【正文】 主要技術(shù)人員長期從事集成電路、高頻器件的基礎(chǔ)材料的制備、加工 、檢測及外延材料性能與結(jié)構(gòu)化方面的研究。本項目符合我國大力發(fā)展精細化工及微電子領(lǐng)域的方針政策以及由國家環(huán)?？偩趾托畔a(chǎn)業(yè)部組織制定的《中國清洗行業(yè) ODS 整體淘汰計技術(shù)壁壘 資金壁壘 進入障礙 關(guān)系壁壘 人才壁壘 商業(yè)計劃書 市場調(diào)查和分析 16 劃》的要求，具有自主的知識產(chǎn)權(quán)。預計 在 2021年 僅 CMP 拋光液的 全球市場就可達 到 11~12 億 美金 ，大陸與臺灣 的市 場將 成 長 至 15 億 元 人民幣的 市場規(guī)模 。 2. 臺灣地區(qū)客戶 目前，臺灣地區(qū)有兩家公司廣潤科技與微邦科技在生產(chǎn) CMP 拋光液及清洗劑等產(chǎn)品，是全球極少數(shù)的 CMP 拋光液專業(yè)生產(chǎn)廠家之一，其引進的是美國生產(chǎn)技術(shù)，但由于缺少美方關(guān)鍵工藝技術(shù)支持， CMP 拋光液及清洗劑等產(chǎn)品未能達到設(shè)計參數(shù)指標，在我方教授的悉心研究指導下，經(jīng)使用我方活性劑完全解決了臺方的技術(shù)工藝等問題，并為我方產(chǎn)品在臺灣地區(qū)的推廣奠定了堅實的基礎(chǔ)。 客戶 1. 大陸地區(qū)客戶 我方產(chǎn)品在大陸地區(qū)已發(fā)展或潛在的客戶按產(chǎn)品系列劃分如下： ? FA/O 拋光液、磨削液、切削液、清洗劑、 FA/O 活性劑 主要客戶為洛陽 740 廠、華山 741 廠、峨眉 739 廠、開化 601 廠、北京有研硅股份有限公司、無錫華晶電子有限公司、吉林華微電子有限公司（ 908）、浙大海納股份有限公司、西安衛(wèi)光電子有限公司、深圳深愛電子有限公司、上海硅材料廠、秦皇島硅材料廠、天津環(huán)歐硅材料廠等國家大中型微電子企業(yè)，以 及以北京東方電子廠、石家莊無線電二廠、橫陽無線電廠、丹東電子廠、江蘇啟東捷捷微電子公司等眾多中小型企業(yè)和眾多民營企業(yè)。 本系列產(chǎn)品主要包括半導體器件超大規(guī)模集成電路 FA/O 系列半導體材料拋光液、高純多功能非離子界面活性劑、系列電子清洗劑、銅拋光液、切削液、磨削液、倒角液等產(chǎn)品及相應(yīng)的使用技術(shù)。半導體材料切削液、倒角液、磨削液、拋光液和清洗劑是硅片加工過程中必不可 少的原料耗材，其品質(zhì)和性能的高低直接決定了硅片拋光的成品率。這些單位是國家大型企業(yè)，影響面大，有代表性，為商 業(yè)計劃書 產(chǎn)業(yè)背景與公司概述 11 規(guī)模生產(chǎn)后大面積在 全國推廣打下了極為有利的基礎(chǔ)。 當前，發(fā)明人主要從事科研開發(fā)，各產(chǎn)品的銷售屬于被動營銷，極大的影響了產(chǎn)品的銷售工作。隨著生產(chǎn)規(guī)模的不斷擴大，逐鹿國際市場將是我們的第三個目標。 特殊行業(yè)許可證報批情況 本項目系列產(chǎn)品不是特殊行業(yè)產(chǎn)品，屬于電子化工材料，系列產(chǎn)品不是最終產(chǎn)品，不需要特殊的許可證管制，在生產(chǎn)銷售中，按用戶要求和有關(guān)安全規(guī)定組織生產(chǎn)和銷售即可。我方已完成批量規(guī)模生產(chǎn)， 2021年已經(jīng)通過 ISO9001（ 2021 版）質(zhì)量認證。獲國家專利五項，獲國家發(fā)明獎五項（包括 FNO－ MOS 型拋光液 82 年獲國家發(fā)明四等獎；硅外延 BC技術(shù) 87年獲國家發(fā)明三等獎；硅器件襯底滑移線消除技術(shù) 90年獲國家商 業(yè)計劃書 產(chǎn)業(yè)背景與公司概述 10 發(fā)明四等獎； FA/O 無磨料均腐蝕拋光液 90年獲國家發(fā)明三等獎；用化學方法提高固體表面光潔度99 年獲國家發(fā)明三等獎），省部級科技進步獎十八項，國內(nèi)外發(fā)表技術(shù)論文 100 多篇，部分成果取代了國外先進產(chǎn)品與技術(shù)，實現(xiàn)了更新?lián)Q代。 以上系列產(chǎn)品已開始與同類進口產(chǎn)品爭奪市場，引起了美、日等國公司的高度注意。 FA/O 電子材料清洗劑除能代替進口產(chǎn)品外，還可大量出口，僅臺灣地區(qū)的年需求量就可達數(shù)千噸。在 ULSI 襯底拋光片清洗工藝中采用 FA/O 電子材料清洗劑，可有 效控制鏡面吸附狀態(tài)長期處于易清洗的物理吸附狀態(tài)，在該項目提示的技術(shù)理論發(fā)明的指導下，硅單晶片拋光后存放時間由正常不足四小時，增至 68 小時，實現(xiàn)了集中清洗，大大提高了效率，節(jié)省了大量人力、物力（化學試劑、電、去離子水等），工藝簡化，省去了效率低（一片一片依次清洗）、造成損傷、返修率高、價格昂貴（ 30 多萬美元 /臺）、工藝復雜的雙面刷片機工藝。 3. 以“ FA/O 電子材料清洗劑、半導體材料切削液、倒角液、磨削液、活性劑”為代表的換代產(chǎn)品線 ? FA/O 電子材料清洗劑 商 業(yè)計劃書 產(chǎn)業(yè)背景與公司概述 9 FA/O 電子材料清洗劑，其金屬離子含量遠遠低于世界知名的美國 Parker 公司和日本“花王”的產(chǎn)品，而且它屬于環(huán)保型水基清洗劑，完全可代替微電子用 3 號液及氟里昂、三氯乙烷等 ODS 清洗劑，能夠有效地清洗 ULSI 襯底、電子玻璃及 LCD 屏等固體表面上的金 屬離子、有機、無機雜質(zhì)和固體粒子，與同類產(chǎn)品相比具有清洗時間短、滲透力強、濃縮度高、使用方便、安全、無毒、對人體無危害、對環(huán)境無污染、對大氣臭氧層無破壞作用等優(yōu)點。該產(chǎn)品被評為國家級新產(chǎn)品并被列入國家重點推廣計劃。 我方在該項目上已率先實現(xiàn)了技術(shù)突破，在國際上 首次研究成功無離子 FA/O 超大規(guī)模集成電路（ ULSI）多層布線介質(zhì)及銅（ Cu）布線化學機械全局平面化（ CMP）納米磨料拋光液。 公司產(chǎn)品 公司有以下三條主產(chǎn)品線： 1. 以“ FA/O 超大規(guī)模集成電路（ ULSI）多層布線介質(zhì)及銅布線化學機械全局平面化（ CMP）納米磨料拋光液”為代表的高端產(chǎn)品線。本著強強聯(lián)合的原則，由河北工業(yè)大學商 業(yè)計劃書 產(chǎn)業(yè)背景與公司概述 8 微電子技術(shù)與材料研究所負責產(chǎn)品與技術(shù)的研發(fā)和更新?lián)Q代，公司負責新產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化、商品化。公司技術(shù)實力雄厚，一些知名企業(yè)（包括臺灣）慕名前來求助技術(shù)和產(chǎn)品。 公司簡介 在信息技術(shù)日益發(fā)展的今天，微電子技術(shù)水平的不斷提高為 信息產(chǎn)業(yè)的飛速發(fā)展奠定了堅實的基礎(chǔ)。由 于 市 場發(fā)展?jié)摿?巨大，再加上中 國 政府重 點扶持 ，促使中 國半導體市場 快速 發(fā) 展。 2021年上半年大 陸 晶片 產(chǎn) 量可 達 37 億顆 ，較 2021 年同期成 長 44％。目前世界集成電路大生產(chǎn)的主流技術(shù)為 8英寸 0. 25 微米，正在向 12英寸 米過渡，根據(jù)美國半導體協(xié)會 (SIA)預測，到 2021 年將能達到 18 英寸 ~ 微米。目前，世界集成電路大生產(chǎn)的主流加 工工藝技術(shù)水平為 8 英寸， ，正在向 微米、 微米、 12 英寸加工工藝過渡。建立在集成電路技術(shù)進步基礎(chǔ)上的全球信息化、網(wǎng)絡(luò)化和知識經(jīng)濟浪潮，使集成電路產(chǎn)業(yè)的戰(zhàn)略地位越來越重要，對國民經(jīng)濟、國防建設(shè)和人民生活的影響也越來越大。 ULSI每個芯片集成度最高可達幾十億個元器件，特征尺寸已進入納米級，這使得 ULSI 多層布線 金屬正由傳統(tǒng)的 AL 向 Cu 轉(zhuǎn)化，這樣可使布線層數(shù)減少一半，成本降低 30％，加工時間縮短 40％， 2021年國際上已開始規(guī)模應(yīng)用。 CMP拋光液全球 僅 有少 數(shù) 供 應(yīng) 商， 國 內(nèi)半 導體廠的 需求 基本依賴進口 ， CMP 拋光液有使用 壽 命的限制，其品 質(zhì)與 性能 會隨時間而劣化 ，因此相 較于國外進口 的 CMP 拋光液 產(chǎn) 品，本土的公司除可提供最新鮮 的 產(chǎn) 品外， 適 宜的 價格 、迅速的送 貨 服 務(wù)與及時 且 專業(yè) 的技 術(shù)支持 ，更是 國 外供 應(yīng)商所 不能及的。本產(chǎn)品如果經(jīng)調(diào)整參數(shù)、做適應(yīng)性試驗對多種被加工材料均可大幅度提高效率和質(zhì)量。 實施的風險 本項目風險主要表現(xiàn)為產(chǎn)品推廣過程中因必須針對每個廠家作適應(yīng)性技術(shù)實驗研究而可能存商業(yè)計劃書 摘要 4 在的營銷成本較高的非技術(shù)性風險。 進展情況： 到目前為止，公司的前期組建工作已經(jīng)展開，技術(shù)鑒定及其價值評估已初步完成，相應(yīng)的政府支持政策也 已落實到位，為融資工作以及下一步公司業(yè)務(wù)的全面展開打下了良好的基礎(chǔ)。 按信息產(chǎn)業(yè)部電子化工標準規(guī)范要求，將樣品送質(zhì)檢機構(gòu)和用戶進行驗證，符合用戶要求。并選擇適宜時機擴大生產(chǎn)規(guī)模，提高市場占有率。他們是（副教授 /博士；河北工業(yè)大學微電子所）、（設(shè)備主管 /教授；河北工業(yè)大學微電子所）、（研 究員 /博士；河北工業(yè)大學微電子所）。 我們的顧問組有行政優(yōu)勢，同時極具業(yè)內(nèi)號召力，由 （本 商業(yè)活動的核心創(chuàng)業(yè)人員；產(chǎn)品技術(shù)第一發(fā)明人； 中國洗凈協(xié)會副理事長；河北工業(yè)大學微電子專業(yè)學術(shù)帶頭人）、（中國洗凈協(xié)會會長）、（中國洗凈協(xié)會秘書長）構(gòu)成。在今后的市場競爭中一定能夠占有十分可觀的市場份 額。目前，占世界 IC 加工量第三的我國臺灣地區(qū)將是我們進入的第二市場。 目前全球 CMP 拋光液的市場 約 有 5~6 億 美金， 預計 在2021年 達 到 11~12 億 美金的 市場規(guī)模 ； 預計 在 2021年 大陸與臺灣 的市 場將 成 長 至 15 億 元 人民幣 。 各集成電路廠商降低成本的愿望強烈，對我方產(chǎn)品的價格優(yōu)勢極為青睞。 鑒于河北工業(yè)大學微電子研究所資金的局限，特此融資以滿足大規(guī)?；a(chǎn)、檢測和推廣的經(jīng)費要求，從而改變目前被動銷售的局面。 產(chǎn)品主要應(yīng)用于超大規(guī)模集成電路（ ULSI）襯底半導體材料、半導體器件、正擴大應(yīng)用于電視機玻殼，液晶顯示屏、液晶顯示屏基片玻璃、高檔金屬材料加工、藍寶石、不銹鋼模具及增加二次采油率等領(lǐng)域。 商業(yè)計劃書 摘要 1 第一章、摘要 本商業(yè)計劃的簡單描述 本商業(yè)計劃所涉及的項目屬微電子技術(shù)與基礎(chǔ)材料相關(guān)領(lǐng)域， 以河北工業(yè)大學微電子研究所為依托，歷時 20 年研發(fā)， 主要為從事微電子材料拋光液與清洗劑的開發(fā)應(yīng)用、生產(chǎn)以及銷售。其所涉及的內(nèi)容和資料只限于已簽署投資意向的投資者使用。收到本計劃書后，收件人應(yīng)即刻確認，并遵守以下的規(guī)定： 1. 若收件人不希望涉足本計劃書所述項目，請按上述地址盡快將本計劃書完整退回； 2. 在沒有取得天津 高 科技有限公司的書面同意前，收件人不得將本計劃書全部或部分地予以復制、傳遞給他人、影印、泄露或散布給他人； 3. 應(yīng)該象對待貴公司的機密資料一樣的態(tài)度對待本計劃書所提供的所有機密資料。以改進微電子產(chǎn)品生產(chǎn) 工藝、提高其產(chǎn)品質(zhì)量、降低其生產(chǎn)成本為目的。 產(chǎn)品的各項主要指標分別達到和超過國際上最先進的美國 Rodel、 Cabot 公司和日本 Fujimi、“花王”公司的相關(guān)產(chǎn)品，屬于國際領(lǐng)先水平，是具有知識、技術(shù)密集，高效率、高效益、高水平的高新技術(shù)產(chǎn)品。 機會概述 作為 世界電子信息產(chǎn)品的主要生產(chǎn) 基地， 2021 年，我國電子信息產(chǎn)業(yè)投資類產(chǎn)品顯現(xiàn)強勁增長態(tài)勢，頭兩月生產(chǎn)增速高達 42％。這為我方各項產(chǎn)品的擴大生產(chǎn)提供了良好的市場機遇。 我方系列產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于國內(nèi)外各微電子產(chǎn)品生產(chǎn)線。隨著生產(chǎn)規(guī)模的不斷擴大，逐鹿國際市場將是我們的第三個目標。 經(jīng)濟狀況和盈利能力預測 公司有很強的盈利能力。 管理者精通 專業(yè)、生產(chǎn)經(jīng)營管理經(jīng)驗 豐富 且年輕有為，由（ 材料專業(yè)學士學位；企業(yè)管理碩士研究生；中石化工程建設(shè)公司企業(yè)發(fā)展部部長、支部書記；中石化工程建設(shè)公司多種經(jīng)營處處長）擔當。 另外，我們的團隊核心凝聚力強、文化層次高、年齡結(jié)構(gòu)合理。 經(jīng)濟目標： 在今后五年內(nèi)累計實現(xiàn)銷售收入 28 500萬元，累計實現(xiàn)凈利潤 12 ，投資回報率高達 %。 階段目標： 2021 年 12 月31 日： 完成公司組建工作，制定發(fā)展目標和經(jīng)營思路。 提供的利益 本項目由投資方投入啟動資金 5000 萬元，投資方擁有 5000萬普通股，占公司總股本 %。 資本結(jié)構(gòu) 股東名稱 資本種類 出資額（人民幣） 股份比例 出資方式 投資方 普通股 5000 萬貨幣 % 貨幣 技術(shù)方 普通股 2500 萬知識產(chǎn)權(quán)技術(shù)入股 （包括產(chǎn)品工藝技術(shù)、市場知名度、社會關(guān)系等） % 技術(shù)專利 （具體見附錄） 資本退出 我們的資本退出戰(zhàn)略主要有公司上市、股權(quán)讓購與股權(quán)回購等三種形式。 目前我們的主打產(chǎn)品 拋光液是 IC CMP 制 程最重要的耗材之一， 約占 CMP 制 程 50%的耗材成本。 作為一家高新技術(shù)企業(yè)，我 們一直致力于微電子行業(yè)中大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路加工過程中的基礎(chǔ)材料的制備、加工、檢測以及外延材料性能與結(jié)構(gòu)優(yōu)化等技術(shù)和產(chǎn)品的研究、開發(fā)、生產(chǎn)及推廣。 主要的競爭對手 我方產(chǎn)品的主要競爭對手如下： ? 國外：美國 Cabot 與 Rodel、日本 Fujimi 與“花王”以及德國 Bayer?！?中共中央關(guān)于制定國民經(jīng)濟和社會發(fā)展第十個五年計劃的建議》中明確提出了 以信息化帶動工業(yè)化，發(fā)揮后發(fā)優(yōu)勢，實現(xiàn)社會生產(chǎn)力的跨越式發(fā)展 和 加快發(fā)展軟件產(chǎn)