利用射頻濺射法鍍金屬薄膜(編輯修改稿)
2025-07-23 20:55 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 給基片的能量很小，故基片的溫升較低。當濺射量達到一定程度后，靶表面的材料也就被消耗掉，形成拓寬的腐蝕環(huán)形凹狀區(qū)。這種方法的特點是使用了磁控靶，并通過在陰極靶的表面上方造成一個正交電磁場，使靶表面濺射產(chǎn)生的初始電子在電場和磁場的聯(lián)合作用下，被壓縮在近靶面作渦漩運動，在運動中，高能電子不斷與惰性氣體分子發(fā)生碰撞，使后者發(fā)生電離，大量電離后的正離子在電場的作用下高速轟擊陰極靶，使靶材中的原子（或分子）被轟擊出來并飛向基片表面沉積成膜。按結(jié)構(gòu)分，磁控濺射源主要有實心柱狀或空心柱狀磁控靶、濺射槍或S槍、平面磁控濺射靶四種，見圖241。柱狀磁控靶結(jié)構(gòu)簡單，可有效地利用空間，可在更低的氣壓下濺射成膜，適用于形狀復(fù)雜幾何尺寸變化大的鍍件。槍型靶呈圓錐形，制作困難，可直接取代蒸發(fā)鍍膜機上的電子槍，用于對蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的改造，適于小型制作，科研用。平面磁控靶按靶面形狀分，又有圓形和矩形兩種，它制備的膜厚均勻性好，對大面積的平板可連續(xù)濺射鍍膜，適合于大面積和大規(guī)模的工業(yè)化生產(chǎn)。 （a）實心柱狀 （b）平面磁控濺射靶 （c）濺射槍或S槍 （d）空心柱狀磁控臺圖241磁控濺射源磁控濺射法與蒸發(fā)源相比，濺射鍍膜的主要特點：① 由于放電電流和靶電流分別可控，鍍膜可控性好；②由于濺射出的原子、分子能量比熱蒸發(fā)能量高1—2個數(shù)量級，所以濺射法鍍膜附著力高?？傊?，磁控濺射法具有鍍膜層與基材的結(jié)合力強，鍍膜層致密、均勻等優(yōu)點。但蒸發(fā)鍍膜卻比濺射鍍膜生產(chǎn)效率高、生產(chǎn)成本低。一般來說，對于附著力的要求并非功能性的，一般采用真空蒸發(fā)鍍較為合適。但對于汽車塑料標牌表面裝飾的真空鍍膜，真空蒸發(fā)鍍膜由于繞射性、膜層附著力和蒸發(fā)源溫度偏高等因素的制約，在汽車塑料標牌上的應(yīng)用不及磁控濺射法。氣動調(diào)節(jié)閥由執(zhí)行機構(gòu)和調(diào)節(jié)機構(gòu)組成。執(zhí)行機構(gòu)是調(diào)節(jié)閥的推力部件，它按控制信號壓力的大小產(chǎn)生相應(yīng)的推力，推動調(diào)節(jié)機構(gòu)動作。閥體是氣動調(diào)節(jié)閥的調(diào)節(jié)部件，它直接與調(diào)節(jié)介質(zhì)接觸，調(diào)節(jié)該流體的流量。 氣動調(diào)節(jié)閥動作分氣開型和氣關(guān)型兩種。氣開型是當膜頭上
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