20xx屆新高考化學(xué)一輪復(fù)習(xí)硅無機(jī)非金屬材料作業(yè)(參考版)
2025-04-05 05:20本頁面
【正文】 答案:(1)SiO2+2CSi+2CO↑ (2)分餾(3)①DBCAE 平衡壓強(qiáng)(其他合理答案均可) 濃硫酸 使滴入燒瓶中的SiHCl3汽化②SiHCl3+H2Si+3HCl③D SiHCl3容易在空氣中自燃,實(shí)驗(yàn)中要注意先通一段時(shí)間H2排盡裝置中的空氣 (4)先滴加氯水,再滴加硫氰化鉀溶液,溶液顯紅色(或加入氫氧化鈉溶液,出現(xiàn)白色沉淀后變灰綠色最后變紅褐色,合理答案均可)。③因?yàn)镾iHCl3容易在空氣中自燃,故操作時(shí)應(yīng)先打開裝置D中分液漏斗的旋塞,使生成的H2排盡裝置中的空氣。裝置C中的燒瓶加熱的目的是使滴入燒瓶中的SiHCl3汽化。裝置D中g(shù)管的作用是平衡壓強(qiáng),使分液漏斗中液體能順利滴下?！窘馕觥?2)SiCl4與SiHCl3的沸點(diǎn)不同,分離沸點(diǎn)不同的液體采用的方法是分餾。(4)請?jiān)O(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)證明產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì):將產(chǎn)品用稀鹽酸溶解,取上層清液后___________________________________。③操作時(shí)應(yīng)先打開裝置________(填“C”或“D”)中分液漏斗的旋塞,理由是_____________________。②裝置A中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為___________________。裝置C中的燒瓶加熱的目的是_____________。(3)用SiHCl3與過量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去):①依次連接的合理順序?yàn)開_______(填寫字母序號)。(2)粗硅與HCl反應(yīng)完全后,經(jīng)冷凝得到的SiHCl3( ℃)中含有少量SiCl4( ℃)和HCl( ℃),提純SiHCl3采用的方法為__________________。請回答下列問題:(1)第①步制備粗硅的化學(xué)方程式為_____________________。D項(xiàng)正確。步驟②③中每生成或反應(yīng)1 mol Si,轉(zhuǎn)移2 mol電子,B項(xiàng)錯(cuò)誤。它可以按下列方法制備:SiO2Si(粗)SiHCl3Si(純)下列說法正確的是( )①的化學(xué)方程式為SiO2+CSi+CO2↑①②③中每生成或反應(yīng)1 mol Si,轉(zhuǎn)移4 mol電子,而硅不能與氫氟酸反應(yīng)( ℃)中含有少量的SiCl4( ℃),通過蒸餾(或分餾)可提純SiHCl3【解析】選D。10.(2021石墨烯、金剛石是同種元素形成的不同單質(zhì),互為同素異形體,故C正確。石墨烯可制成電阻率最小的納米材料,說明石墨烯具有良好的導(dǎo)電性,故A正確。、最堅(jiān)硬、幾乎透明的物質(zhì),可制成電阻
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