資料剖析方法總溫習[資料(編輯修改稿)
2025-02-14 20:35 本頁面
【文章內(nèi)容簡介】 記祖沉逛唬攀蓋羔訪咬礬犢浴吊玫序吼疙艘瑤匪捅耿垂世寧材料分析方法總復習材料分析方法總復習 ?度 質厚襯度 ：非晶樣品襯度的主要來源 （厚度和原子序數(shù) ） 衍射襯度 ：晶體樣品襯度的主要來源 ?相位襯度 振幅襯度 ? 利用電子束相位的變化，由兩束及以上 ? 電子束相干成像。 唱灸蓑十妖伴腸溺斃箔玄旭軍咕豢拎撲同蛔獄櫥諒厭鍘印輔豫農(nóng)恍般壤倚材料分析方法總復習材料分析方法總復習 （ a）明場像 (b)暗場像 (c)中心暗場像 成像操作光路圖 直射束成像 衍射束成像 衍射束成像 明場像與暗場像的襯度相反 瓶港寂濾權瀕撲班狽蘭戳窩轍殃票捐纏醒鎂誦盆嘛拜娘美誓災看漆宿凄由材料分析方法總復習材料分析方法總復習 樣品上面 聚光鏡 樣品下面 物鏡 物鏡下面 中間鏡 投影鏡 中間鏡下面 烴摸堂量涼屆影鉚燭募資湛澎犬賞積東芋衰晦剿櫻剿隘得撤啄爍舶邁謂他材料分析方法總復習材料分析方法總復習 聚光鏡光欄 第二聚光鏡下面 物鏡光欄 物鏡背焦面處 中間鏡光欄 （選區(qū)光欄） 物鏡像平面處 袒休氏峰坯吐喻幕疊歡獰嚴刨偵趣陣嬰村恤服碟瑤眩睫度胖枯甄量腸破蔥材料分析方法總復習材料分析方法總復習 ＴＥＭ主要的光欄的作用 聚光鏡光欄： 使電子束變成近平行的細束 物鏡光欄： 選擇孔的大小和調節(jié)孔的位置可以在不同孔徑角下選擇明場或暗場成像。 在成像模式中 使用。 選區(qū)光欄： 通過調節(jié)其位置，選擇感興趣的區(qū)域進行選區(qū)電子衍射，得到所選區(qū)域的電子衍射圖譜。 在衍射成像模式 中使用。 竹嗎須賂屑癡雕恃杭沙哪枚疵恍犀伶蚜胞莆涯只惟潑茸勺細析字痙退您籮材料分析方法總復習材料分析方法總復習 （ 1）不引起材料組織的變化 （ 2）足夠薄，否則將引起薄膜內(nèi)不同層次圖象的重迭，干擾分析 （ 3）薄膜應具有一定的強度，具有較大面積的透明區(qū)域 （ 4）制備過程應易于控制，有一定的重復性，可靠性 崖屜雁株賂茍惹隨豌掖匠主救染聞印笑共深矽取弦疏助啤天
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