光刻機(jī)簡單介紹-資料下載頁
2025-01-21 01:55本頁面
【正文】 光刻教育資料 光刻 Team 30 離軸照明的優(yōu)點(diǎn) 。 。 。 我們考慮掩模圖形為一維密集線條的光柵，同軸照明： 1 級以及更高階衍射光都被物鏡的光闌遮擋，只有 0級衍射光進(jìn)入物鏡。離軸照明： 0級衍射光和 1 級衍射光都可能進(jìn)入成像系統(tǒng)的光瞳。 R同軸 =λ/3NA R離軸 =λ/4NA 從信息光學(xué)的觀點(diǎn)看，掩模圖形經(jīng)投影物鏡成像時(shí)，由 于投影物鏡的數(shù)值孔徑有限，高頻部分不能進(jìn)入光瞳，對成 像無貢獻(xiàn)，使硅片面上的掩模像的對比度降低，影響成像質(zhì) 量。由于 0級衍射光不包含掩模圖形的任何空間調(diào)制信息， 所以要對掩模圖形成像，至少要包含 1 級衍射光。在投影曝 光系統(tǒng)中，掩模圖形的空間像的對比度依賴于投影物鏡中參 與成像的 1 級衍射光的比例。離軸照明技術(shù)通過降低成像 光束中的低頻成分來提高高頻成分在總光強(qiáng)中的比例，從而 提高了空間像的對比度。 光刻教育資料 光刻 Team 31 掩膜版對準(zhǔn)系統(tǒng)（一） ?以 shutter反射的 E線光源作為對準(zhǔn)光源，將掩膜版對準(zhǔn) MARK與工作臺上基準(zhǔn) MARK進(jìn)行對準(zhǔn)。 ?對準(zhǔn)過程復(fù)雜，精度要求高。 ?對準(zhǔn)的后期進(jìn)行 LSA、 FIA激光校正，為WAFER對準(zhǔn)作準(zhǔn)備。 光刻教育資料 光刻 Team 32 掩膜版對準(zhǔn)系統(tǒng)（二） LSA SET X ALIGNMENT CHECK X LSA SET Y FIA SETY RSET X WGA SET Y FIA SET X WGA SET θ END START RETICLE SEARCH RSET X RSET Y LOOP1 NG OK RETICLE ALIGNMENT ALIGNMENT CHECK Y RSET θ ALIGNMENT CHECKθ RETICLE計(jì)算 ROTATION 對準(zhǔn)順序 光刻教育資料 光刻 Team 33 M 1 2 2 3 4 5 掩膜版對準(zhǔn)系統(tǒng)（三） 對準(zhǔn)光路圖 光刻教育資料 光刻 Team 34 掩膜版對準(zhǔn)系統(tǒng)（四） 光刻教育資料 光刻 Team 35 掩膜版對準(zhǔn)系統(tǒng)（五） 控制系統(tǒng)圖 基本波、倍周波形成 Thank you 謝謝 QA 請您提問
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