實(shí)驗(yàn)二鋼的淬火回火工藝及組織與性能(編輯修改稿)
2025-03-09 12:18 本頁(yè)面
【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 Head Drum Wrist Pin Hard Disk Slider CD/DVD Mold Spacer Tool Form Die Digital VCR Tape Razor Blade ?應(yīng)用： 五、實(shí)驗(yàn)方法和步驟 （ 1） 根據(jù)實(shí)驗(yàn)?zāi)康?， 設(shè)定工藝參數(shù) 。 （ 2） 用超聲波清洗器清洗玻璃基片和單晶硅基片 15分鐘 ， 清洗時(shí)加入丙酮 或酒精 ， 清洗后用氮?dú)獯蹈?。 （ 3） 將清洗好的基片放入沉積室里面的樣品臺(tái)上 ， 然后關(guān)好真空室門(mén) 。 （ 4） 仔細(xì)檢查水源 、 氣源和電源正常后 ， 打開(kāi)冷卻循環(huán)水 。 （ 5） 抽真空 。 首先用機(jī)械泵抽真空 ， 開(kāi)啟真空泵 ， 打開(kāi)機(jī)械泵的真空閥門(mén) ，一段時(shí)間后 （ 約 10分鐘 ） 打開(kāi)熱偶真空計(jì)測(cè)量真空度 ， 待真空室內(nèi)氣壓達(dá)到 1Pa左右 ， 然后開(kāi)啟分子泵及分子泵的閥門(mén) ， 用分子泵與機(jī)械泵一起抽真空 ， 一段時(shí)間后 （ 約 30分鐘 ） 打開(kāi)電離真空計(jì)測(cè)量真 空度 ， 待室內(nèi)氣壓達(dá)到需要的本底真空度 （ 約 1 103Pa） ， 然后關(guān)閉電離真空計(jì) 。 （ 6） 真空度達(dá)到所需要的本底真空度后 ， 關(guān)閉分子泵 ， 機(jī)械泵仍然工作 。打開(kāi)氣瓶 ， 開(kāi)始通入 Ar 和 CH4或 C2H2氣體 ， 通過(guò)質(zhì)量流量控制器控制Ar/CH4或 Ar/C2H2的比例 。 （ 7） 根據(jù)實(shí)驗(yàn)條件設(shè)定工作氣壓 ， 打開(kāi)直流電源 ， 施加預(yù)設(shè)的功率 ， 產(chǎn)生等離子體 ， 觀察等離子 體產(chǎn)生的過(guò)程及顏色等 。 （ 8） 設(shè)定基片溫度 ， 打開(kāi)偏壓電源并在基片上施加預(yù)設(shè)的負(fù)偏壓 。 （ 9） 根據(jù)工藝參數(shù)沉積類(lèi)金剛石薄膜 20分鐘 ， 然后結(jié)束鍍膜 ， 之后關(guān)閉電源和氣體 。 （ 10） 薄膜在真空狀態(tài)下擱置一段時(shí)間 。 待冷卻后 ， 關(guān)機(jī)械泵 。 打開(kāi)充氣閥對(duì)真空室充氣后 ， 打開(kāi)真空室門(mén) ， 取出薄膜進(jìn)行觀察 。 （ 11） 合上真空室門(mén) ， 將真空室內(nèi)抽到一定真空后 ， 然后關(guān)掉機(jī)械泵 ， 關(guān)掉總電源 ， 切斷冷卻水 。 六、實(shí)驗(yàn)報(bào)告要求 （ 1） 描述實(shí)驗(yàn)過(guò)程中觀察到的各種現(xiàn)象 ， 并給出合理的解釋 。 （ 2） 實(shí)驗(yàn)裝置中各主要部分的用途 。 （ 3） 闡述等離子體的產(chǎn)生原理 。 （ 4） 詳細(xì)記錄實(shí)驗(yàn)過(guò)程 、 工藝參數(shù)及實(shí)驗(yàn)步驟 ， 寫(xiě)出類(lèi)金剛石薄膜制備實(shí)驗(yàn)報(bào)告 。 七、實(shí)驗(yàn)注意
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