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正文內(nèi)容

答復(fù)審查意見通知書(編輯修改稿)

2025-06-17 21:09 本頁面
 

【文章內(nèi)容簡介】 根據(jù)權(quán)利要求 4所述的微波爐 , 旋轉(zhuǎn)天線具有定向特征 , 并產(chǎn)生平面微波場 。 根據(jù)權(quán)利要求 5或 6所述的微波爐 , 旋轉(zhuǎn)天線通過經(jīng)由反射器延伸到波導(dǎo)管中的耦合傳感器耦合到波導(dǎo)管 。 根據(jù)權(quán)利要求 1或 2或 3所述的微波爐 , 旋轉(zhuǎn)天線通過經(jīng)由反射器延伸到波導(dǎo)管中的耦合傳感器耦合到波導(dǎo)管 。 根據(jù)權(quán)利要求 7所述的微波爐 , 耦合傳感器構(gòu)成旋轉(zhuǎn)天線在反射器絕緣襯套中的一根旋轉(zhuǎn)軸 , 該絕緣襯套支撐旋轉(zhuǎn)天線 。 根據(jù)權(quán)利要求 8所述的微波爐 , 耦合傳感器構(gòu)成旋轉(zhuǎn)天線在反射器絕緣襯套中的一根旋轉(zhuǎn)軸 , 該絕緣襯套支撐旋轉(zhuǎn)天線 。 1 根據(jù)權(quán)利要求 9或 10所述的微波爐 , 旋轉(zhuǎn)天線裝有渦輪葉片 。 1 根據(jù)權(quán)利要求 11所述的微波爐 , 旋轉(zhuǎn)天線由直接導(dǎo)向渦輪葉片的氣流驅(qū)動旋轉(zhuǎn) 。 1 根據(jù)權(quán)利要求 12所述的微波爐 , 該微波爐配置有一個(gè)提供驅(qū)動旋轉(zhuǎn)天線旋轉(zhuǎn) 、 冷卻爐子發(fā)熱部件和排出烹調(diào)蒸汽用氣流的鼓風(fēng)機(jī) 。 1 根據(jù)權(quán)利要求 1或 5或 6或 9或 10或 12或 13所述的微波爐 , 旋轉(zhuǎn)天線是通過波導(dǎo)管與微波發(fā)生器耦合的 。 1 根據(jù)權(quán)利要求 4所述的微波爐 , 旋轉(zhuǎn)天線是通過波導(dǎo)管與微波發(fā)生器耦合的 。 1 根據(jù)權(quán)利要求 7所述的微波爐 , 旋轉(zhuǎn)天線是通過波導(dǎo)管與微波發(fā)生器耦合的 。 1 根據(jù)權(quán)利要求 8所述的微波爐 , 旋轉(zhuǎn)天線是通過波導(dǎo)管與微波發(fā)生器耦合的 。 1 根據(jù)權(quán)利要求 11所述的微波爐 , 旋轉(zhuǎn)天線是通過波導(dǎo)管與微波發(fā)生器耦合的 。 1 根據(jù)權(quán)利要求 14所述的微波爐 , 所述波導(dǎo)管的縱截面呈漸縮形 。 根據(jù)權(quán)利要求 1 1 1 18所述的微波爐 , 所述波導(dǎo)管的縱截面呈漸縮形 。 2 根據(jù)權(quán)利要求 19所述的微波爐 , 所述波導(dǎo)管是與爐膛壁和反射器組合成一體 , 由二塊金屬薄板制成 。 2 根據(jù)權(quán)利要求 20所述的微波爐 , 所述波導(dǎo)管是與爐膛壁和反射器組合成一體 , 由二塊金屬薄板制成 。 意見陳述書(正文) 審查員: 申請人對第一次審查意見通知書中涉及的相關(guān)問題作如下陳述并與審查員商榷: 申請人同意審查員引用的對比文獻(xiàn) Ⅲ 為本發(fā)明專利申請最相關(guān)的已有技術(shù) , 承認(rèn)該對比文獻(xiàn) Ⅲ 也公開了一個(gè)凹面反射器 ( 凹槽 20) 。 但必須注意的是:該反射器 (凹槽 20) 與本發(fā)明專利申請的反射器 ( 22) 其構(gòu)形是完全不同的 , 兩者的功能也是截然相反的 。 根據(jù)審查意見 , 申請人依法提交了修改的申請文本一式兩份 ( 附 錄 十 ) , 以替換原申請文本 。 修改的權(quán)利要求 1體現(xiàn)的技術(shù)方案與三篇對比文獻(xiàn) ( 包括審查員引用的對比文獻(xiàn) Ⅲ ) 公開的技術(shù)方案相比 , 已符合中國專利法第二十二條規(guī)定的授予發(fā)明創(chuàng)造專利權(quán)應(yīng)具備新穎性 、 創(chuàng)造性和實(shí)用性的條件 。 在這里特別應(yīng)注意的是:申請人以原申請文本記載的技術(shù)內(nèi)容為依據(jù) , 在修改的權(quán)利要求 1中指出了本發(fā)明專利申請的 “ 反射器 ( 22) 的構(gòu)形能使反射器所反射的微波能量集中到爐膛中心的特定區(qū)域 , 使微波能量直接輻射到待加熱的食物上 ” ;以對比文獻(xiàn) Ⅲ 劃界使之修改的權(quán)利要求 1與專利法實(shí)施細(xì)則第二十二條規(guī)定更為貼切;在說明書的背景技術(shù)部分補(bǔ)入對對比文獻(xiàn) Ⅲ 的客觀評述 , 從而提出了本發(fā)明專利申請所要解決的技術(shù)問題 。 這樣的修改望得到審查員的依法認(rèn)可 ( 審查指南第二部分第 2128頁第四段 ) 。 經(jīng)修改的權(quán)利要求 1限定的本發(fā)明與對比文獻(xiàn) Ⅲ 相比 , 具有新穎性和創(chuàng)造性的理由陳述如下: 對比文獻(xiàn) Ⅲ 所提供的反射器或凹槽 ( 20) 是要保證 “ 微波場達(dá)到整個(gè)爐膛 ” , 并且該微波場是一個(gè) “ 廣泛分布的旋轉(zhuǎn) ” 場 。 為了達(dá)到這一目的 , 需要在凹槽中產(chǎn)生多次反射以取得散射效果 。 換句話說 , 就是要盡量避免微波僅僅被凹槽反射一次并且集中在爐膛的一個(gè)單一區(qū)域 。
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