜對光線的散射作用，使光線側(cè)射，因而降 低了干膜的分辨率，聚酯薄膜越厚，光線側(cè)射越嚴(yán)重，分辨率越低。干膜的分辨率與抗蝕劑膜厚及聚酯薄膜厚度有關(guān)。240177。 對干膜的顯影性和耐顯影性技術(shù)要求如表7—4。干膜的耐顯影性不良， 在過度顯影時，會產(chǎn)生干膜脫落和電鍍滲鍍等毛病。干膜的顯影性與耐顯影性直接影響生產(chǎn)印制板的質(zhì)量。曝光后留在板面上的抗蝕層應(yīng)光滑，堅實。在使用5Kw高壓汞燈，燈距650mm，曝光表面溫度25土5℃的條件下，干膜的感光性應(yīng) 符合如表7—3要求：表73干膜的感光性此系數(shù)的測量方法是將 干膜貼在透明的有機玻璃板上，采用透射密度計測量光密度，測試比較復(fù)雜，且干膜貼在有機 玻璃板上與貼在覆銅箔板上的情況也有所不同。因此深度曝光性的好壞是衡量干膜質(zhì)量 的一項重要指標(biāo)。若抗蝕層
化學(xué)相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號-1