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正文內(nèi)容

華東交通大學(xué)本科畢業(yè)設(shè)計模版(參考版)

2025-06-19 04:41本頁面
  

【正文】 內(nèi)容:宋體,5號,兩邊對齊。電子文獻載體類型標(biāo)志:磁帶 MT;磁盤 DK;光盤 CD;聯(lián)機網(wǎng)絡(luò) OL。…………第二章 氮化物MOCVD生長系統(tǒng)和生長工藝 MOCVD材料生長機理…………轉(zhuǎn)換控制 頻率信 號 源 頻率控 制 器地址發(fā)生 器波形存儲 器D/A轉(zhuǎn)換器濾波器 頻率設(shè)置波形數(shù)據(jù)設(shè)置圖21 DDS方式AWG的工作流程…………標(biāo)題:中文宋體,4號,居中;英文Times New Roman,4號,居中。104~180。180。10470059GaN/Al2O3光致發(fā)光180。10499661GaN/Al2O3光致發(fā)光190。1.2 III族氮化物的基本結(jié)構(gòu)和性質(zhì) …………表11 用不同技術(shù)得到的帶隙溫度系數(shù)、Eg0、ac和T0的值樣品類型實驗方法帶隙溫度系數(shù)dEg/dT(eV/K)T=300KEg0(eV)ac (eV/K)T0 (K)參考文獻GaN/Al2O3光致發(fā)光180。III-Ⅴ族氮化物半導(dǎo)體材料已引起了國內(nèi)外眾多研究者的興趣。III-Ⅴ族氮化物半導(dǎo)體材料及器件研究歷時30余年,前20年進展緩慢,后10年發(fā)展迅猛。以Si為代表的第一代半導(dǎo)體誕生于20世紀(jì)40年代末,它們促成了晶體管、集成電路和計算機的發(fā)明。章標(biāo)題:中文宋體,英文Times New Roman,四號居中 在科學(xué)技術(shù)的發(fā)展進程中,材料永遠扮演著重要角色?!疚牡玫搅藝?63計劃、國家自然科學(xué)基金以及教育部發(fā)光材料與器件工程研究中心項目的資助。并獲得了如下有創(chuàng)新和有意義的研究結(jié)果:1.首次提出了采用偏離化學(xué)計量比的緩沖層在大晶格失配的襯底上生長單晶膜的思想,并在GaN外延生長上得以實現(xiàn)。本文在自制常壓MOCVD和英國進口MOCVD系統(tǒng)上對III-Ⅴ族氮化物的生長機理進行了研究,對材料的性能進行了表征。盡管如此,這項高技術(shù)仍處于高度保密狀態(tài),材料生長的關(guān)鍵思想及核心技術(shù)仍未公開,還無法從參考文獻及專利公報中獲取最重要的材料生長信息。 華東交通大學(xué)畢業(yè)設(shè)計(論文)答辯記錄姓名學(xué)號畢業(yè)屆別專業(yè)題目答辯時間答辯組成員(簽字):答辯記錄: 記錄人(簽字): 年 月 日 答辯小組組長(簽字):年 月 日附注:146 / 15中文摘要:獨占一頁;論文題目用小2號黑體字、居中頁眉:中文宋體,小五號,居中IIIⅤ族氮化物及其高亮度藍光宋體,5號,對齊居中LED外延片的MOCVD生長和性質(zhì)研究摘要用3號黑體字、居中專 業(yè):
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