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養(yǎng)護窯窯溫模糊控制系統(tǒng)設計-資料下載頁

2025-07-30 00:47本頁面
  

【正文】 護時間計數(shù)器C0。Network 4 //2號窯控制開始。LD //常ON繼電器。LPS //壓棧操作。A //2號起動=。S ,1 //按下2號起動按鈕。LRD //讀棧。A //2號停止=。R ,1 //按下2號停止按鈕。 LRD //讀棧。AW=C1+600 //2號養(yǎng)護時間=+600min。= //2號窯養(yǎng)護時間到(C1計數(shù)到600),排氣。LRD //讀棧。A //2號急停=。R ,3 //,。LPP //彈出。A //2號運行標志=。= //2號窯運行期間。CALL SBR_1 //2號窯運行期間,調用2號窯溫控制程序SBR1。Network 5 //記錄2號窯控溫時間。LD //2號進氣閥=。A //2號窯養(yǎng)護時間的計數(shù)脈沖(1min一次)LD //2號起動=,C1的復位脈沖之一。O //,C1的復位脈沖之二。CTU C1+0 //起動2號養(yǎng)護時間計數(shù)器C1,養(yǎng)護時間由CTU計數(shù)器的計數(shù)值反映。 子程序 SBR0Network 1 //傳送1號窯溫值反饋值,1號窯溫設定值。LD //常閉繼電器。MOVW AIW0,VW0 //1號溫度檢測AIW0,送溫度存儲單元VW0。I +6552,VW0 //VW0的內容減去6552,送VW0中。/I =131,VOW //VW0的內容被131除,結果送VW0中。MOVW VW0,VW2 //窯溫檢測值6552)/131=窯溫實際溫度值VW0,送VW2中。 *I +100,VW2 //1號溫度值乘100變成反饋值VW2,將參與控制。MOVW +100,VW4 //1號窯溫恒溫的設定值為100176。,送VW4中。Network 2 //分段控制。LD //常閉繼電器。MOVW VW4,VW6 //窯溫恒溫的設定值送VW6。*I +50,VW6 //第一段的溫度控制值溫設定值的50倍。 MOVW VW4,VW8 //窯溫恒溫的設定值送VW8。*I +80,VW8 //第一段的溫度控制值溫設定值的80倍。 MOVW VW4,VW10 //窯溫恒溫的設定值送VW10。*I +90,VW10 //第一段的溫度控制值溫設定值的90倍。 MOVW VW4,VW12 //窯溫恒溫的設定值送VW12。*I +100,VW12 //第一段的溫度控制值溫設定值的100倍。 MOVW VW4,VW14 //窯溫恒溫的設定值送VW14。*I +102,VW14 //第一段的溫度控制值溫設定值的102倍。 Network 3 //控制策略。LDW VW2,VW6 //窯溫的100倍小于設定值的50倍,進氣閥占空比=100% 。LDW VW2,VW6 //窯溫的100倍大于設定值的50倍。AW VW2,VW8 //窯溫的100倍小于設定值的80倍。A T101 //反饋值大于第一段且小于第二段控制值時,進氣閥占空比=70%。OLD //去前兩項操作的或(塊的并聯(lián))。LDW VW2,VW10 //窯溫的100倍大于設定值的90倍 AW VW2,VW12 //窯溫的100倍小于設定值的100倍A T105 //反饋值大于第三段且小于第四段控制值時,進氣閥占空比=30%。 OLD //前面操作的或(塊的并聯(lián))。LDW VW2,VW12 //窯溫的100倍大于設定值的100倍 AW VW2,VW14 //窯溫的100倍小于設定值的102倍A T107 //反饋值大于第四段且小于第無段控制值時,進氣閥占空比=10%。 OLD //前面操作的或(塊的并聯(lián))。AW VW2,VW14 //反饋值大于第五段控制值時,進氣閥占空比=0%。 = //按照上述占空比開閉進氣閥,控制窯溫。Network 4 //設定占空比。LD //常ON繼電器。LPS //壓棧。AN T102 //T102的非起動T101。TON T101,+30 T101定時為3s。LRD //讀棧。A T101 //T101起動T102,T102定時為7s。TON T102,+70 //設定占空比=70/(30+70)=70%。LRD //讀棧。 AN T104 //T104的非起動T103。TON T103,+50 //T103定時為5s。LRD //讀棧。A T103 //T103起動T104,T104定時為5s。TON T104,+50 //設定占空比=50/(30+70)=50%。LRD //讀棧。 AN T106 //T106的非起動T105。TON T105,+70 //T105定時為7s。LRD //讀棧。A T105 //T105起動T106,T106定時為3s。TON T106,+30 //設定占空比=30/(30+70)=30%。LRD //讀棧。 AN T108 //T108的非起動T107。TON T107,+90 //T107定時為9s。LPP //彈出。A T107 //T107起動T108,T108定時為1s。TON T108,+10 //設定占空比=10/(30+70)=10%。 用 PLC 實現(xiàn)上述的模糊控制規(guī)律的子程序流程圖如下圖44 模糊控制規(guī)律的子程序流程圖子程序的實現(xiàn)流程為將傳感器的窯溫電流值輸入 VW0 單元,并且利用算術運算指令,轉換為PLC 內部數(shù)字溫度值,并且與設定的溫度值比較,根據(jù)比較的結果,調整電磁閥的接通的時間,改變通入的熱量,實現(xiàn)溫度控制。結束語本文是針對整個養(yǎng)護窯窯溫工藝而進行的一個基于模糊控制系統(tǒng)的設計。通過查閱資料,在了解工藝過程的基礎上,根據(jù)所學的自動化專業(yè)知識對整個過程中所用到的反應裝置進行合理的控制。在工藝方面采用了模糊控制方案,控制系統(tǒng)選擇的是西門子公司的S7200控制系統(tǒng)。設計主要包括硬件設計、軟件設計和總體總體方案設計。由于時間的問題,本文所設計的系統(tǒng)還存在一些需要改進的地方。此外,文中未能提供所設計的系統(tǒng)模擬運行時的組態(tài)畫面,希望日后可以改進自己的設計,以便能真正應用到實際中。通過這次畢業(yè)設計,我有了很深的體會,任何事都需要付出努力,而且要有耐心,不能急于求成,任何事情都需要一點一點的積累。在整個設計過程當中,只從理論上進行了論證,并未真正的實施,也許在真正實踐中可能有些選擇的控制方案并不能達到理想的目標,但是本次論文設計帶給我的收獲,為以后工作和學習打下了良好的基礎。 謝辭本次畢業(yè)設計歷時時間較長,其間每一過程都得到指導教師張新玉的悉心指導,張老師治學嚴謹,學識淵博,思想深邃,視野雄廓,兢兢業(yè)業(yè)地為我排憂解難,堪稱良師益友,營造了一種良好的精神氛圍,教給我們的不僅是知識還有待人處世的積極態(tài)度。在張老師的指導過程中,不僅我的思想觀念煥然一新,也改善了我的思考方式,而且還明白了許多待人接物與為人處世的道理。其嚴以律己,寬以待人的崇高風范,樸實無華、平易近人的人格魅力,令我如沐春風,倍感溫馨。一股暖意細水長流,源自內心而又沐潤全身,微言寸語豈能祥訴感激之情,只好銘記心中,唯有虔誠的祝福導師合家歡樂,一生平安在本次設計中,我為能用到這幾年的學習成果而感悟頗深,同時我深深感悟到了基礎知識的重要性,在以后的學習生活中,不可急于求成而忽略了基礎知識,對一門系統(tǒng)的科學,應該扎實的學習它的每一部分,充分利用各種實踐環(huán)節(jié),切實做到理論聯(lián)系實際,學以致用。同樣通過這次畢業(yè)設計,我也體會到我們學習上的一些不足,在日后的工作與學習中,我仍將認真鞏固對專業(yè)基礎知識的學習。不僅是這樣,還應該有更寬闊的事業(yè)空間,我將把畢業(yè)設計時所學到的整合知識的方法和自學的方法加以運用??傊@次畢業(yè)設計讓我受益匪淺。大學畢業(yè)后,我將面臨一個全新的局面,新的環(huán)境,新的開始,新的里程。在此還要感謝教過我的每一位老師,是他們教會了我生存的方法,是他們給了我獨立的力量,是他們讓我心懷夢想,積極的面對未來的一切,愿所有老師工作順利。身體就會健康。參考文獻[1].范永勝 王岷 主編 電氣控制PLC應用 中國電力出版社[2].張鳳珊.電氣控制及可編程序控制器(第二版).北京:中國輕工業(yè)出版社,.[3].袁任光.可編程序控制器選用手冊[M].北京:機械工業(yè)出版社,.[4].何友華.可編程序控制器及常用控制電器[M].北京:冶金工業(yè)出版社,.[5].吳麗 主編 電氣控制與PLC實用教程 黃河水利出版社[6].廖常初 主編 FX系列PLC編程及應用 機械工業(yè)出版社[7].盧金鼎等.機電一體化技術[M].北京:中國輕工業(yè)出版社,.[8].宮淑貞,王冬青,徐世許.可編程序控制器原理及應用[M].北京:人民郵電出版社..[9].謝克明,夏路易.可編程序控制器原理與程序設計[M].北京:電子工業(yè)出版社,.[10].何衍慶,戴自祥,俞金壽.可編程序控制器原理及應用技巧(第二版)[M].北京:化學工業(yè)出版社,.[11].齊占慶.機床電氣控制技術[M].北京:機械工業(yè)出版社,.[12]. Vicky et reformer advanced controlon Pc platforms. Hydrocarbon Processing[J],1997,76(8):91~95[13].George J Antos et Naphtha Reforming Science and Technology. New York: McGtaw—Hill [M].199934
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