半導體業(yè)廢水處理流程(編輯修改稿)
2025-06-19 06:21 本頁面
【文章內容簡介】 酸pH調整槽 氟酸沉澱槽 氟酸混凝槽 氟酸最終槽 氟酸膠凝槽 CMP膠凝槽 CMP混凝槽 CMP反應槽 汙泥脫水槽 CMP最終槽 CMP沉澱槽 汙泥濃縮槽 放流 汙泥 15 濃酸 儲存槽 放流 水槽 有機廢水儲存槽 最終 中和槽 第二 中和槽 第一 中和槽 稀酸 儲存槽 稀鹼 儲存槽 濃鹼 儲存槽 薄膜反應生物槽 氟酸反應槽 濃氟酸儲存槽 稀氟酸儲存槽 CMP儲存槽 氟酸pH調整槽 氟酸沉澱槽 氟酸混凝槽 氟酸最終槽 氟酸膠凝槽 CMP膠凝槽 CMP混凝槽 CMP反應槽 汙泥脫水槽 CMP最終槽 CMP沉澱槽 汙泥濃縮槽 放流 汙泥 16 HF ?含有高濃度的 HF ?分三個處理程序 : 反應槽 混凝槽 膠凝槽 HF 17 ?半導體產業(yè)使用許多化學藥劑，其中在蝕刻機臺需要大量的 HF，用來清洗、刻畫晶片、爐管清洗 ...等，因為 HF是強酸，可溶解矽石，接著這些水排出，即是含高濃露 HF廢水 ?進入前三個程序前，先將 HF廢水分為濃 HF跟稀 HF，接著加入 NaOH或 H2SO4調整 pH值，為符合放流標準 ?反應槽 :加入 CaCl2使 Ca跟 F產生 CaF2沉澱，減少 F離子濃度。 ?混凝槽 :加入 PAC(混凝劑 ) ?膠凝槽 :加入高分子聚合物 ?形成膠羽 ?沉澱 18 濃酸 儲存槽 放流 水槽 有機廢水儲存槽 最終 中和槽 第二 中和槽 第一 中和槽 稀酸 儲存槽 稀鹼 儲存槽 濃鹼 儲存槽 薄膜反應生物槽 氟酸反應槽 濃氟酸儲存槽 稀氟酸儲存槽 CMP儲存槽 氟酸pH調整槽 氟酸沉澱槽 氟酸混凝槽 氟酸最終槽 氟酸膠凝槽 CMP膠凝槽
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