【正文】 此圖標(biāo)還在菜單欄中標(biāo)識 “填充 ”工具，并在操控板中標(biāo)識 “填充 ”模式。 注意 ：任何填充特征均必須包括一個平整的封閉環(huán)草繪特征。 關(guān)于填充特征 使用 Pro/ENGINEER 的 “填充 ”工具（ “編輯 ”“填充 ”，可創(chuàng)建和重定義平整曲面特征 填充特征。新的草繪或曲面被用于相交及生成新的預(yù)覽幾何。出現(xiàn) “相交 ”操控板。 3. 單擊 “編輯 ”“相交 ”。 2. 選取要相交的其它草繪或曲面，并使其都保留在所選項目中。 ? 屬性 ―― 在 Pro/ENGINEER 瀏覽器中顯示或重命名相交特征。要生成曲線，曲面必須來自兩個相交的不同面組、面組和實體，或者面組或?qū)嶓w中具有曲面的基準(zhǔn)平面。 o 對草繪 ―― 選取要復(fù)制到特征中的現(xiàn)有草繪，或使用 創(chuàng)建新的草繪。 對話欄 ： “相交 ”對話欄包含一個消息板。由于預(yù)先選取的參照完整定義了 “相交 ”過程，所以可自動完成，并且可以不需要工具改進或可選的設(shè)置。但是，可在激活 “相交 ”工具前選取第一個相交參照。 曲面只能與其它曲面或基準(zhǔn)平面相交，同樣的規(guī)則也適用于兩個草繪。 ? 顯示兩個曲面是否相交，以避免可能的間隙。也可在兩個草繪或草繪后的基準(zhǔn)曲線（被拉伸后成為曲面）相交的位置處創(chuàng)建曲線。 5. 單擊 ，完成 “延伸 ”特征。 3. 在 “延伸類型 ”列表中，選取 “到平面 ”。 2. 在 “編輯特征 ”工具欄中，單擊 ，可調(diào)用 “延伸 ”工具。 5. 單擊 ，完成 “延伸 ”特征。 o 在操控板中，在值框中鍵入距離值，或從最近使用值的列表中選取值。 3. 在 “延伸類型 ”列表中，選取 “逼近 ”。 2. 在 “編輯特征 ” 工具欄中，單擊 ，可調(diào)用 “延伸 ”工具。 5. 單擊 ，完成 “延伸 ”特征。 o 在操控板中，在值框中鍵入距離值，或從最近使用值的列表中選取值。此為缺省設(shè)置?；蛘撸蓡螕?“編輯 ”“延伸 ”。 創(chuàng)建相同曲面延伸 1. 選取要延伸的一條或多條曲面邊。 ? 相切 ―― 創(chuàng)建延伸作為與原始曲面相切的直紋曲面。 ? 相同 ―― 創(chuàng)建相同類型的延伸作為原始曲面（例如，平面、圓柱、圓錐或樣條曲面）。 ? 清除 ―― 將所有參照和選項重置為缺省值。 ? 點 /頂點 ―― 激活 “點 /頂點 ”收集器。 ? 屬性 ―― 在 “屬性 ” 上滑面板中可實現(xiàn)以下目的： o 在 Pro/ENGINEER 瀏覽器中查看關(guān)于當(dāng)前 “延伸 ”特征的信息 o 重命名 “延伸 ”特征 快捷菜單 ： 右鍵單擊可訪問帶有下列命令的 “延伸 ”快捷菜單： ? 邊鏈 ―― 激活 “邊鏈 ”收集器。 o 通過在 “選項 ”上滑面板中選取這些選項之一，指示將沿曲面還是沿平面測量延伸距離： 在曲面上 ―― 沿著被延伸的曲面測量延伸距離。要創(chuàng)建 “可變延伸 ”特征，可在“邊鏈 ”參照上添加多個延伸，并相應(yīng)地修改這些值。延伸是 “邊鏈 ”參照上用于定義 “延伸 ”特征距離的控制點。 上滑面板 ： “延伸 ”操控板顯示下列上滑面板： ? 參照 ―― 在 “參照 ”上滑面板中可改變 “邊鏈 ”參照。 ? 相對于邊鏈參照反轉(zhuǎn) “延伸 ”特征方向。 對話欄 ： “延伸 ”對話欄由下列三個元素組成： ? 延伸類型 ―― 列表 將當(dāng)前 “延伸 ”特征更改為不同類型（ “到平面 ”、 “相同 ”、 “相切 ”、 “逼近 ”）。 所有的 “延伸 ”特征在 “模型樹 ”中均用 表示。輸入負(fù)值會導(dǎo)致曲面被修剪。 ? 逼近 ―― 沿選定基準(zhǔn)平面測量延伸距離。 在用 “相同 ”、 “相切 ”或 “逼近 ”選項延伸面組時，應(yīng)注意以下內(nèi)容： ? 通過在 “選項 ”上滑面板中選取這些選項之一，可指示將沿曲面還是沿基準(zhǔn)平面測量延伸距離： ? 在曲面上 ―― 沿著被延伸的曲面測量延伸距離。 ? 相切 ―― 創(chuàng)建延伸作為與原始曲面相切的直紋曲面。當(dāng)將曲面延伸至不在一條直邊上的頂點時，此方法是很有用的。根據(jù) “延伸 ”特征的方向，將以指定距離并經(jīng)過其選定邊界延伸原始曲面，或以指定距離對其進行修剪。 在下圖中，選取了基準(zhǔn)曲線以將其包絡(luò)到實體曲面上： 8. 1 為 原始基準(zhǔn)曲線 ； 2 包絡(luò)基準(zhǔn)曲線的預(yù)覽圖像 ； 3 實體曲面 9. 下圖顯示了實體曲面上的包絡(luò)基準(zhǔn)曲線： 10. 11. 1 為 原始基準(zhǔn)曲線 ； 2 包絡(luò)基準(zhǔn)曲線 關(guān)于延伸特征 可使用下列方法之一創(chuàng)建 “延伸特征 ”或延伸面組。草繪基準(zhǔn)曲線被包絡(luò)到選定的曲面上。 “包絡(luò) ”特征顯示在預(yù)覽幾何中。 3. 預(yù)覽幾何將顯示該工具在草繪視圖方向找到的第一個實體或面組上的包絡(luò)基準(zhǔn)曲線。 2. 單擊 “編輯 ”“包絡(luò) ”。） ? 中心 ―― 指定草繪的中心作為原點。 可能原點的列表（如果在草繪中沒有坐標(biāo)系，則中心是缺省值。 操作 ? 移除 ―― 清除活動收集器的內(nèi)容。 收集器 ? 選取草繪 ―― 激活草繪收集器以選取要包絡(luò)的草繪。 ? 在 “屬性 ”面板中，可查看 Pro/ENGINEER 瀏覽器的 “偏移 ”特征信息，并可為特征輸入一個用戶定義名稱。 上滑面板 :“包絡(luò) ”操控板顯示下列上滑面板： ? 參照 ―― 在 “參照 ”面板中可執(zhí)行以下操作： o 創(chuàng)建或選取要包絡(luò)的草繪。 ? ―― 當(dāng)存在多個可能的有效方向時，反向包絡(luò)的方向。 也可單擊 “編輯 ”“包絡(luò) ”啟動 “包絡(luò) ”工具。 關(guān)于包絡(luò)用戶界面 “包絡(luò) ”用戶界面由下列項目組成： 特征圖標(biāo) ； 對話欄 ； 上滑面板 ； 快捷菜單 特征圖標(biāo) :在 “模型樹 ”中，所有的 “包絡(luò) ”特征都用 表示。如果它不是所需目標(biāo)，則可選取另一個。 包絡(luò)曲線的目標(biāo)必須是可展開的，即直紋曲面的某些類型。此點必須能夠被投影到目標(biāo)上。成形的基準(zhǔn)曲線將保留原草繪曲線的長度。 在下圖中，選取了基準(zhǔn)曲線以將其投影到拉伸曲面上： 12. 13. 1 曲面 ； 2 原始基準(zhǔn)曲線 ； 3 投影基準(zhǔn)曲線的預(yù)覽圖像 14. 下圖顯示了拉伸曲面上的投影基準(zhǔn)曲線： 15. 16. 1 為 曲面 ； 2 為 原始基準(zhǔn)曲線 ； 3 投影基準(zhǔn)曲線 關(guān)于包絡(luò)特征 可使用 “包絡(luò) ”工具在曲面上創(chuàng)建成形的基準(zhǔn)曲線。草繪曲線被投影到選定的曲面上。 o 垂直于曲面 ―― 將垂直于曲線平面或指定的平面（或曲面）投影該曲線。 5. 單擊 “方向參照 ”收集器，然后選取一個平面、軸、或坐標(biāo)系用作投影方向。 3. 單擊 “參照 ”選項卡，然后從列表中選取 “投影鏈 ”。 2. 單擊 “編輯 ”“投影 ”。 注意： 也可通過選取一個草繪，然后單擊 或 “編輯 ”“投影 ”啟動 “投影 ”工具。 6. 單擊 。 5. 缺省情況下，將選取草繪平面作為方向參照。 3. 單擊 草繪 ”收集器，然后在圖形窗口中選取一條草繪曲線，或進入 “草繪器 ”創(chuàng)建一條草繪曲線以進行投影。 “投影 ”操控板出現(xiàn)。 ? 垂直于曲面 ―― 垂直于目標(biāo)曲面投影選定的鏈或草繪。 操作 ： 清除 ―― 清除活動收集器的內(nèi)容。 ? 選取曲面 ―― 激活曲面收集器，以選取要在其中投影曲線的曲面或基準(zhǔn)平面。 收集器 ? 選取草繪 ―― 如果在 參照 上滑面板中選中了 投影草繪 ，則激活草繪收集器。 ? 在 屬性 面板中，可查看 Proe瀏覽器的 偏移 特征信息，并可為特征輸入一個用戶定義名稱。 o 指定投影基準(zhǔn)曲線特征的方向參照。 o 指定要投影的鏈。 上滑面板 :投影 操控板顯示下列上滑面板： ? 參照 ―― 在 參照 面板中可執(zhí)行以下操作： o 選擇是選取一條鏈還是創(chuàng)建一個草繪進行投影。 ? —反向投影的方向。 ? 方向選項 ―― 將方向類型設(shè)置為在指定的方向或垂直于目標(biāo)曲面。 也可單擊 編輯 投影 啟動 投影 工具。 對話欄 ； 上滑面板 ； 快捷菜單 特征圖標(biāo) :在 模型樹 中，所有的 投影 特征都用 表示。 要訪問 “投影 ”工具，可單擊 或單擊 “編輯 ”“投影 ”。 投影曲線的方法有兩種： ? 投影草繪 創(chuàng)建草繪或?qū)F(xiàn)有草繪復(fù)制到模型中以進行投影。 投影曲線不能是剖面線。然后，可使用投影基準(zhǔn)曲線修剪曲面，繪出掃描軌跡的輪廓或在 Pro/SHEETMETAL 中創(chuàng)建切口。系統(tǒng)將創(chuàng)建陣列，如下圖 所示。系統(tǒng)將更新陣列柵格，如下圖所示。必要時可修改用來設(shè)置陣列成員中心之間間隔的值。退出 “草繪器 ”時，系統(tǒng)將顯示缺省柵格（如下所示）。如果要使用 “草繪器 ”中的 “目的管理器 ”，可單擊 “草繪 ”“邊 ”“使用 ”“環(huán) ”，然后選取零件的一個邊。 4. 選取零件的頂部曲面作為草繪平面。 2. 在對話欄的陣列類型下拉列表框中，選取 “填充 ”。原始零件如下圖所示。系統(tǒng)將陣列選定的特征。當(dāng)重定義陣列以恢復(fù)此位置的陣列成員時，可隨時再次單擊此熱點。 9. 要忽略某個位置的陣列成員，可在柵格上單擊相應(yīng)的熱點。 7. 要指定柵格繞原點的旋轉(zhuǎn)角度，可在 組合框中鍵 入或選取一個新值。 6. 要更改陣列成員中心與草繪邊界間的最小距離，可在 組合框中鍵入或選取一個新值。要使用其它柵格類型，可在對話欄的下拉列表中選取其名稱。每個成員的位置都通過熱點來指示。然后即可使用這些參照來創(chuàng)建草繪。 注意： 進入 “草繪器 ”后，將無法看到陣列導(dǎo)引。對話欄的布局將發(fā)生變化。 “陣列操控板 ”打開，缺省陣列類型設(shè)置為 “尺寸 ”。 創(chuàng)建填充陣列 本過程描述如何根據(jù)選定柵格用陣列成員填充某個區(qū)域來陣列特征。 2. 選取 “倒角 ”特征，然后在 “編輯特征 ”工具欄中單擊 。 1. 創(chuàng)建 “倒角 ”特征，并選取其中一個孔邊。 示例：創(chuàng)建參照陣列 本示例顯示如何通過創(chuàng)建參照陣列對孔陣列的邊倒角。在對話欄中，單擊 。如果選定特征屬于無法以其它方式陣列的類型（如倒圓角或倒角），系統(tǒng)將立即創(chuàng)建此特征的 “參照 ”陣列。 1. 選取要陣列的特征，然后在 “編輯特征 ”工具欄中單擊 。按 取消 可取消并刪除任何更改。 3. 如果要保存更改并繼續(xù)使用 表 對話框中進行操作，單擊 應(yīng)用 。 o 要將表以單獨文件的形式保存到磁盤中，選取其名稱，然后單擊 。 o 要刪除表，選取其名稱，然后單擊 。 o 要編輯表，選取其名稱，然后單擊 。 2. 使用對話框底部的圖標(biāo)按如下所述修改表陣列： o 要向陣列中添加另一個表，選取此陣列或在 陣列表樹 中選取該陣列的一個表，然后單擊 。通過使用活動對象菜單，可更改活動對象。 表 對話框顯示當(dāng)前活動對象中所有可修改的陣列表。 通過編輯相應(yīng)表修改表陣列 1. 單擊 編輯 陣列表 。 7. 在對話欄中，單擊 。完成的陣列表如下圖所示。表編輯器窗口打開。按住 CTRL 鍵選取多個尺寸。 2. 在對話欄的陣列類型下拉列表框中，選取 “表 ”。 1. 選取伸出項 (1)，然后在 “編輯特征 ”工具欄中單擊 。 示例：創(chuàng)建表陣列 本示例顯示如何創(chuàng)建表陣列。 9. 在對話欄中，單擊 。完成編輯陣列表后，單擊 “文件 ”“退出 ”。 7. 要創(chuàng)建其它陣列表，可打開 “表 ”上滑面板，在其中右鍵單擊，然后從快捷菜單中選取 “添加 ”。也可單擊 “文件 ”“保存 ”或 “文件 ”“另存為 ”，然后鍵入文件名來保存當(dāng)前表以備將來使用。它們必須是唯一的，但不必是連續(xù)的。使用星號 (*) 保留缺省尺寸值。尺寸列的標(biāo)題中包含尺寸符號，此符號旁的括號內(nèi)是缺省值，它與陣列導(dǎo)引的尺寸值相等。表編輯器窗口打開。按住 CTRL 鍵選取多個尺寸。要包括在陣列表中的尺寸收集器被激活。 2. 要將陣列類型設(shè)置為 “表 ”，可在對話欄的陣列類型下拉列表框中選取 “表 ”。 1. 選取要陣列的特征，然后在 “編輯特征 ”工具欄中單擊 。如果將陣列成員數(shù)改為 5，則生成的陣列如圖 2顯示。這些關(guān)系的結(jié)果陣列如下圖所示。按如下形式修改 d5 的關(guān)系： memb_i = (d1(2*d5))/(p91) 按如下形式修改 d4 關(guān)系的第一行： incr = 180/(p91) 10. 將陣列成員數(shù)改為 10。在本例中，它為 p9。 8. 顯示陣列尺寸。重復(fù)這些步驟按關(guān)系定義尺寸增量。 5. 添加以下關(guān)系： memb_i = (d1(2*d5))/10 退出關(guān)系編輯器。 4. 單擊 “編輯 ”。選取收集器下面的 “按關(guān)系定義增量 ”選項。接受尺寸增量的缺省值。 1. 選取 “孔 ”特征，然后在 “編輯特征 ”工具欄中單擊 。因此，可使用占位符（如下例中的 10），然后重定義陣列并更改關(guān)系使其包括 p9。當(dāng)最初定義陣列時，您不知道系統(tǒng)將要為陣列實例數(shù)（ 此例中為 p9）所指定的符號。 示例：使用關(guān)系創(chuàng)建尺寸陣列 本示例說明使用陣列參數(shù)（例如 MEMB_V 和 MEMB_I)來控制陣列成員的位置。通過選取角度尺寸并指定尺寸增量來陣列化基準(zhǔn)平面。 注意： 創(chuàng)建此旋轉(zhuǎn)陣列的另一種方法是在創(chuàng)建伸出項前先創(chuàng)建角度基準(zhǔn)平面。系統(tǒng)將陣列化伸出項組。 8. 要指定陣列成員數(shù)，可在對話欄的文本框中鍵入 8，該對話欄位于標(biāo)簽 1 和第一方向上用于陣列的尺寸收集器之間。系統(tǒng)將顯示組中所有特征的尺寸（如下圖所示）。系統(tǒng)