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化工廢水處理方法詳解(參考版)

2025-08-08 03:34本頁面
  

【正文】 。磁分離器可分為永磁分離器和電磁分離器兩類,每類又有間歇式和連續(xù)式之分。 廢水高梯度磁分離處理法是廢水物理處理法之一種。 具有鐵磁性或順磁性的污染物,在磁場作用下由于磁力作用凝聚成表面凝聚直徑增大的粒子而后除去。 磁分離技術(shù)應(yīng)用于廢水處理有三種方法:直接磁分離法、間接磁分離法和微生物—磁分離法??栈毺氐奈锢砘瘜W環(huán)境開辟了新的化學反應(yīng)途徑,驟增化學反應(yīng)速度,對有機物有很強的降解能力,經(jīng)過持續(xù)超聲可以將有害有機物降解為無機離子、水、二氧化碳或有機酸等無毒或低毒的物質(zhì)。超聲空化泡的崩潰所產(chǎn)生的高能量足以斷裂化學鍵。 : 是通過控制超聲波的頻率和飽和氣體,降解分離有機物質(zhì)。均相光催化降解主要以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質(zhì),通過光助芬頓(photo-Fenton)反應(yīng)使污染物得到降解,此類反應(yīng)能直接利用可見光; 多相光催化降解就是在污染體系中投加一定量的光敏半導體材料,同時結(jié)合一定能量的光輻射,使光敏半導體在光的照射下激發(fā)產(chǎn)生電子空穴對,吸附在半導體上的溶解氧、水分子等與電子空穴作用,產(chǎn)生?OH等氧化性極強的自由基,再通過與污染物之間的羥基加合、取代、電子轉(zhuǎn)移等使污染物全部或接近全部礦質(zhì)化,最終生成COH2O及其它離子如NO3-、PO43-、S04Cl-等。 80年代初,開始研究光化學應(yīng)用于環(huán)境保護,其中光化學降解治理污染尤受重視,包括無催化劑和有催化劑的光化學降解。光化學反應(yīng)的活化能來源于光子的能量。 所謂光化學反應(yīng),就是只有在光的作用下才能進行的化學反應(yīng)。所用光主要為紫外光,包括uvH2OuvO2等工藝,可以用于處理污水中CHClCCl多氯聯(lián)苯等難降解物質(zhì)。這三種物理方法工藝簡單,管理方便,但不能適用于可溶性廢水成分的去除,具有很大的局限性。 : 化工污水常用的物理法包括過濾法、重力沉淀法和氣浮法等。實際上,為了強化陽極的氧化作用,減少電解槽的內(nèi)阻,往往在廢水電解槽中加一些氯化鈉,進行所謂的電氯化,NaCl投加后在陽極可生成氯和次氯酸根,對水中的無機物和有機物也有較強的氧化作用??諝庋趸蚱溲趸芰θ?,主要用于含還原性較強物質(zhì)的廢水處理,Cl是普通使用的氧化劑,主要用在含酚、含氰等有機廢水的處理上,用臭氧處理廢水,氧化能力強,無二次污染。 廢水經(jīng)過化學氧化還原,可使廢水中所含的有機和無機的有毒物質(zhì)轉(zhuǎn)變成無毒或毒性較小的物質(zhì),從而達到廢水凈化的目的。 混凝法不但可以去除廢水中的粒徑為1O~10mm的細小懸浮顆粒,而且還能去除色度,微生物以及有機物等。主要有化學混凝法、化學氧化法、電化學氧化法等。 MBR緊湊簡潔單元結(jié)構(gòu)特別適合于處理成份復(fù)雜、污染物濃度高的印染廢水。 膜生物反應(yīng)器工藝(MBR工藝)是膜分離技術(shù)與生物技術(shù)有機結(jié)合的新型廢水處理技術(shù)。合成樹脂類污水;含氰污水;含氟污水;含蒽污水;焦化污水和電鍍污水等。在對農(nóng)藥廢水、化工廢水、制藥
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