畢業(yè)設(shè)計(jì)恒壓pid觸摸屏plc超純水監(jiān)控系統(tǒng)說(shuō)明梯形程序圖(編輯修改稿)
2025-05-04 21:44 本頁(yè)面
【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 ，通過(guò)酸泵，流經(jīng)閥4，到左交換柱底部，同時(shí)純水流經(jīng)閥上進(jìn)閥1到左交換柱頂部，調(diào)節(jié)水流，使處理后的水從中排閥1出，作為廢水排放，~1小時(shí)，完畢。 六、 慢沖洗 打開閥上進(jìn)閥下進(jìn)閥中排閥1，其余相關(guān)閥門關(guān)閉。上進(jìn)水經(jīng)過(guò)閥上進(jìn)閥1到達(dá)左交換柱頂部，下進(jìn)水經(jīng)過(guò)閥下進(jìn)閥1到達(dá)左交換柱底部，調(diào)整上下進(jìn)水的流量，使得上進(jìn)水略大于下進(jìn)水，以保證樹脂不發(fā)生翻動(dòng)。完成標(biāo)志：出水pH達(dá)到6~7，Cl合格，時(shí)間約30分鐘。七、快沖洗 打開閥上進(jìn)閥下排閥1，其余相關(guān)閥門關(guān)閉。進(jìn)水經(jīng)過(guò)閥上進(jìn)閥1到左交換柱頂部，然后從左交換柱底部經(jīng)過(guò)下排閥1出，作為廢水排放?？鞗_洗時(shí)水量要大，時(shí)間約15分鐘。八、進(jìn)氣混合 打開進(jìn)氣閥排氣閥1，其余相關(guān)閥門關(guān)閉。~5分鐘，待柱內(nèi)樹脂顏色一樣時(shí)，停止攪拌，此時(shí)柱內(nèi)陰、陽(yáng)樹脂充分混合均勻?；旌暇鶆蚝笥梅礉B透產(chǎn)水趕走樹脂層中的空氣，直到樹脂不動(dòng)（切忌太慢，防止陰、陽(yáng)樹脂分層），關(guān)好相應(yīng)閥門。 正洗混床再用合格的反滲透出水，按正常工作運(yùn)行流向通入混床，底部排水，出水合格后作為二級(jí)混床進(jìn)入工作系統(tǒng)。 過(guò)濾器操作說(shuō)明 過(guò)濾器操作分為正常工作、反沖洗（水反沖、氣反沖）、正沖洗四部分。1. 正常工作 每次開機(jī)前打開排氣閥，到正常工作時(shí)關(guān)閉，此后為常閉。當(dāng)正常工作時(shí)，閥4打開，閥排氣閥、進(jìn)氣閥關(guān)閉，水流從左邊進(jìn)，經(jīng)過(guò)閥1到過(guò)濾器頂部，然后從過(guò)濾器下部經(jīng)過(guò)閥4出，作為過(guò)濾水進(jìn)入下一個(gè)流程。2. 反沖洗 當(dāng)設(shè)備運(yùn)行一段時(shí)間（約40小時(shí)）后，需對(duì)不銹鋼過(guò)濾器進(jìn)行反沖洗，將過(guò)濾下來(lái)的雜質(zhì)沖出，與反洗水一起排出。反沖洗的操作可分為三步：水反沖5分種、氣反沖5分鐘、水反沖5分鐘；水反沖洗時(shí)，閥3打開，閥排氣閥、進(jìn)氣閥關(guān)閉，水流從左邊進(jìn)，經(jīng)過(guò)閥3到過(guò)濾器下部，然后從過(guò)濾器上部經(jīng)過(guò)閥2出，作為廢水排放；氣反沖洗時(shí)，排氣閥、進(jìn)氣閥打開，閥5關(guān)閉，氣經(jīng)過(guò)進(jìn)氣閥到過(guò)濾器下部，然后從過(guò)濾器上部經(jīng)過(guò)排氣閥出。3. 正沖洗當(dāng)反沖洗完后，需對(duì)不銹鋼過(guò)濾器進(jìn)行正沖洗，時(shí)間為5分鐘。正沖洗時(shí)，閥5打開，閥排氣閥、進(jìn)氣閥關(guān)閉，水流從左邊進(jìn)，經(jīng)過(guò)閥1到過(guò)濾器頂部，然后從過(guò)濾器下部經(jīng)過(guò)閥5出，作為廢水排放。 供水工藝流程圖紫外殺菌器輸送泵純水箱樹脂截留器絮凝劑計(jì)量泵活性碳過(guò)濾器原水箱絮凝劑計(jì)量泵原水泵多介質(zhì)過(guò)濾器高壓泵RO裝置中間增壓泵混床正常工作樹脂再生終端膜過(guò)濾器 過(guò)濾器及混床圖 程序流程圖 控制程序流程圖 開 始打開排氣閥原水箱水位 低 高 停機(jī)工作 絮泵 過(guò)濾器(多介質(zhì)濾器、活性炭濾器)阻泵 高壓泵中間水箱 高 低 中間增壓泵停止工作開混床（開閥上進(jìn)閥出水閥1）（開閥1’ 、上進(jìn)閥1’ 、出水閥1） 混床取樣 低 純水箱輸水泵紫外殺菌器終端膜過(guò)濾器 反沖洗程序流程圖開 始40小時(shí)水濾器(多介質(zhì)濾器、活性炭濾器)水反沖開閥閥3延時(shí)5分鐘關(guān)上面閥過(guò)濾器(多介質(zhì)濾器、活性炭濾器)氣反沖開排氣閥、進(jìn)氣閥延時(shí)5分鐘關(guān)上面閥過(guò)濾器(多介質(zhì)濾器、活性炭濾器)水反沖 開閥閥3延時(shí)5分鐘關(guān)上面閥過(guò)濾器(多介質(zhì)濾器、活性炭濾器)正沖洗 開閥閥5 反回到開過(guò)濾器(多介質(zhì)濾器、活性炭濾器) 開閥閥4混床過(guò)濾器程序流程圖 開始 反沖洗分層 開閥上排閥下進(jìn)閥1延時(shí)10分鐘 關(guān)上面閥陰樹脂再生開進(jìn)堿閥閥下進(jìn)閥中排閥1 延時(shí)30分鐘關(guān)上面閥陽(yáng)樹脂再生開酸閥、閥閥上進(jìn)閥中排閥1延時(shí)30分鐘關(guān)上面閥慢沖洗開閥上進(jìn)閥下進(jìn)閥中排閥130分鐘 關(guān)上面閥快沖洗開閥上進(jìn)閥下排閥1 延時(shí)15分鐘 關(guān)上面閥進(jìn)氣混合開閥1排氣閥1 延時(shí)5分鐘 反 回第四章 控制系統(tǒng)硬件設(shè)計(jì)選型及要求 系統(tǒng)方案設(shè)計(jì)本次設(shè)計(jì)主要是利用三菱微型可編程控制器、觸摸屏軟件來(lái)實(shí)現(xiàn)整個(gè)過(guò)程的自動(dòng)控制和模擬運(yùn)行。系統(tǒng)框圖如下根據(jù)該框圖，系統(tǒng)所需的硬件有:① PLC及擴(kuò)展模塊②人機(jī)界面（觸摸屏）③壓力傳感器、壓力變送器、電接點(diǎn)壓力表、水位傳感器。④PLC用隔離變壓器、低壓電器以及控制柜 (PLC)選型可編程控制器（Programmable Logic Controller）是計(jì)算機(jī)技術(shù)與自動(dòng)化控制技術(shù)相結(jié)合而開發(fā)的一種適用工業(yè)環(huán)境的新型通用自動(dòng)控制裝置，是作為傳統(tǒng)繼電器的替換產(chǎn)品而出現(xiàn)的。它采用一種可編程的存儲(chǔ)器，在其內(nèi)部存儲(chǔ)執(zhí)行邏輯運(yùn)算、順序控制、定時(shí)、計(jì)數(shù)和算術(shù)運(yùn)算等操作的指令，通過(guò)數(shù)字式或模擬式的輸入輸出來(lái)控制各種類型的機(jī)械設(shè)備或生產(chǎn)過(guò)程。PL C是該控制系統(tǒng)的核心部件，合理選擇PLC對(duì)于保證整個(gè)控制系統(tǒng)的技術(shù)指標(biāo)和質(zhì)量至關(guān)重要的。選擇PLC應(yīng)包括PLC機(jī)型、容量等的選擇。PLC機(jī)型選擇機(jī)型選擇的基本原則是在滿足控制功能要求的前提下，保證系統(tǒng)工作可靠，維護(hù)使用方便及最佳的性能價(jià)格比。（1）結(jié)構(gòu)合理對(duì)于工藝比較固定，環(huán)境條件較好，維修量較小的場(chǎng)合，選用整體式結(jié)構(gòu)的PLC。（2）功能強(qiáng)弱適當(dāng)對(duì)于開關(guān)量控制的工程項(xiàng)目，若控制速度要求不高，一般選用低檔的PLC。 PLC容量的選擇PLC容量主要是指是PLC的I/O點(diǎn)數(shù)，I/O點(diǎn)數(shù)也應(yīng)留有適當(dāng)裕量。由于目前I/O點(diǎn)數(shù)較多的PLC價(jià)格也較高，若備用的1/O點(diǎn)是數(shù)量太多，將使成本增加。根據(jù)被控對(duì)象的輸入信號(hào)和輸出信號(hào)的總點(diǎn)數(shù)，并考慮到今后的調(diào)整和擴(kuò)充，通常1/0點(diǎn)數(shù)按實(shí)際需要的考慮留10%15%點(diǎn)數(shù)備用量。根據(jù)系統(tǒng)要求和功能，PLC選用MITSUBISHI公司的FX2N系列FX2N48MR001， FX2N48MR具有豐富的可靈活配置的硬件資源：內(nèi)含時(shí)鐘、PID運(yùn)算、高速計(jì)數(shù)器、顯示器、AC/DC/繼電器內(nèi)置數(shù)字I/O（24路開關(guān)量輸入，24路繼電器輸出），另配置FX0N4AD模擬量模塊，F(xiàn)X2N485BD通信模塊。SC09通信編程器，采用RS485網(wǎng)絡(luò)通信。 控制系統(tǒng)硬件組成控制系統(tǒng)硬件由，F(xiàn)X1N40MR PLC , PC機(jī), 熱繼電器, 交流接觸器, 低壓斷路器等組成。 FXCPUFX2NC可編程控制器FX系列是由電源，CPU、存儲(chǔ)器、輸入輸出器組成的，單元型可編程控制器，基本單元和擴(kuò)展單元采用了
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