【文章內(nèi)容簡(jiǎn)介】 小相同。 ? 所有實(shí)例放置在同一曲面上。 ? 沒(méi)有與放置曲面邊、任何其它實(shí)例邊或放置曲面以外任何特征的邊相交的實(shí)例。 這三種選項(xiàng)中相同陣列再生最快 。對(duì)于相同陣列，系統(tǒng)生成第一個(gè)特征，然后完全復(fù)制包括所有交截在內(nèi)的特征。 注意 ：在相同陣列中，系統(tǒng)不對(duì)陣列中的實(shí)例間是否存在重疊進(jìn)行檢查。這種檢查會(huì)減慢陣列的再生，并無(wú)法利用使用相同陣列的優(yōu)點(diǎn)。必須自己對(duì)重疊情況進(jìn)行檢查。如不想自己檢查，可使用一般陣列。 變化陣列 :變化陣列比相同陣列要復(fù)雜得多。系統(tǒng)對(duì)變化陣列做如下假設(shè)： 實(shí)例大小可變化。 實(shí)例可放置在不同曲面上。 沒(méi)有實(shí)例與其它實(shí)例相交。 對(duì)于變化陣列， Pro/ENGINEER 分別為每個(gè)特征生成幾何，然后一次生成所有交截。 變化陣列與零件幾何相 交，作為一個(gè)完整的組。其結(jié)果是，如果要在延伸到下一個(gè)曲面的特征上使用變化陣列，將只有一個(gè)創(chuàng)建方向用來(lái)確定下一個(gè)曲面，從而會(huì)得到不希望的結(jié)果。為避免這種情況，對(duì)于延伸到下一個(gè)曲面的特征，只能使用一般或相同陣列。 一般陣列 :一般陣列允許創(chuàng)建極復(fù)雜的陣列。系統(tǒng)對(duì)一般特征的實(shí)例不做假設(shè)。因此， Pro/ENGINEER 計(jì)算每個(gè)單獨(dú)實(shí)例的幾何，并分別對(duì)每個(gè)特征求交。 特征陣列后，可用該選項(xiàng)使特征與其它實(shí)例接觸、自交，或與曲面邊界交叉。即使實(shí)例與基礎(chǔ)特征內(nèi)部相交，并且該交截不可見(jiàn)，也需要進(jìn)行一般陣列。 示例：陣列 陣列方向 單向 1； 雙向 :方向 1； 方向 2 線性 陣列 陣列配置 旋轉(zhuǎn) 陣列 關(guān)于陣列用戶界面 “陣列 ”用戶界面由下列項(xiàng)目組成： 特征圖標(biāo) ； 對(duì)話欄 ； 上滑面板 ； 快捷菜單 特征圖標(biāo) :陣列在 “編輯特征 ”工具欄中由 圖標(biāo)指示，在模型樹(shù)中由 圖標(biāo)指示。 對(duì)話欄 :“陣列 ”對(duì)話欄包含陣列類型的下拉列表框： ? 尺寸 ―― 通過(guò)使用驅(qū)動(dòng)尺寸并指定陣列的增量變化來(lái)創(chuàng)建陣列。尺寸陣列可以為單向或雙向。 ? 表 ―― 通過(guò)使用陣列表并為每一陣列實(shí)例指定尺寸值來(lái)創(chuàng)建陣列。 ? 參照 ―― 通過(guò)參照另一陣列來(lái)創(chuàng)建陣列。 ? 填充 ―― 通過(guò)根據(jù)選定柵格用實(shí)例填充區(qū)域來(lái)創(chuàng)建陣列。 對(duì)話欄的其它內(nèi)容取決于所選的陣列類型。 對(duì)于 “尺寸 ”陣列， “陣列 ”對(duì)話欄包含以下選項(xiàng)： ? 陣列第一方向的用戶界面，用號(hào)碼 1 標(biāo)識(shí)： o 包含陣列第一方向成員數(shù)量的文本框，包括陣列導(dǎo)引。缺省為 2?？涉I入任意數(shù)值。為此方向中的陣列選取至少一個(gè)尺寸后，此文本框即可用。 o 陣列第一方向的尺寸收集 器。單擊收集器將其激活，然后選取尺寸。 ? 類似地，陣列第二方向的用戶界面（可選）用號(hào)碼 2 標(biāo)識(shí)： o 包含陣列第二方向成員數(shù)量的文本框。 o 陣列第二方向的尺寸收集器。 對(duì)于 “表 ”陣列， “陣列 ”對(duì)話欄包含以下選項(xiàng)： ? 要在陣列表中包含的尺寸的收集器。單擊收集器將其激活，然后選取尺寸。 ? “活動(dòng)表 ”列表 ―― 可以來(lái)選取活動(dòng)表?；顒?dòng)表即為驅(qū)動(dòng)陣列的表。此列表初始僅包含一個(gè)表。使用 “表 ”上滑面板可創(chuàng)建其它表。 ? “編輯 ”命令 可用來(lái)編輯活動(dòng)表。 對(duì)于 “參照 ”陣列， “陣列 ”對(duì)話欄包含 “參照類型 ”下拉列表。僅當(dāng)陣列是被陣列的組的一部分時(shí)，此列表才可用。其中的選項(xiàng)允許參照特征陣列、組陣列或同時(shí)參照兩者。 對(duì)于 “填充 ”陣列， “陣列 ”對(duì)話欄包含以下選項(xiàng)： ? 允許草繪將由陣列填充的區(qū)域。 ? 草繪截面收集器將指示將由陣列填充的區(qū)域。只能包含一個(gè)草繪。 ? 可用來(lái)為陣列選取柵格模板： o 正方形 ―― 以正方形陣列分隔成員。 o 菱形 ―― 以菱形陣列分隔成員。 o 三角形 ―― 以三角形陣列分隔成員。 o 圓 ―― 以圓形陣列分隔成員。 o 曲線 ―― 沿填充區(qū)域邊界分隔成員。 o 螺旋 ―― 以螺旋形陣列分隔成員。 ? 設(shè)置陣列成員中心間的間距。 ? 設(shè)置陣列成員中心和草繪邊界之間的最小距離。負(fù)值允許中心位于草繪之外。 ? 設(shè)置柵格繞原點(diǎn)的旋轉(zhuǎn)。 ? 設(shè)置圓形或螺旋柵格的徑向間距。 上滑面板 :“陣列 ”操控板中顯示下列上滑面板： ? 尺寸 ―― 包含在第一和第二方向進(jìn)行陣列所用的尺寸收集器。此上滑面板僅可用于 “尺寸 ”陣列。 ? 表尺寸 ―― 包括在陣列表中所含的尺寸的收集器。此上滑面板僅可用于 “表 ”陣列。 ? 參照 ―― 包含用于陣列的草繪名稱。此上滑面板僅可用于 “填充 ”陣列。 ? 表 ―― 包含用于陣列的表收集器。此上滑面板僅可用于 “表 ”陣列。 ? 選項(xiàng) ―― 包含陣列再生選項(xiàng)。 ? 屬性 ―― 包含特征名稱和用于訪問(wèn)特征信息的圖標(biāo)。 尺寸 ―― 上滑面板包含下列元素： ? “方向 1”收集器 包含陣列第一方向所用的尺寸和增量。要?jiǎng)?chuàng)建陣列，必須至少包括一個(gè)尺寸并指定增量。也可使用下列選項(xiàng)控制尺寸增量： o “按關(guān)系定義增量 ”復(fù)選框 允許使用關(guān)系（而不使用常數(shù)值）來(lái)定義尺寸增量。 o “編輯 ”按鈕 可用來(lái)編輯驅(qū)動(dòng)所選尺寸增量的關(guān)系。此按鈕僅當(dāng)選中 “按關(guān)系定義增量 ”復(fù)選框時(shí)可用。 ? “方向 2”收集器 包含陣列第二方向所用的尺寸和增量。如果要?jiǎng)?chuàng)建雙向陣列，請(qǐng)使用此收集器。此收集器還通過(guò)使用關(guān)系 與指定尺寸增量的控制建立關(guān)聯(lián)，與 “尺寸 1”收集器類似。要激活 “方向 2”收集器，可使用快捷菜單（右鍵單擊）中的 “方向 2 尺寸 ”選項(xiàng)。 “表尺寸 ”―― 上滑面板包含要包括在陣列表中的尺寸的收集器。 “參照 ”―― 上滑面板包含用于定義陣列 “填充 ”區(qū)域的草繪收集器。 “表 ”―― 上滑面板包含用于陣列的表收集器。每行包含一個(gè)表索引項(xiàng)（從 1 開(kāi)始）及相關(guān)的表名稱?？赏ㄟ^(guò)鍵入新名稱更改表名。如果在收集器中的表索引項(xiàng)上右鍵單擊，出現(xiàn)的快捷菜單中包含以下命令： ? 添加 ―― 可用來(lái)編輯陣列的另一個(gè)表。退出編輯器時(shí)，新表即 添加至收集器列表的底部。 ? 移除 ―― 從收集器中移除選定表。 ? 應(yīng)用 ―― 激活所選的表?；顒?dòng)表即為驅(qū)動(dòng)陣列的表。 ? 編輯 ―― 可用來(lái)編輯所選的表。編輯表時(shí)，可使用 “文件 ”下的相應(yīng)選項(xiàng)，將其以 .ptb 文件格式保存到磁盤(pán)，或向表中讀入先前保存的 .ptb 文件。完成編輯表后，單擊 “文件 ”“退出 ”。表即保存到陣列中。 ? 讀取 ―― 用來(lái)讀取先前保存的陣列表（ .ptb 文件）。 ? 寫(xiě)入 ―― 用來(lái)保存所選陣列表。該表保存在當(dāng)前工作目錄下名為 表名稱 .ptb 的文件中，其中 表名稱 是陣列表的名稱。 選項(xiàng) 上滑面板包含以下陣列再生選項(xiàng)： ? 相同 ―― 系統(tǒng)假定所有的陣列成員尺寸相同，放置在相同的曲面上，彼此之間或與零件邊界不相交。 ? 可變 ―― 系統(tǒng)假定陣列成員的尺寸可以不同或者可放置在不同的曲面上，但彼此之間或與零件邊界不能相交。 ? 一般 ―― 此為缺省設(shè)置。系統(tǒng)對(duì)陣列成員不做任何假定。 “屬性 ”上滑面板包含 “名稱 ”文本框，可在其中為陣列特征鍵入定制名稱，以替換自動(dòng)生成的名稱。它還包含 圖標(biāo)，可單擊它以顯示關(guān)于特征的信息。 快捷菜單 :在圖形窗口內(nèi)的任意位置右鍵單擊，可訪問(wèn) “陣列 ”(Pattern) 快捷菜單，其中包含以下命令： ? 方向 1 尺寸 ―― 激活陣列第一方向所用的尺寸收集器。僅 “尺寸 ”陣列可用。 ? 方向 2 尺寸 ―― 激活陣列第二方向所用的尺寸收集器。僅 “尺寸 ”陣列可用。 ? 清除 ―― 從當(dāng)前活動(dòng)的收集器中移除所有參照。僅 “尺寸 ”和 “表 ”陣列可用。 ? 顯示尺寸 ―― 顯示被陣列特征的尺寸（如在重畫(huà)屏幕后）。 創(chuàng)建尺寸陣列 :程描述如何通過(guò)使用驅(qū)動(dòng)尺寸和將增量更改指定給陣列來(lái)陣列化特征。尺寸陣列可以為單向或雙向。 1. 選取要陣列的特征，然后在 “編輯特征 ”工具欄中單擊 。 “陣列操控板 ”打開(kāi)，缺省陣列類型設(shè)置為 “尺寸 ”。在 第一方向用于陣列的尺寸收集器被激活。 2. 在第一方向選取用于陣列的尺寸。圖形窗口中的組合框打開(kāi)，其中尺寸增量的初始值等于尺寸值。鍵入或選取一個(gè)值作為尺寸增量。 注意： 指定后尺寸增量將無(wú)法通過(guò)圖形窗口進(jìn)行訪問(wèn)。要對(duì)其進(jìn)行修改可使用 “尺寸 ”上滑面板中相應(yīng)的 “增量 ”字段。 3. 要在第一方向選取用于陣列的多個(gè)尺寸，可按住 control 鍵。為每個(gè)選定尺寸指定增量。 4. 在對(duì)話欄（位于標(biāo)簽 1 和第一方向上用于陣列的尺寸收集器之間）的文本框中鍵入第一方向（包括陣列導(dǎo)引）的陣列成員數(shù)。缺省陣列成員數(shù)為 2。 5. 要?jiǎng)?chuàng)建雙向陣列，可單 擊第二方向上用于陣列的尺寸收集器將其激活，然后選取尺寸、指定尺寸增量，并在文本框中鍵入第二方向陣列成員數(shù)，此文本框位于標(biāo)簽 2 和第二方向用于陣列的尺寸收集器之間。 6. 在對(duì)話欄中，單擊 。系統(tǒng)將陣列選定的特征。 改變實(shí)例的位置和大小 :下圖說(shuō)明在創(chuàng)建孔的 “尺寸 ”陣列時(shí)，如何改變實(shí)例的位置和大?。? ? 要水平地定位孔，選取 d5 作為驅(qū)動(dòng)尺寸并為 d6 輸入數(shù)值（增量尺寸）。 ? 要垂直地定位孔，選取 d4 作為驅(qū)動(dòng)尺寸并為 d7 輸入數(shù)值（增量尺寸）。 ? 要改變直徑，選取 d3 作為驅(qū)動(dòng)尺寸并輸入直徑 (d8 d3) 增量值。 ? 輸入此方向上的實(shí)例總數(shù)（包括原始實(shí)例）。 使用雙向陣列定位行和列中的實(shí)例。 在尺寸陣列中使用負(fù)增量 :增量的正負(fù)值確定陣列實(shí)例的添加方向： 1 圖 正增量使系統(tǒng)在與放置初始特征相同的方向上放置實(shí)例。 2 圖 負(fù)增量則反轉(zhuǎn)此方向 可通過(guò)指定負(fù)增量來(lái)反轉(zhuǎn)向陣列導(dǎo)引添加實(shí)例的方向。 在尺寸陣列中使用關(guān)系 可使用關(guān)系驅(qū)動(dòng)陣列增量。當(dāng)選取尺寸在特定方向上驅(qū)動(dòng)陣列并指定尺寸增量時(shí)，可為該增量添加關(guān)系。這允許增量值相對(duì)于陣列的每一實(shí)例而變化。在陣列關(guān)系中可以使用下列陣列參數(shù)： ? LEAD_V 導(dǎo)引值（方才選取用以確定方向的尺寸）的參數(shù)符號(hào) ? MEMB_V 相對(duì)于陣列導(dǎo)引的參照?qǐng)D元定位實(shí)例的參數(shù)符號(hào) ? MEMB_I 相對(duì)于前一實(shí)例定位實(shí)例的參數(shù)符號(hào) ? IDX1 和 IDX2 陣列實(shí)例索引值，這些值對(duì)于每一個(gè)經(jīng)過(guò)計(jì)算的陣列實(shí)例是遞增的。 注意： MEMB_V 和 MEMB_I 是互相排斥的 兩者不能同時(shí)出現(xiàn)在同一陣列關(guān)系中。 示例：創(chuàng)建單向線性陣列 本示例顯示如何創(chuàng)建單向孔陣列。原始零件如下圖所示。 1. 選取 “孔 ”特征，然后在 “編輯特征 ”工具欄中單擊 。系統(tǒng)將顯示控制此 “孔 ”特征的尺寸。 2. 選取尺寸 (1)，它控制著孔軸到零件左邊的距離，如下圖所示。 3. 圖形窗口中的組合框打開(kāi)，其中顯示初始值為 3（尺寸值）的尺寸增量。鍵入 7 作為尺寸增量。 4. 要在第一方向指定陣列成員數(shù)，可在對(duì)話欄的文本框中鍵入 3，該對(duì)話欄位于標(biāo)簽 1 和第一方向上用于陣列的尺寸收集器之間。在對(duì)話欄中，單擊 。 5. 系統(tǒng)將陣列此孔（如下圖所示）。 示例：創(chuàng)建雙向線性陣列 本示例顯示如何創(chuàng)建雙向陣列。原始零件如下圖所示。 1. 選取伸出項(xiàng) (1)，然后在 “編輯特征 ”工具欄中單擊 。系統(tǒng)將顯示控制選定特征的尺寸。 2. 在第一方向，選取尺寸 (1)，它控制著伸出項(xiàng)到零件左邊的距離（如下圖所示）。 3. 圖形窗口中的組合框打開(kāi)，其中顯示初始值為 （尺寸值）的尺寸增量。鍵入 作為尺寸增量。 4. 要在第一方向指定陣列成員數(shù)，可在對(duì)話欄的文本框中鍵入 6，該對(duì)話欄位于標(biāo)簽 1 和第一方向上用于陣列的尺寸收集器之間。 5. 單擊第二方向上用于陣列的尺寸收集器。選尺寸 (2)，它控制伸出項(xiàng)與零件前邊間的距離。鍵入 寸增量。 6. 按住 CTRL 鍵選取尺寸 (3)，它控制著伸出項(xiàng)的高度。鍵入 1 作為尺寸增量。 7. 要在第二方向上指定陣列成員數(shù)，可在對(duì)話欄的文本框中鍵入 3，該對(duì)話欄位于標(biāo)簽 2 和第二方向上用于陣列的尺寸收集器之間。 8. 在對(duì)話欄中，單擊 。系統(tǒng)將創(chuàng)建陣列，如下圖所示。 示例：創(chuàng)建孔的旋轉(zhuǎn)陣列 要?jiǎng)?chuàng)建孔的旋轉(zhuǎn)陣列，可使用 “半徑 ”放置選項(xiàng)來(lái)放置孔。這樣，孔便具有了控制其位置的角度尺寸，用戶可使用此尺寸形成陣列（如本例所示）。 1. 創(chuàng)建第一個(gè)孔。選取圓盤(pán)的頂部曲面作為孔放置的主參照。打開(kāi) “放置 ”上滑面板，選取 “半徑 ”作為放置選項(xiàng)，單擊 “從參照 ”收集器，然后選取中心軸和 FRONT 基 準(zhǔn)平面作為從參照（如下圖所示）。 2. 選取 “孔 ”特征，然后在 “編輯特征 ”工具欄中單擊 。系統(tǒng)將顯示控制此 “孔 ”特征的尺寸。 3. 選取角度尺寸（ 度），然后鍵入 60 作為尺寸增量。 4. 要指定陣列成員數(shù)，可在對(duì)話欄的文本框中鍵入 6，該對(duì)話欄位于標(biāo)簽 1 和第一方向上用于陣列的尺寸收集器之間。 5. 在對(duì)話欄中，單擊 。系統(tǒng)將陣列此孔（如下圖所示）。 示例：創(chuàng)建草繪特征的旋轉(zhuǎn)陣列 要為某個(gè)特征創(chuàng)建旋轉(zhuǎn)陣列，此特征必須具有角度放置尺寸。使用成某個(gè)角度的基準(zhǔn)平面作為創(chuàng)建草繪特征的草繪或參照平面。然后使用此基準(zhǔn)平面的角度尺寸創(chuàng)建旋轉(zhuǎn)陣列。 本示例顯