以電沉積法制作大面積氧化鋅薄膜與奈米柱陣列(編輯修改稿)
2025-06-03 22:21 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 面孔洞做封孔的動作，本實驗使用POLARON SC500鍍金機(jī)在 AAO 一側(cè)濺鍍金，作為電沉積之導(dǎo)電層。 ? 氧化鋅電鍍液配置 ? 電鍍液的主要配方為氯化鋅、氯化鉀及過氧化氫溶液。 ? 氯化鋅溶液主要作用是提供反應(yīng)中鋅離子的來源，以氯化鋅溶液來成長氧化鋅，為了提高溶液的導(dǎo)電性，減少電化學(xué)成長過程中的電阻值，必需配以輔助電解質(zhì)。 ? 輔助電解質(zhì)的作用主要為增加溶液的導(dǎo)電性，多選擇用解離度高的鹽類，而且輔助電解質(zhì)不能參與電化學(xué)的反應(yīng)，因此在本實驗中採用 M 左右的氯化鉀做為輔助電解液。 Results and Discussion ? 氧化鋅薄膜 EPMA 分析 ? 環(huán)境為沉積電位 ，鍍液溫度 75 ℃ ，沉積時間 10分鐘， pH值，氯化鋅濃度10mM、氯化鉀濃度、過氧化氫濃度5mM。 ? (a) 氧化鋅薄膜的 SEI 圖 ? (b) 氧原子的 Mapping圖 ? (c) 鋅原子的 Mapping圖 ? 添加不同過氧化氫濃度之氧化鋅表面形貌SEM 圖
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