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正文內(nèi)容

集成電路運(yùn)算放大器的定義-資料下載頁(yè)

2025-05-16 08:15本頁(yè)面
  

【正文】 變量是VGS。在恒流區(qū),iD與VDS基本無(wú)關(guān)。并通過(guò)跨導(dǎo)gm=△iD/△VGS| VDS描述場(chǎng)效應(yīng)管的放大作用。而晶體管是通過(guò)iB控制iC。參變量是iB。放大區(qū),iC與VCE基本無(wú)關(guān)。通過(guò)電流放大系數(shù)β=△iC/△iB描述放大作用。(2)iG=0。所以,直流、交流Ri都很高。而晶體管b極和e極處于正偏狀態(tài),b~e間Ri較?。簬浊W。(3)場(chǎng)效應(yīng)管利用的是一種極性的多子導(dǎo)電(單極型器件),具有噪聲小,受外界T及輻射的影響小等特點(diǎn)(溫度穩(wěn)定性好)。(4)由于場(chǎng)效應(yīng)管對(duì)稱(chēng),有時(shí)DS極可互換使用。各項(xiàng)性能基本不受影響。應(yīng)用時(shí)較方便、靈活。但若制造時(shí)已將S和襯底連在一起,則DS不能互換。(5)場(chǎng)效應(yīng)管的制造工藝簡(jiǎn)單,有利于大規(guī)模集成,且所占面積小,集成度高。(6)MOS場(chǎng)效應(yīng)管Ri高,G極的感應(yīng)電荷不易泄放。 SiO2層薄,G極與襯底間等效電容很小,感應(yīng)電荷少量即可形成高電壓, 將SiO2擊穿而損壞管。存放管子時(shí),應(yīng)將GS短接,避免G極懸空。焊接時(shí),烙鐵外殼應(yīng)接地良好,防止因烙鐵漏電而擊穿管子。(7)場(chǎng)效應(yīng)管的應(yīng)用  場(chǎng)效應(yīng)管在恒流區(qū)內(nèi)工作時(shí),當(dāng)GS電壓變化△VGS時(shí), D極電流相應(yīng)變化△iD。若將△iD通過(guò)較大的RL, 從RL上取出的△V0=△iDRL,可能比△VGS大許多倍,即△VGS得到了放大。所以場(chǎng)效應(yīng)管和晶體管一樣在電路中可起放大的作用?!ET BJT 電壓控制器件gm=△iD/△VGS| VSD電流控制器件β=△ic/△ iB∣vCE輸入端PN結(jié)反偏,iG=0,Ri很大輸入端PN結(jié)正偏,ib≠0,rbe較小單極型器件,一種載流子:噪聲小,溫度穩(wěn)定性好雙極型器件,兩種種載流子:噪 聲較大,溫度穩(wěn)定性較差結(jié)構(gòu)對(duì)稱(chēng),DS極可以互換結(jié)構(gòu)非對(duì)稱(chēng),CE極不能互換可以作為性能較好的壓控電阻器線(xiàn)性效果差場(chǎng)效應(yīng)管的制造工藝簡(jiǎn)單具有對(duì)稱(chēng)性,有利于大規(guī)模集成,且所占面積小,集成度高三極管的結(jié)構(gòu)非對(duì)稱(chēng),制造工藝較場(chǎng)效應(yīng)管復(fù)雜,集成度不夠高 。二、MOS型場(chǎng)效應(yīng)管       JFET的輸入電阻可達(dá)107歐姆,但就本質(zhì)而言,這是PN結(jié)的反向電阻,而反向偏置時(shí)總有反向電流存在, 這就限制了在某些工作條件下對(duì)阻值的更高要求。同時(shí),從制造工藝看, 把它高度集成化還比較復(fù)雜?! 〗^緣柵型場(chǎng)效應(yīng)管由金屬 氧化物 半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)管制成,稱(chēng)為MetalOxideSemiconductor,簡(jiǎn)稱(chēng)為MOSFET,這種場(chǎng)效應(yīng)管的柵極被絕緣層(例如SiO2)隔離,因此Ri 更高,可達(dá)109 歐姆以上。  MOS管與JFET的不同之處在于它們的導(dǎo)電機(jī)構(gòu)和電流控制原理不同 。JFET利用耗盡層的寬度改變導(dǎo)電溝道的寬度來(lái)控制ID,OSFET則是利用半導(dǎo)體表面的電場(chǎng)效應(yīng), 由感應(yīng)電荷的多少改變導(dǎo)電溝道來(lái)控制電流?! OS管分為N溝道和P溝道兩類(lèi), 每一類(lèi)又分為增強(qiáng)型和耗盡型:  增強(qiáng)型:當(dāng)VGS=0,無(wú)導(dǎo)電溝道,ID=0  耗盡型:當(dāng)VGS=0,有導(dǎo)電溝道,ID≠0返回 
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