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正文內(nèi)容

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2025-01-15 16:27本頁面
  

【正文】 獲得單位面積的大輸出電流 易于獲得大電流 大功率應(yīng)用 開態(tài)電壓VBE與尺寸、工藝無關(guān) 片間漲落小,可獲得小的電壓擺幅 易于小信號應(yīng)用 模擬電路 北京大學(xué) 微電子學(xué)研究所 輸入電容由擴散電容決定 隨工作電流的減小而減小 可同時在大或小的電流下工作而無需調(diào)整輸入電容 輸入電壓直接控制提供輸出電流的載流子密度 高跨導(dǎo) 北京大學(xué) 微電子學(xué)研究所 缺點: 存在直流輸入電流,基極電流 功耗大 飽和區(qū)中存儲電荷上升 開關(guān)速度慢 開態(tài)電壓無法成為設(shè)計參數(shù) 設(shè)計 BJT的關(guān)鍵: 獲得盡可能大的 IC和盡可能小的 IB 北京大學(xué) 微電子學(xué)研究所 當(dāng)代 BJT結(jié)構(gòu) 特點: 深槽隔離 多晶硅發(fā)射極 北京大學(xué) 微電子學(xué)研究所 167。 MOS場效應(yīng)晶體管 ? MOS電容結(jié)構(gòu) ? MOSFET 器件 北京大學(xué) 微電子學(xué)研究所 1. MOS 電容 ?電容的含義 ?MOS結(jié)構(gòu) ?理想的 MOS電容特性 ?非理想的 MOS電容特性 北京大學(xué) 微電子學(xué)研究所 ?關(guān)于電容 平行板電容器 +Q Q E d + V 面積 A 電容 C定義為: Q V C= 斜率 AdVQC ???直流和交流時均成立 北京大學(xué) 微電子學(xué)研究所 一 MOS結(jié)構(gòu) ?交流電容 交流電容 C定義為: +Q Q E d + V 面積 A +?Q ?Q ?V Q V C( V〕 = 斜率 對于理想的交流電容, C與頻率無關(guān) 這里 理想 指電容中沒有能量的耗散: 忽略金屬引線的電阻(超導(dǎo)線〕 介質(zhì)層不吸收能量 VVQVC??? ),(),( ??北京大學(xué) 微電子學(xué)研究所 非理想的電容: Cideal Rp RS 半導(dǎo)體中的電容通常是交流電容 例如:突變 PN結(jié)電容 VVxVxQVQC dd ???????? )()(dD xq A NQ ?AxCd?=和平行板 電容器形 式一樣 + V P+ N xd 偏壓改變 ?V 北京大學(xué) 微電子學(xué)研究所 施加偏壓后的不同狀態(tài):積累、耗盡、反型 北京大學(xué) 微電子學(xué)研究所 施加偏壓后的不同狀態(tài):積累、耗盡、反型 北京大學(xué) 微電子學(xué)研究所 施加偏壓后的不同狀態(tài):積累、耗盡、反型 北京大學(xué) 微電子學(xué)研究所 MOS場效應(yīng)晶體管 場效應(yīng)晶體管 結(jié)型場效應(yīng)晶體管 ( JFET) 金屬-半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管 ( MESFET) MOS 場效應(yīng) 晶體管( MOSFET) 北京大學(xué) 微電子學(xué)研究所 北京大學(xué) 微電子學(xué)研究所 北京大學(xué) 微電子學(xué)研究所 北京大學(xué) 微電子學(xué)研究所 北京大學(xué) 微電子學(xué)研究所 北京大學(xué) 微電子學(xué)研究所 轉(zhuǎn)移特性曲線 ?提取閾值電壓 ?研究亞閾特性 北京大學(xué) 微電子學(xué)研究所 長溝 M O S F E T 的輸出特性 北京大學(xué) 微電子學(xué)研究所 亞 MOSFET器件的發(fā)展趨勢 N+ (P+) N+ (P+) P (N) Source Gate Drain N+(P+) 北京大學(xué) 微電子學(xué)研究所 作業(yè) ?描述二極管的工作機理 ?討論 PMOS晶體管的工作原理
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