【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 高，但是畢竟在工藝的制作上，無(wú)晶層在先而微晶層在后的方式，無(wú)法對(duì)微晶做 有效的退火， 也就無(wú)法更有效的使用微晶層的物理光電效應(yīng)。 因此到目前為止成就不大。本公司的技術(shù)理論即在于解決這種架構(gòu)（Tandem）的不良性，而提出次序上的安排 與輔助式的雙重快速退火，達(dá)到無(wú)晶層與微晶層對(duì)綠光與紅橘光吸收的極大性。工藝先進(jìn)性說(shuō)明首先，用PECVD磊上微晶薄膜，在工藝的過(guò)程中加裝基板加熱裝置 ，使原子的排 列較近晶體式的排列，同時(shí)膜的沈積效率亦是一般的3~5倍，再由下一道工序流程中的 工藝制作腔內(nèi)，再做一次快速退火，使得微晶在巨觀下有某些已是多晶的型態(tài)，這一層 微晶應(yīng)該使晶體缺陷較目前市面所提供的微晶層的千分之一至十萬(wàn)分之一。 因此微晶 層910％%。完成微晶層之后，再進(jìn)入無(wú)18核心競(jìng)爭(zhēng)力晶層的沈積，由一般的6%的轉(zhuǎn)換效能來(lái)看，再經(jīng)過(guò)數(shù)個(gè)月陽(yáng)光照射后，實(shí)際轉(zhuǎn)換效能 將衰減至原有的百分之70，%。但在本公司的獨(dú)有的制程工藝?yán)碚撓?，我們?yīng) 得到12~14%左右。 也就是說(shuō)， 一般的供貨商所提供的是以無(wú)晶層為主的雙層 （Tandem） 結(jié)構(gòu)，可能不具長(zhǎng)程的要求與競(jìng)爭(zhēng)力，本公司所主張的是以微晶層為主的雙層架構(gòu)。在本公司擁有光電子組件與材料的雙項(xiàng)優(yōu)勢(shì)之下，我們以長(zhǎng)效使用11~13%的轉(zhuǎn)換 效能，為開(kāi)始進(jìn)入市場(chǎng)地設(shè)備先進(jìn)標(biāo)準(zhǔn)，往后逐年增進(jìn)至15%效能，同時(shí)，我們亦將研 發(fā)其它多層薄膜技術(shù)，向高于18%為目標(biāo)邁進(jìn)，堅(jiān)持我們技術(shù)之先進(jìn)性。設(shè)備先進(jìn)性采用同時(shí)制造20片等離子電漿鍍膜的大批量設(shè)備，可為同業(yè)產(chǎn)能的四~八倍以 上采用基板加熱鍍膜同步退火，快速退火設(shè)備，微晶成長(zhǎng)速度是同業(yè)的五倍設(shè)備數(shù)量低于2套25MW之非晶薄膜設(shè)備較同瓦數(shù)之非晶薄膜設(shè)備，節(jié)省清洗機(jī)、傳送設(shè)備車匣傳送設(shè)備成熟穩(wěn)定較同瓦數(shù)之非晶薄膜設(shè)備，節(jié)省廠房面積4成較同瓦數(shù)之非晶薄膜設(shè)備，節(jié)省TCO玻璃、EVA膠膜及框架 4成以上19核心競(jìng)爭(zhēng)力設(shè)備價(jià)格較同業(yè)低3成以上50MW單線USD60M，批量?jī)?yōu)惠可致USD45MUptime 可達(dá)9成以上。 連續(xù)車體多腔鍍膜設(shè)備較同業(yè)設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)作、 維修簡(jiǎn)單 快速退火設(shè)備降低薄膜電池的缺陷，增加轉(zhuǎn)換效率開(kāi)發(fā)兩段式退火設(shè)備， 可為將來(lái)升級(jí)轉(zhuǎn)換效率的設(shè)備手段與技術(shù)， 增大微晶粒、 降低缺陷。五年內(nèi)快速提高每線產(chǎn)能8倍，從每條線50MW, 100MW, 200MW至400MW。設(shè)備的設(shè)計(jì)是基于工藝的流程要求與先進(jìn)性； 設(shè)備是具體的來(lái)實(shí)現(xiàn)科學(xué)領(lǐng)域中的研 發(fā)成果，將之系統(tǒng)化用機(jī)械設(shè)備的商業(yè)化手段，產(chǎn)生大量生產(chǎn)。本公司是由客制化服務(wù)開(kāi)始，將客戶的需求除了作短期的應(yīng)用方案外，并架構(gòu)長(zhǎng)期 的規(guī)劃，使得今日的設(shè)備仍能在下一波的競(jìng)爭(zhēng)中，加裝若干部件，仍充分發(fā)揮使用。除 了擁有多位設(shè)備硬件設(shè)計(jì)與制程應(yīng)用的精英外， 更值得與業(yè)界競(jìng)爭(zhēng)的是多位材料專精的 專家，他們不僅是提供工藝的先進(jìn)性，更在設(shè)備開(kāi)發(fā)的階段積極的運(yùn)用量測(cè)設(shè)施抓牢薄 膜的結(jié)晶結(jié)構(gòu)的巨觀 變化與微觀調(diào)整。因此，我們的設(shè)備較之一般設(shè)備供貨商不同之處在于：與客戶需求和市場(chǎng)要求作緊密結(jié)合。將組件工藝技術(shù)整合入硬設(shè)備之中。20核心競(jìng)爭(zhēng)力產(chǎn)品穩(wěn)定度的先進(jìn)性（使用后） 產(chǎn)品穩(wěn)定度的先進(jìn)性（使用后）光電流的穩(wěn)定度在10%微晶結(jié)構(gòu)為主的薄膜，經(jīng)過(guò)退火處理，缺陷減低；在使用時(shí)太陽(yáng)長(zhǎng)期照射，也 不易改變其膜層之原子堆棧結(jié)構(gòu)，缺陷程度穩(wěn)定，因而光電流轉(zhuǎn)換效果穩(wěn)定， 初始電流與長(zhǎng)期使用電流差在10%以內(nèi)。成品率可達(dá)90%以上 成品率可達(dá)90%以上 90%制造合格之成品率可達(dá)9成以上微晶結(jié)構(gòu)為主，經(jīng)制程退火處理的薄膜，均勻度高、缺陷少、光電轉(zhuǎn)換效率穩(wěn) 定，連續(xù)制程維持均一性高，所以成品率較非晶薄膜高21組織結(jié)構(gòu)組織機(jī)構(gòu)顧問(wèn)委員會(huì)22生產(chǎn)工藝流程玻璃基板送入待料區(qū)后，由機(jī)械手臂抓送至清洗機(jī)，將包裝、運(yùn)送途中可能產(chǎn)生的 灰塵或污染清洗干凈后，將已鍍有 TCO 膜之玻璃基板送至紅外線雷射割線機(jī)做出第一 次割線工藝，割線完成后將基板作二次清洗。將洗凈之基板送入PECVD鍍膜機(jī)， 做連續(xù)多腔之鍍膜使產(chǎn)生P型層/微晶層( ~2微米)/n型層/反射層/P型層/iasi層/n型層等工藝步驟后，經(jīng)由綠光雷射割線機(jī)后，各 電池的接觸點(diǎn)已打開(kāi)，再経 由金屬模濺鍍機(jī)后，以具有傳導(dǎo)之效應(yīng)，再由綠光雷射割線 機(jī)將不必要的金屬剝除， 太陽(yáng)能電池工藝制作完成， 可由IV測(cè)試機(jī)完成基本數(shù)據(jù)之量測(cè)。玻璃基板清洗機(jī)雷射割線機(jī) 紅外線雷射清洗機(jī)PECVD 鍍膜IV 測(cè)試機(jī)綠光雷射 切割機(jī)金屬膜濺鍍雷射割線機(jī) 綠光雷射廠房選址制造工廠目前擬定在北京市平谷區(qū)馬坊工業(yè)區(qū)，平谷區(qū)位于北京東北部，距離北京 首都機(jī)場(chǎng)僅35公里，15分鐘的車程，全程高速，交通極為便利，為北京東北部海、陸、 空、鐵多式聯(lián)運(yùn)的最佳結(jié)合點(diǎn)。平谷距天津港僅135公里，區(qū)內(nèi)設(shè)保稅物流區(qū)，進(jìn)出口 方便并可享受保稅等優(yōu)惠政策。23生產(chǎn)制造工廠擬位 于北京平谷區(qū) 馬坊工業(yè)區(qū)。北京市和平谷區(qū)政府對(duì)于雙方的合作表示高度重視，并多次召開(kāi)協(xié)調(diào)會(huì)議，確保在 政策上給予公司最大的扶持。 目前公司已與馬坊工業(yè)區(qū)管委會(huì)簽訂了戰(zhàn)略合作框架協(xié)議 （詳見(jiàn)附件） ，明確了雙方的合作框架、原則和一些基本條款：地方政府按照1:1的比例進(jìn)行配套資金投入；協(xié)助落實(shí)國(guó)家裝備資金的支持；協(xié)調(diào)落實(shí)銀行的信貸支持（授信規(guī)模不低于注冊(cè)資本的2倍）。優(yōu)惠地價(jià)不高于15萬(wàn)/畝（市場(chǎng) 價(jià)為40萬(wàn)/畝）；地價(jià)和稅收返還；第一個(gè)廠房由政府代建（建設(shè)成本約1000萬(wàn)美元），交由公司免費(fèi)使用兩年后24生產(chǎn)由公司以成本價(jià)購(gòu)回；進(jìn)口設(shè)備免交關(guān)稅和增值稅；所得稅享受兩免三減半的優(yōu)惠等。廠房及生產(chǎn)設(shè)施規(guī)劃 廠房及生產(chǎn)設(shè)施規(guī)劃 及生產(chǎn)設(shè)施制造工廠主要從事薄膜太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線的組裝、調(diào)試和試運(yùn)行，將占地400畝， 項(xiàng)目擬建4個(gè)廠房，每個(gè)廠房的占地面積約為200M160M，每個(gè)廠房可放置34條設(shè)備 線。公司會(huì)視乎市場(chǎng)需求而在第五年之后再添置廠房，進(jìn)一步提升年產(chǎn)能。廠房和薄膜太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線的設(shè)計(jì)適合每天不停運(yùn)作，以應(yīng)付生產(chǎn)需求。為免任 何突發(fā)性設(shè)備故障引致本公司薄膜太陽(yáng)能電池設(shè)備生產(chǎn)停頓，有關(guān)設(shè)備作定期維修養(yǎng) 護(hù)，并可獨(dú)立運(yùn)作。薄膜太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線廠房的規(guī)劃配置如下：2526生產(chǎn)上述廠房于投產(chǎn)后將全面運(yùn)作，并全面使用所有指定產(chǎn)能。自第五年開(kāi)始，可實(shí)現(xiàn) 年產(chǎn)32條400MW的薄膜太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線的產(chǎn)量。設(shè)備方案產(chǎn)品種類玻璃清洗機(jī) PECVD 鍍膜機(jī) 快速退火機(jī) AZO 膜雷射劃線機(jī) 雷射劃線機(jī) 機(jī)械手臂 AI,ZnO 鍍膜機(jī) 焊線機(jī) 承壓固化機(jī) 太陽(yáng)光仿真器 有軌車 背板供應(yīng)機(jī) 工廠自動(dòng)化 傳輸設(shè)備產(chǎn)品型號(hào)AS GC I AS PECVD II AS RA I AS IR I AS GL II AS RBT I AS PVD I AS WD I AS LM I AS SSL I AS TC I AS BB I AS SW I AS TRT I尺寸(M)8 * * 2 20 * * 3 * * * * * HReach 28 * * 3 3*2 14 * * * 5 2*2 * TBD 170 * 2功率 KVA62 300 60 18 18 35 320 12 50 15 2 TBD 30產(chǎn)品價(jià)格 USD165K 10,500K 500K 647K 647K 130K 3,237K 216K 230K 183K 108K 140K 2,158K 324K數(shù)量 50