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正文內(nèi)容

電磁輻射與材料結(jié)構(gòu)(參考版)

2025-05-18 22:22本頁(yè)面
  

【正文】 材料科學(xué)與工程學(xué)院 材料研究方法與測(cè)試技術(shù) 晶帶定律的應(yīng)用: ① 由晶面 ( h1k1 l1) 和 ( h2 k2 l2) 求晶帶符號(hào) 根據(jù)晶帶定律建立方程組: h1u+ k1v+ l1w =0 h2u+ k2v+ l2w = 0 解出: ② 由晶向 [u1 v1 w1]和 [u2 v2 w2]求晶面符號(hào) 建立方程組: hu1+ kv1+ lw1 = 0 hu2+ kv2+ lw2 = 0 得: ③ 由同一晶帶的兩個(gè)晶面 ( h1 k1 l1) 和 ( h2 k2 l2) 求此晶帶上另一晶面指數(shù),由: h1u+ k1v+ l1w = 0 h2u+ k2v+ l2w = 0 有: ( h1+ h2) u+( k1+ k2) v+( l1+ l2) w = 0 即: ( h1+ h2)、( k1+ k2)、( l1+ l2) 為此晶帶上一晶面的晶面指數(shù)。 材料科學(xué)與工程學(xué)院 材料研究方法與測(cè)試技術(shù) 正空間 倒空間 圖 2?3 晶帶正空間與倒空間對(duì)應(yīng)關(guān)系圖 材料科學(xué)與工程學(xué)院 材料研究方法與測(cè)試技術(shù) 顯然,同一 [uvw]晶帶中各 (HKL)面對(duì)應(yīng)的倒易 (陣 )點(diǎn) (及相應(yīng)的倒易矢量 ) 位于過(guò)倒易原點(diǎn) O*的一個(gè)倒易(陣點(diǎn) )平面內(nèi).反之,也可以說(shuō)過(guò) O*的每一個(gè)倒易 (陣點(diǎn) ).平面上各倒易點(diǎn) (或倒易矢量 )對(duì)應(yīng)的 (正點(diǎn)陣中的 )各 (HKL)晶面屬于同一晶帶,晶帶軸 [uvw]的方向即為此倒易平面的法線方向,此平面稱為 (uvw)0*零層倒易平面.在倒易點(diǎn)陣中,以 [uvw]為法線方向的一系列相互平行的倒易平面中, (uvw)0*即為其中過(guò)倒易原點(diǎn)的那一個(gè)倒易平面. 材料科學(xué)與工程學(xué)院 材料研究方法與測(cè)試技術(shù) 1 1 12 2 200H u K v L wH u K v L w? ? ??? ? ? ??1 1 1 1 1 12 2 2 2 2 21 2 2 1 1 2 2 1 1 2 2 1: : : :( ) : ( ) : ( )K L L H H Ku v wK L L H H KK L K L L H L H H K H K?? ? ? ? 若已知 [uvw]晶帶中任意兩晶面 (H1KlLl)與 (H2K2L2),則可按晶帶定理求晶帶軸指數(shù).按式 (153).有 (154) 材料科學(xué)與工程學(xué)院 材料研究方法與測(cè)試技術(shù) 晶帶定律的應(yīng)用 在實(shí)際晶體中,立方晶系最為普遍,因此晶帶定理有非常廣泛的應(yīng)用。 材料科學(xué)與工程學(xué)院 材料研究方法與測(cè)試技術(shù) 由于同一 [uvw]晶帶各 (HKL)晶面中法線與晶帶軸垂直 , 也即各 (HKL)面對(duì)應(yīng)的倒易矢量 rHKL*與晶帶軸垂直 ,故有 * * * *( ) ( ) 0u v w H K Lr r u a v b w c H a K b L c? ? ? ? ? ? ? ?0H u K v L w? ? ?(153) 即凡是屬于 [uvw]晶帶的晶面 ,它們的晶面指數(shù)(HKL)都必須符合上式的條件。 晶帶軸的晶向指數(shù)即為該 晶帶的指數(shù) 。 按式 ( 148) ;按矢量點(diǎn)積性質(zhì), 有 HKLr*HKLr*2HKL2HKL1r*d?( ) ( )2H K L H K L H K Lr * r * = r *? ( )H K L H K L2HKL1 r * r *d ??( )故2HKL1 ( * * * ) ( * * * )d H a K b L c H a K b L c? ? ? ? ? ?222HKL1 ( * ) ( * ) ( * ) 2 ( * * ) 2 ( * * ) 2 ( * * )d H a K b L c H K a b H L a c K L b c? ? ? ? ? ? ? ? ?(1 49)?HKLr*材料科學(xué)與工程學(xué)院 材料研究方法與測(cè)試技術(shù) ( 150) (149)為晶面間距的倒易點(diǎn)陣參數(shù)表達(dá)式,適用于各個(gè)晶系.按各晶系倒易點(diǎn)陣參數(shù)與正點(diǎn)陣參數(shù)的關(guān)系進(jìn)行換算,即可得到不同晶系各自的晶面間距與點(diǎn)陣參數(shù)關(guān)系式. 以立方晶系為例,由式 (146),有 代入式( 149),得 * 2 * 2 * 2 * * *21( ) ( ) ( ) , c o s c o s c o s 0abca ? ? ?? ? ? ? ? ?2 2 2221H K LH K Lda???2 2 2H K LadH K L? ??材料科學(xué)與工程學(xué)院 材料研究方法與測(cè)試技術(shù) ( 151) 式 (150)即為立方系晶面間距公式.由此式可知, dHKL2不僅與點(diǎn)陣常數(shù)以 有關(guān),而且反比于晶面干涉指數(shù)平方和.其余晶系之晶面間距公式可據(jù)式 (149)自行推算或查閱資料獲得. (2)晶面夾角公式 由于兩晶面 (H1K1L1)與 (H2K2L2)之夾角 (?)可用兩晶面 法線夾角表示,也即可用兩晶面對(duì)應(yīng)之倒易矢量夾角表示,故有 1 1 1 2 2 21 1 1 2 2 2****c o s H K L H K LH K L H K Lrrrr??? 1 1 1 2 2 2* * * * * *1 1 1 2 2 2**( ) ( )c o sH K L H K LH a K b L c H a K b L crr?? ? ? ? ???1 1 1 2 2 2* 2 * 2 * 2 * *1 2 1 2 1 2 2 1*** * * * * * * * * *2 1 1 2 2 1 1 2 1 21c o s [ ( ) ( ) ( ) ( )( ) ( ) ( ) ( ) ( ) ]H K L H K LH H a K K b L L c H K a brrH L a c H K a b K L c b H L a c K L c b? ? ? ? ? ? ?? ? ? ? ? ? ? ? ?2a材料科學(xué)與工程學(xué)院 材料研究方法與測(cè)試技術(shù) 式 (151)為晶面夾角的倒易點(diǎn)陣參數(shù)表達(dá)式,適用于各個(gè)晶系.根據(jù)各晶系的特點(diǎn)將倒點(diǎn)陣參數(shù)與正點(diǎn)陣參數(shù)換算,即可得到不同晶系各自的晶面夾角與點(diǎn)陣參數(shù)關(guān)系式.仍以立方晶系為例,將式 (146)及 代入式 (151),得 (152) 式 (152)即為立方系晶面夾角公式. 2 2 2* 1H KLH KLH K Lrda????1 2 1 2 1 22 2 2 2 2 21 1 1 2 2 2c o s H H K K L LH K L H K L? ???? ? ? ? ?材料科學(xué)與工程學(xué)院 材料研究方法與測(cè)試技術(shù) 三、晶帶 在晶體結(jié)構(gòu)或空間點(diǎn)陣中, 與某一取向平行的所有晶面均屬于同一個(gè) 晶帶 。 4. 晶面間距與晶面夾角公式 ( 1)晶面間距公式 晶面間距是材料衍射分析等工作中用以表達(dá)晶體結(jié)構(gòu)的重要參數(shù)。也可依據(jù) 與( HKL)的對(duì)應(yīng)關(guān)系,通過(guò)作圖法建立倒易點(diǎn)陣。圖 115為晶面與倒易矢量(倒易點(diǎn))對(duì)應(yīng)關(guān)系示例。 HKL d 0n0 0 1 2 3( ) [ ( * * * / * ]H K L n H K Lad O A O A n H a Ka La rH? ? ? ? ? ? ?( ) )HKLHKL1d=r*HKLHKL1r*d?r*材料科學(xué)與工程學(xué)院 材料研究方法與測(cè)試技術(shù) ( 1)倒易陣點(diǎn)與正點(diǎn)陣( HKL)晶面的對(duì)應(yīng)關(guān)系 的基本性質(zhì)確切表達(dá)了其與( HKL)的一一對(duì)應(yīng)關(guān)系,即一個(gè) 與一組( HKL)對(duì)應(yīng); 的方向與大小表達(dá)了( HKL)在正點(diǎn)陣中的方位與晶面間距;反之,( HKL)決定了 的方位與大小。若 終點(diǎn)(倒易點(diǎn))坐標(biāo)為( H, K, L)(此時(shí)可將 記作 ),則 在倒易點(diǎn)陣中的坐標(biāo)表達(dá)式為 的基本性質(zhì)為: 垂直于正點(diǎn)陣中相應(yīng)的( HKL)晶面,其長(zhǎng)度 等于( HKL)之晶面間距 的倒數(shù)。b c aaV a a? ?? ? ?c o s 9 0 c o s 9 0 c o s 9 0c o s * 0s in 9 0 s in 9 0?? ? ??????* 9 0? ??* * * *bc ??同 理 可 得 、 、 、 , 即1* * ** * * 90abca? ? ? ?? ? ? ???? ? ? ??(1 46)?材料科學(xué)與工程學(xué)院 材料研究方法與測(cè)試技術(shù) z KbLcHa *H K LrC0n BxO O*( ) Ay材料科學(xué)與工程學(xué)院 材料研究方法與測(cè)試技術(shù) 在倒易點(diǎn)陣中建立坐標(biāo)系:以任一倒易陣點(diǎn)為坐標(biāo)原點(diǎn)(以下稱倒易原點(diǎn),一般取其與正點(diǎn)陣坐標(biāo)原點(diǎn)重合),以 分別為三坐標(biāo)軸單位矢量。 由式( 1 42)可導(dǎo)出由 表達(dá) 的關(guān)系式,即
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