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正文內(nèi)容

材料科學(xué)基礎(chǔ)實(shí)驗(yàn)指南(編輯修改稿)

2024-08-30 05:33 本頁面
 

【文章內(nèi)容簡介】 成凹溝。必須指出的是,磨削過程會使試樣表面溫度驟然升高,只有不斷地將試樣浸水冷卻,才能防止組織發(fā)生變化。砂輪機(jī)轉(zhuǎn)速比較快,一般為2850r/min,工作者不應(yīng)站在砂輪的正前方,以防被盡出物擊傷。操作時(shí)嚴(yán)禁戴手套,以免手被卷入砂輪機(jī)。關(guān)于砂輪的選擇,一般是遵照磨硬材料選稍軟些的,磨軟材料選擇稍硬些的基本原則,用于金相制樣方面的砂輪大部分是:磨料粒度為40號、46號、54號、60號(數(shù)字愈大愈細(xì));材料為白剛玉(代號為GB或WA)、綠碳化硅(代號為TL或GC)、棕剛玉(代號為GZ或A)和黑碳化硅(代號為TH或C)等;硬度為中軟1(代號為ZR1或K)的平砂輪,尺寸多為250mm25mm32mm(外徑厚度孔徑)有色金屬,如銅、鋁及其合金等,因材質(zhì)很軟,不可用砂輪而且要作銼刀進(jìn)行粗磨,以免磨悄填塞砂輪孔隙,且使試樣產(chǎn)生較深的磨痕和嚴(yán)重的塑性變形層。(三)細(xì)磨粗磨后的試樣,磨面上仍有較深的磨痕,為了消除這些磨痕必須進(jìn)行細(xì)磨。細(xì)磨可分為手工磨和機(jī)械磨兩種。手工磨手工磨是將砂紙鋪在玻璃板上,左手按住砂紙,右手捏住試樣在砂紙上作單向推磨。金相砂紙由粗到細(xì)分許多種,其規(guī)格可參考表21。表21 常用金相砂紙的規(guī)格砂紙序號24030040060080010001200粒度1602002804006008001000編號01(選一種)0203040506用砂輪粗磨后的試樣,要依次由01號磨至05號(或06號)。操作時(shí)必須注意:(1)加在試樣上的力要均勻,使整個(gè)磨面都能磨到;(2)在同一張砂紙上磨痕方向要一致,并與前一道砂紙磨痕方向垂直。待前一道路砂紙磨痕完全消失時(shí)才能換用下一道路砂紙。(3)每次更換砂紙時(shí),必須將試樣、玻璃板清理干凈,以防將粗砂粒帶互細(xì)砂紙上。(4)磨制時(shí)不可用力過大,否則一方面因磨痕過深增加下一道麻木在制的困難,另一方面因表面變形嚴(yán)重影響組織真實(shí)性。(5)砂紙的砂粒變鈍磨削作用明顯下降時(shí),不家繼續(xù)使用。否則砂粒在金屬表面產(chǎn)生的滾壓會增加表面變形。(6)磨制銅、鋁及其合金等軟材料時(shí),用力更要輕,可同時(shí)在砂紙上滴些煤油,以防脫落砂粒嵌入金屬表面。砂紙磨光表面變形層消除過程如圖22所示。圖22 砂紙磨光表面變形層消除過程示意圖(a)嚴(yán)重變形層(b)變形較大層(c)變形微小層(d)無變形原始組織1第一步磨光后試樣表面的變形層2第二步磨光后試樣表面的變形層3第三步磨光后試樣表面的變形層4第四步磨光后試樣表面的變形層用金相水砂紙手工磨制時(shí)可加水也可以干磨。但是在干磨過程中,脫落的砂粒和金屬磨屑留在砂紙上,隨著移動的試樣來回滾動,砂粒間的相互擠壓以及金屬屑粘在砂糖縫隙中,都會使砂紙磨削壽命減短,試樣表面變形層嚴(yán)重,摩擦生熱還可能引起組織變化。為克服干磨的弊端,目前多采用手工濕磨的方法所用砂紙是水砂紙,其規(guī)格可參考表21。用水砂紙手工磨制的操作方法和步驟用金相砂紙磨制制完全一樣,只是將水砂紙置于流動水下邊沖邊磨,由粗到細(xì)依次更換數(shù)次,最后磨到1000或1200號砂紙。因?yàn)樗鞑粩嗟貙⒚撀渖傲?、磨屑沖掉,幫砂紙的磨削壽命較長。實(shí)踐證明試樣磨制的速度快、質(zhì)量高,有效地彌補(bǔ)了干磨的不足。機(jī)械磨目前普遍使用的機(jī)械磨設(shè)備是預(yù)磨機(jī)。電動機(jī)帶動鋪著水砂紙的圓盤轉(zhuǎn)動,磨制時(shí),將試樣沿盤的徑向來回移動,用力要均勻,邊磨邊用水沖。水流即起到冷卻試樣的作用,又可參借助離心力將脫落砂粒、磨屑等不斷沖到轉(zhuǎn)盤邊緣。機(jī)械磨的磨削速度比手工磨制快得多,但平整度不夠好,表面變形層也比較嚴(yán)重。因此要求較高的或材質(zhì)較軟的試樣應(yīng)該采用手磨制。機(jī)械磨所用水砂紙規(guī)格與手工濕磨相同,可參考表21。(四)拋光拋光的目的是去除細(xì)磨后遺留在磨面上的細(xì)微磨痕,得到光亮無痕的鏡面。拋光的方法有機(jī)械拋光、電解拋光物化學(xué)拋光三種,其中最常用的是機(jī)械拋光。機(jī)械拋光機(jī)械拋光在拋光機(jī)上進(jìn)行,將拋光織物(粗拋常用帆布,精拋常用毛呢)用水浸濕、鋪平、繃緊用固定在拋光盤上。啟動開關(guān)使拋光盤逆時(shí)針轉(zhuǎn)動,將適量的拋光液(氧化鋁、氧化鉻或氧化鐵拋光粉加水的懸浮液)滴灑在盤上即可進(jìn)行拋光,拋光時(shí)就注意:(1)試樣沿盤的徑向往返緩慢移動,同時(shí)逆拋光盤轉(zhuǎn)向自轉(zhuǎn),待拋光快結(jié)束時(shí)作短時(shí)定位輕拋。(2)在拋光過程中,要經(jīng)常滴加適量的拋光液或清水,以保持拋光盤的濕度,如發(fā)現(xiàn)拋光盤過臟或帶有粗大顆粒時(shí),必須將其沖刷干凈后再繼續(xù)使用。(3)拋光時(shí)間應(yīng)盡量縮短,不可過長,為滿足這一要求可分粗拋和精拋兩步進(jìn)行。(4)拋有色金屬(如銅、鋁及其合金等)時(shí),最好在拋光盤上涂少許肥皂或滴加適量的肥皂水。機(jī)械拋光與細(xì)磨本質(zhì)上都是借助磨料尖角銳利的刃部,切去試樣表面隆起的部分,拋光時(shí),拋光織物纖維帶動稀疏分布的極微細(xì)的磨料顆粒產(chǎn)生磨削作用,將試樣拋光。目前,人造金剛石研磨膏(最常用的有W0。W1。0、W1。W2。5和W3。5五種規(guī)格的溶水性研磨膏)代替拋光液,正得到日益廣泛的應(yīng)用,用極少的研磨膏均勻涂在拋光織物上進(jìn)行拋光,拋光速度快,質(zhì)量也好。電解拋光電解拋光原理示意圖如圖23所示,陰極用不銹鋼板制盛成,試樣本身為陽極,二者同處于電解拋光液中,接通回路后在試樣表面形成一層高電阻膜。由于度樣表面高低不平,膜的厚薄也不同。試樣表面凸起部分膜薄,電阻小,電流密度大,金屬溶解速度快。相對面言,凹下部分溶解速度慢,這種選擇性溶解結(jié)果,使試樣表面逐漸平整,最后形成光滑平面。圖23 電解拋光原理示意圖電解拋光系電化學(xué)溶解過程
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