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電鍍鍍銅電流密度設(shè)置作業(yè)規(guī)范(doc)-作業(yè)指導(dǎo)(參考版)

2024-08-21 14:16本頁面
  

【正文】 ,進(jìn)行電流密度設(shè)置: 鍍銅厚度 (mil) =電流密度( asf) *鍍銅時間( min) *陰極效率 *貫孔率 /1067 故:電流密度( ASF) =1067*鍍銅厚度 mil/(貫孔率 *陰極效率 *鍍銅時間 min) 陰極效率:一銅 按 92%計,二銅按 89%計 鍍銅時間:一銅按 40min 計,二銅按 60min 計 各種孔徑貫孔率取決於對照表 貫孔率 最小孔徑 縱橫比 (含)以上 一銅 85% 90% 95% 1 4~6 二銅 82%
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