【正文】
5um曝光機(jī)Cr MASK Mini Gap:27 umMini LW:33 um鍍膜制程裝金屬M(fèi)ASK掩膜,可取消, 由黃光制程決定F Side and R Side Metal MASK SIZE: 400*500mmSiO2 1000?可同時(shí)雙面鍍,由黃光制程決定.R side SIO2 to R side metal alignment:X/Y: 177。10μmR side ITO to F side ITO alignment:0177。10μmLocation accuracy:177。mm500電容式觸摸屏用多層復(fù)合玻璃制造工藝流程圖步驟流 程 名 稱流 程 說 明所需設(shè)備主要工藝參數(shù)1