斷層解剖學課件1斷層頭部(參考版)
2025-05-29 12:07本頁面
【正文】 包括尾狀核、豆狀核（殼核和蒼白球）、屏狀核及杏仁核簇；尾狀核與殼核合稱新紋狀體，蒼白球為舊紋狀體 胼胝體 連接兩側大腦半球的巨大白質聯(lián)合，構成側腦室體部和額角的頂 ? 由前向后分為四部分：前下細薄的嘴部、前面彎曲的膝部、較長且平直的體部和后端膨大的壓部。 頂枕溝 外側溝 三、大腦半球底面的溝和回 嗅球、嗅束、嗅三角、前穿質、直回、眶回。 分隔頂葉 (楔前葉 )和枕葉 (楔葉 )。 1 額骨 2 額上回 3 胼胝體膝 4 側腦室前角 5尾狀核頭 6 背側丘腦 7 側腦室后角 8 胼胝體壓部 9 枕額肌枕腹10 上矢狀竇 11 下矢狀竇 12 側腦室中央部 13 顳肌 14 穹隆連合 1． 頂枕溝 ：端腦中部橫斷面上，胼胝體后鉗后方最深的腦溝，從大腦半球內側面斜向外。 （ 1）大部分（ 87%）中央溝為一不被中斷的溝； （ 2）中央溝較深，均自腦斷面外緣約中份處向后延伸，并可有一條（中央后溝）或兩條（中央前、后溝）與之伴行； 腦的溝回在斷面上的識別 （ 3）一般中央前回厚于中央后回； （ 4）先通過位于大腦半球內側面的扣帶溝緣支辨認出中央旁小葉，再進一步辨認中央溝； （ 5）大腦白質的髓型有助于辨認中央溝。 端腦的主體結構 大腦皮質 髓質 基底核 側腦室 第二節(jié) 大腦溝、回 的應用解剖 大腦縱裂 外側溝 中央溝 頂枕溝 恒定的溝 大腦縱裂 頂枕溝 中央溝 外側溝 分葉 額葉 頂葉 顳葉 枕葉島葉 一、大腦半球上外側面的溝和回 額葉 中央前溝 ,額上溝 ,額下溝 。但腦的立體定位術和腦的冠狀斷層解剖學研究多采用經(jīng)AC— PC連線中點所作的垂線為冠狀斷層基線。如腦立體定位手術、 X刀、 γ 刀治療多以此線為準。 3. 眥耳線 (Canthomeatal line, CML) 或 稱眶耳線 （ Orbitomeatal line,OML） 又稱 ACPC線 為前連合后緣中點至后連合前緣中點的連線。 實際工作中，依檢查目的的不同使掃描平面與 CML向上或向下成 020186。 三、頭部斷層解剖常用的基線 外眥與外耳道中點的連線。 177。冠狀斷層標本制作常以該線的垂線為基線。 2. Reid基線 （ Reid’s base line,RBL）： 下眶耳線 ，為眶下緣至外耳道中點的連線。 1. 上眶耳線 (supraobitomeatal line,SML):眶上緣至外耳道中點的連線。 ：頭后方正中處
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