測量過程控制技術(shù)—統(tǒng)計(jì)過程控制—ok-資料下載頁
2024-12-08 10:39本頁面
【正文】 。 ? 過程受 控所遵循的一般依據(jù) : ? 連續(xù) 25點(diǎn)以上處于控制界限內(nèi) ? 連續(xù) 35點(diǎn)中 , 僅有 1點(diǎn)超出控制界限 ? 連續(xù) 100點(diǎn)中 , 不多于 2點(diǎn)超出控制界限 ? 過程缺陷的 八種 異常模式： ? 1點(diǎn)落在 A區(qū)以外； ? 連續(xù) 9點(diǎn)落在中心線同一側(cè)； ? 連續(xù) 6點(diǎn)遞增或遞減； ? 連續(xù) 14點(diǎn)中相鄰點(diǎn)交替上下； ? 連續(xù) 3點(diǎn)中 2點(diǎn)落在中心線同一側(cè)的 B區(qū)以外； ? 連續(xù) 5點(diǎn)中 4點(diǎn)落在中心線同一側(cè)的 C區(qū)以外； ? 連續(xù) 15點(diǎn)落在中心線兩側(cè)的 C區(qū)內(nèi)； ? 連續(xù) 8點(diǎn)落在中心線兩側(cè)且無一在 C區(qū)內(nèi)。 控制圖的判異標(biāo)準(zhǔn) UCL LCL CL A B C C B A ? 第一種模式： 1點(diǎn)落在 A區(qū)以外； 測量點(diǎn)出現(xiàn)在 A區(qū)之外的概率僅為 ％，因此任何測量點(diǎn)出現(xiàn)在 A區(qū)之外，均可立即判為測量過程異常，測量點(diǎn)超出上界，表明統(tǒng)計(jì)控制量的均值增大；而當(dāng)測量點(diǎn)超出下界，表明其均值減小 。 測量點(diǎn)出現(xiàn)在 A區(qū)之外 控制圖的判異標(biāo)準(zhǔn) ? 第二種模式：連續(xù) 9點(diǎn)落在中心線同一側(cè)： 測量點(diǎn)出現(xiàn)在控制圖中心線的同一側(cè)的現(xiàn)象稱為鏈。 9點(diǎn)鏈出現(xiàn)的概率僅為 ％， 鏈的出現(xiàn)表明統(tǒng)計(jì)控制量分布的均值向出現(xiàn)鏈的一側(cè)偏移。 連續(xù) 9個(gè)點(diǎn)出現(xiàn)在中心線同一側(cè) 控制圖的判異標(biāo)準(zhǔn) ? 第三種模式：連續(xù) 6點(diǎn)落在中心線同一側(cè)： 測量點(diǎn)排列出現(xiàn)單調(diào)遞增或遞減的狀態(tài)稱為趨勢。計(jì)算表明， 6點(diǎn)趨勢出現(xiàn)的概率為 ％ .趨勢的出現(xiàn)表明統(tǒng)計(jì)控制量的均值隨時(shí)間增大或減小。 連續(xù) 6個(gè)點(diǎn)呈現(xiàn)單調(diào)遞增遞減 控制圖的判異標(biāo)準(zhǔn) ? 第四種模式：連續(xù) 14個(gè)測量點(diǎn)呈現(xiàn)上下交替排列： 計(jì)算表明，連續(xù) 14個(gè)測量點(diǎn)呈現(xiàn)上下交替排列出現(xiàn)的概率為 ％， 最接近于顯著水平。 此時(shí)表明測量過程受到某種周期性效應(yīng)的影響。 連續(xù) 14個(gè)點(diǎn)上下交替排列 控制圖的判異標(biāo)準(zhǔn) ? 第五種模式：連續(xù) 3個(gè)測量點(diǎn)中有 2點(diǎn)出現(xiàn)在中心線同一側(cè) A區(qū)中： 計(jì)算表明，連續(xù) 3個(gè)測量點(diǎn)中有兩點(diǎn)出現(xiàn)在中心線同一側(cè) A區(qū)中出現(xiàn)的概率為％ .與規(guī)定的顯著水平相一致 。 當(dāng)出現(xiàn)該種情況時(shí)，則可以判定測量過程異常。 連續(xù) 3個(gè)測量點(diǎn)有 2個(gè)測量點(diǎn)出現(xiàn)在中心線同一側(cè) A區(qū)中 控制圖的判異標(biāo)準(zhǔn) ? 第六種模式：連續(xù) 5個(gè)測量點(diǎn)中有 4點(diǎn)出現(xiàn)在中心線同一側(cè)的 B區(qū)或 A區(qū)中： ? 計(jì)算表明，連續(xù) 5個(gè)測量點(diǎn)中有 4點(diǎn)出現(xiàn)在中心線同一側(cè)的 B區(qū)或 A區(qū)中出現(xiàn)的概率為 ％， 比較接近于規(guī)定的顯著水平。 此時(shí)表明該控制圖所選用的統(tǒng)計(jì)控制量向該側(cè)偏移。 連續(xù) 5個(gè)測量點(diǎn)中有 4點(diǎn)出現(xiàn)在中心線同一側(cè)的 B區(qū)或 A區(qū)中 控制圖的判異標(biāo)準(zhǔn) ? 第七種模式：連續(xù) 15個(gè)測量點(diǎn)出現(xiàn)在中心線兩側(cè)的 C區(qū)中： ? 計(jì)算表明，連續(xù) 15個(gè)測量點(diǎn)出現(xiàn)在中心線兩側(cè)的 C區(qū)中出現(xiàn)的概率為 ％，比較接近于規(guī)定的顯著性水平。 對于這種分布異常，不要認(rèn)為這是測量過程得到改進(jìn)的結(jié)果，這種情況的出現(xiàn)往往表明由于控制圖設(shè)計(jì)的錯(cuò)誤而導(dǎo)致控制界限過寬而造成的。此時(shí)的控制圖已失去對測量過程的控制作用，而應(yīng)重新采集數(shù)據(jù)制作新的控制圖。 連續(xù) 15個(gè)測量點(diǎn)出現(xiàn)在中心線兩側(cè)的 C區(qū)中 控制圖的判異標(biāo)準(zhǔn) ? 第八種模式：連續(xù) 8個(gè)測量點(diǎn)出現(xiàn)在中心線兩側(cè)并且全部不在 C區(qū) ? 出現(xiàn)這種請況往往表明：該統(tǒng)計(jì)控制量的分布是兩種不同分布的混合，并且其中一個(gè)分布的均值與另一個(gè)的均值有明顯的差異，同時(shí)在測量過程中兩種分布交替出現(xiàn) 。 連續(xù) 8個(gè)測量點(diǎn)出現(xiàn)在中心線兩側(cè)并且全部不在 C區(qū) 控制圖的判異標(biāo)準(zhǔn) 謝謝大家
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