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蒸鍍車間一周總結ppt課件(編輯修改稿)

2025-05-30 06:01 本頁面
 

【文章內容簡介】 氧含量 錫含量 結晶狀態(tài) 晶體結構 缺陷密度 濺射電壓 沉積溫度 成膜條件 R□ =ρ/ d ρ=m*/ne2τ 蒸發(fā)源到基片的位置 濺射鍍膜 ? 用高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面,沉積在基片上。常用的二極濺射設備如左圖。 離子鍍 ? 蒸發(fā)物質的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面,稱為離子鍍。一種離子鍍系統(tǒng)如右圖。 氧清洗設備 PECVD ? 氧清洗時通入的主要氣體是 O2和 CF4, O2主要
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