陣列感應(yīng)資料處理培訓(xùn)-wenkub.com
2025-01-10 13:40 本頁(yè)面
【正文】 ? 井眼相對(duì)規(guī)則的大段泥巖段，井眼校正過校正或欠校正則在其合成曲線中會(huì)出現(xiàn)短陣列在長(zhǎng)陣列左側(cè)或右側(cè)的現(xiàn)象。 圖 20（正演模擬無(wú)侵地層）合格的處理效果 圖 21（正演模擬無(wú)侵地層）過校正效果圖 （正演模擬無(wú)侵地層）欠校正效果圖 （吉林紅＃井）合格的處理效果 （吉林紅＃井）過欠校正處理效果 ? 在井眼相對(duì)規(guī)則的大段泥巖段 ， 合格的井眼校正曲線經(jīng)過真分辨率聚焦 ， 其聚焦曲線關(guān)系應(yīng)與其分辨率關(guān)系相一致 。其次是分辨率匹配，實(shí)現(xiàn)不同探測(cè)深度具有同樣的分辨率的測(cè)井曲線。 MIT5530預(yù)處理 井眼校正 陣列感應(yīng)成像測(cè)井的測(cè)量會(huì)不同程度的受到環(huán)境井眼的影響，而且近接收子陣列與遠(yuǎn)接收子陣列受井眼影響程度不同，在描述徑向地層電阻率時(shí)，近接收子陣列受到的影響較大，所以在合成處理之前，應(yīng)當(dāng)對(duì)各接收子陣列的測(cè)量值進(jìn)行適當(dāng)校正，消除井眼環(huán)境的影響，反映出地層的真實(shí)情況 . ? 校正方法： 利用正演方法，模擬計(jì)算在不同泥漿電阻率，不同井眼半徑和地層電阻率情況下的地層響應(yīng)庫(kù)以及對(duì)應(yīng)的無(wú)井眼情況的地層響應(yīng)庫(kù)。 110100 1 10 100地層電導(dǎo)率（S/m）視電導(dǎo)率（S/m） .A6HRA9HRA12HRA15HRA12MRA15MRA21MRA27MRA39MRA21LRA27LRA39LRA72LRA72MR對(duì)同線圈距的不同頻率測(cè)量信號(hào)，頻率越高受趨膚效應(yīng)影響越大； 對(duì)相同的地層電導(dǎo)率，線圈距越長(zhǎng)受趨膚效應(yīng)影響越大； ms p f L MIT5530均質(zhì)地層響應(yīng) 有井眼無(wú)侵入地層響應(yīng)（ σ m=2s/m,8inch, σ t=) 深度響應(yīng)電導(dǎo)率(s/m)6H9H12H12M15H15M21M21L27M27L39M39L72M72L有井眼高侵地層響應(yīng) （ σ m=2s/m,8inch, σ t=, σ sh=, σ xo=,ri=) 深度響應(yīng)電導(dǎo)率(s/m)6H9H12H12M15H15M21M21L27M27L39M39L72M72L低侵地層響應(yīng)（ σ m=2s/m,8inch, σ t=, σ sh=， σ xo=，ri=) 深度響應(yīng)電導(dǎo)率(s/m)6H9H12H12M15H15M21M21L27M27L39M39L72M72L ? 一 . MIT5530儀器結(jié)構(gòu)及技術(shù)指標(biāo) ? 二 . MIT5530儀器原始曲線質(zhì)量控制 ? 三 . MIT5530測(cè)井不合格原始曲線 ? 四 . MIT5530儀器影響因素及處理流程 ? 五 . MIT5530資料處理質(zhì)量控制 MIT5530常見問題： ?原始曲線缺失字符 ?未安裝間隔器 ?儀器預(yù)熱不足 ?刻度文件加載錯(cuò)誤 ?測(cè)井遇卡 ?硬件故障 名稱 說(shuō)明 名稱 說(shuō)明 A6HR 6號(hào)線圈測(cè)量高頻實(shí)部信號(hào) A6HX 6號(hào)線圈測(cè)量高頻虛部信號(hào) A9HR 9號(hào)線圈測(cè)量高頻實(shí)部信號(hào) A9HX 9號(hào)線圈測(cè)量高頻虛部信號(hào) A12HR 12號(hào)線圈測(cè)量高頻實(shí)部信號(hào) A12HX 12號(hào)線圈測(cè)量高頻虛部信號(hào)
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