【正文】 理的是云南大學(xué)物理科學(xué)技術(shù)學(xué)院2020級(jí)的學(xué)生，今年大二。如何能夠保證貧困學(xué)生順利完成學(xué)業(yè)也是我們的工作重點(diǎn)之一。為了使我院經(jīng)濟(jì)困難學(xué)生安心學(xué)習(xí)，幫助他們順利完成學(xué)業(yè)，學(xué)院對(duì)他們給予適當(dāng)?shù)睦щy補(bǔ)助。
（五）長(zhǎng)期進(jìn)行安全教育
安全教育是我們要長(zhǎng)期進(jìn)行的一項(xiàng)工作，雖然學(xué)生都已經(jīng)大二，但仍要時(shí)時(shí)刻刻提醒學(xué)生。
三、不足之處
在平日的工作中，事務(wù)性工作較多，缺少系統(tǒng)的理論學(xué)習(xí)；
對(duì)學(xué)生的引導(dǎo)作用還不夠，學(xué)生中存在的厭學(xué)、不團(tuán)結(jié)等現(xiàn)象不能夠完全杜絕。
？
濺射是指荷能粒子轟擊固體表面（靶），使固體原子或者分子從表面射出的現(xiàn)象。（4）可鍍材質(zhì)范圍廣泛（5）有利于化合物膜層的形成（6）淀積速率高，成膜速率快，可鍍較厚的膜。
特點(diǎn)：主要問(wèn)題是源物質(zhì)的選擇和確定分解溫度。關(guān)鍵環(huán)節(jié)：反應(yīng)器材料選擇、裝料壓力計(jì)算、溫度選擇和控制等。 種類：x型膜（薄膜每層分子的親油基指向基片表面）、y型膜（薄膜每層分子的親水基與親水基相連，親油基與親油基相連）、z型膜（薄膜每層分子的親水基指向基片表面）
優(yōu)點(diǎn)：lb薄膜中分子有序定向排列,這是一個(gè)重要特點(diǎn)。
原子聚集理論將核（原子團(tuán)）看作一個(gè)大分子聚集體，用其內(nèi)部原子之間的結(jié)合能或與基片表面原子之間的結(jié)合能代替熱力學(xué)理論中的自由能。
（3）掃描電子顯微鏡分析法。此資料由網(wǎng)絡(luò)收集而來(lái)，如有侵權(quán)請(qǐng)告知上傳者立即刪除。
？基本原理是什么？
（1）x射線衍射法?？尚纬稍訉?duì)或更大的原子團(tuán)，從而達(dá)到完全凝結(jié)。由于多孔性使得表面積特別大，所以顯示明顯的活性，既可吸附染料也可吸附氣體；化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定的超硬薄膜耐磨損性強(qiáng)，用封孔處理法可將孔隙塞住，使薄膜具有更好耐蝕性和絕緣性；利用著色法可以使膜具有裝飾效果。管壁有反應(yīng)物沉積，易剝落造成污染。熱力學(xué)分析可作為確定cvd工藝參數(shù)的參考
？?gr與反應(yīng)系統(tǒng)的化學(xué)平衡常數(shù) kp 有關(guān)。由大口徑離子束發(fā)生源引出惰性氣體，使其照射在靶上產(chǎn)生建設(shè)作用，利用濺射出的粒子淀積在基片上制得薄膜。
（5）生長(zhǎng)速率低，有利于實(shí)現(xiàn)精確控制厚度、結(jié)構(gòu)與成分和形成陡峭異質(zhì)結(jié)
（6）可用多種分析儀器實(shí)時(shí)觀察生長(zhǎng)面上的成分、結(jié)構(gòu)和生長(zhǎng)過(guò)程，有利于科學(xué)研究
？監(jiān)控方法？膜厚的定義，應(yīng)該根據(jù)測(cè)量的方法和目的來(lái)決定。同時(shí)對(duì)各項(xiàng)優(yōu)秀的評(píng)選辦法進(jìn)行了完善和補(bǔ)充，使評(píng)選工作更能有章可循。作為輔導(dǎo)員，我能夠與學(xué)生之間建立有效的信息溝通渠道，通過(guò)全體學(xué)生班會(huì)、班委會(huì)、走訪宿舍、與學(xué)生個(gè)別談心等方式，及時(shí)掌握了解學(xué)生的思想、生活動(dòng)態(tài)，加強(qiáng)與他們的溝通交流，真正做到班級(jí)的各項(xiàng)事務(wù)“公平、公正、公開”。
勤工助學(xué)。通過(guò)問(wèn)卷調(diào)查，發(fā)現(xiàn)學(xué)生中出現(xiàn)較多的心理問(wèn)題有偏執(zhí)型人格、學(xué)業(yè)困難、焦慮、抑郁、心理危機(jī)。守護(hù)祖國(guó)的花朵的教師是一棵棵大樹，向上吸收著養(yǎng)分，向下也滋潤(rùn)著身邊的學(xué)生。為了上好一節(jié)課，我上網(wǎng)查資料，集中別人的優(yōu)點(diǎn)，確定自己的教學(xué)思路。
面對(duì)今天取得的成績(jī)，本人并沒有滿足。教學(xué)中我不斷調(diào)整自己的角色和行為，使自己成為學(xué)生發(fā)展的引導(dǎo)者和促進(jìn)者，給學(xué)生動(dòng)手實(shí)際操作的機(jī)會(huì)，參與到獲得知識(shí)的過(guò)程中。邊工作邊研究，針對(duì)實(shí)際，確定課題，做有意義的教學(xué)探索，致力于教學(xué)改革，較大幅度的提高了教學(xué)質(zhì)量，成為了一個(gè)研究型的物理教師。
例如，在學(xué)習(xí)《眼睛》時(shí)，利用計(jì)算機(jī)課件提供的模擬環(huán)境，讓學(xué)生感受晶狀體調(diào)節(jié)的功能。教物理時(shí)必須面向全體學(xué)生，使學(xué)生獲得基本的物理知識(shí)和概念。本人在課堂上不但引導(dǎo)學(xué)生學(xué)習(xí)知識(shí)、培養(yǎng)能力，而且把培養(yǎng)學(xué)生高尚的道德情操和健康的審美情趣，教育學(xué)生形成正確的價(jià)值觀和積極的人生態(tài)度，巧妙的融于教學(xué)內(nèi)容當(dāng)中。
一、 思想方面： 作為一名中國(guó)共產(chǎn)黨黨員教師我一直積極參加政治學(xué)習(xí)，關(guān)心國(guó)家大事，堅(jiān)持四項(xiàng)基本原則，擁護(hù)黨的各項(xiàng)方針政策。生活中團(tuán)結(jié)師生，相處較為融洽。大學(xué)時(shí)間相對(duì)充裕，學(xué)生們各方面的積極性都很高，他們需要一個(gè)舞臺(tái)來(lái)表現(xiàn)自己，展示自己。
國(guó)家獎(jiǎng)助學(xué)金。在增強(qiáng)班級(jí)學(xué)風(fēng)的同時(shí)，讓學(xué)生意識(shí)到這些知識(shí)對(duì)于步入社會(huì)的必要性與重要性。
宿舍是學(xué)生在大學(xué)內(nèi)停留時(shí)間最長(zhǎng)的地點(diǎn)之一，也是學(xué)生之間交流的場(chǎng)所，許多矛盾和問(wèn)題也由此產(chǎn)生。
？
克克方程dp??dth?，可以知道飽和蒸氣壓和溫度的關(guān)系，對(duì)于薄膜的制作技術(shù)有重要實(shí)際意義, 幫助我們合理地選擇t(vg?vs)
蒸發(fā)材料和確定蒸發(fā)條件.
、溫度變化對(duì)其的影響？在蒸發(fā)源以上溫度蒸發(fā)，蒸發(fā)源溫度的微小變化即可以引起蒸發(fā)速率發(fā)生很大變化。
射頻濺射:可以用射頻輝光放電解釋。設(shè)備簡(jiǎn)單，技術(shù)容易實(shí)現(xiàn)，用普通真空鍍膜機(jī)就可以改裝，因此也具有一定實(shí)用價(jià)值。容易進(jìn)行摻雜。
化學(xué)沉積鍍膜的還原反應(yīng)是在整個(gè)溶液中均勻發(fā)生的，只有一部分金屬在基片上形成薄膜，大部分形成粉粒沉積物。
？入射原子滯留時(shí)間、平均表面擴(kuò)散時(shí)間、平均擴(kuò)散距離的概念？
凝聚：吸附原子結(jié)合成原子對(duì)及其以后的過(guò)程
入射原子滯留時(shí)間：入射到基體表面的原子在表面的平均滯留時(shí)間?a與吸附能ed之間的關(guān)系為?a??0exp(ed/kt) 平均表面擴(kuò)散時(shí)間：吸附原子在一個(gè)吸附位置上的停留時(shí)間稱為平均表面擴(kuò)散時(shí)間，用?d表示。 a
8..形成外延薄膜的條件？
?設(shè)沉積速率為r，基片溫度為t ，?e薄膜生長(zhǎng)速率要小于吸附原子在基片表面上的遷移速率；提高r?a?exp??d ?溫度有利于形成外延薄膜 ?kt?
第八章
？其特點(diǎn)是哪些？
薄膜的結(jié)構(gòu)按研究對(duì)象不同分為組織結(jié)構(gòu)、晶體結(jié)構(gòu)、表面結(jié)構(gòu)。利用俄歇電子能譜法中的化學(xué)位移效應(yīng)不但可以鑒定樣品的組分元素還可鑒定它的化學(xué)狀態(tài)。x射線入射到自由原子的內(nèi)殼層上，將電子電離成光電子，有電子能量分析測(cè)得光電子束縛能，不同源自或同一原子的不同殼層有不同數(shù)量的特征值。無(wú)定形結(jié)構(gòu)：結(jié)構(gòu)特性：近程有序、長(zhǎng)程無(wú)序；不具備晶體的性質(zhì)；亞穩(wěn)態(tài)。
平均擴(kuò)散距離：吸附原子在表面停留時(shí)間經(jīng)過(guò)擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)所移動(dòng)的距離（從起始點(diǎn)到終點(diǎn)的間隔）稱為平均表面擴(kuò)散時(shí)間，并用x表示，它與吸附能ed和擴(kuò)散能ed之間的關(guān)系為x?a0exp??ed?ed?/kt?
？對(duì)薄膜形成的影響？
捕獲面積：吸附原子的捕獲面積 sd?nno
s當(dāng) ?? 2 時(shí)，每個(gè)吸附原子的捕獲面積內(nèi)只有一個(gè)原子，故不能形成原子對(duì)，也不能產(chǎn)生凝結(jié)。
？
優(yōu)點(diǎn)：高度均勻性；高純度；可降低燒結(jié)溫度；可制備非晶態(tài)薄膜；可制備特殊材料（薄膜、纖維、粉體、多孔材料等）。
? t = t特點(diǎn)：t1 ?2不能太大；平衡常數(shù)kp接近于1。
三極和多陰極型離子鍍
特點(diǎn)：可實(shí)現(xiàn)低氣壓下的離子鍍膜，鍍膜質(zhì)量好，光澤致密；多陰極方式中，陰極電壓在200v就能在103 torr左右開始放電；改變輔助陰極(多陰極)的燈絲電流來(lái)控制放電狀態(tài)；燈絲處于基板四周，擴(kuò)大了陰極區(qū)、改善了繞射性，減少了高能離子對(duì)工件的轟擊作用.
活性反應(yīng)離子鍍：并用各種不同的放電方式使金屬蒸氣和反應(yīng)氣體的分子、原子激活、離化、使其活化，促進(jìn)其間的化學(xué)反應(yīng)，在基片表面就可以獲得化合物薄膜
特點(diǎn)：增加了反應(yīng)物的活性，在溫度較低的情況下就能獲得附著性能良好的碳化物、氮化物薄膜；可以在任何材料上制備薄膜，并可獲得多種化合物薄膜；淀積速率高；調(diào)節(jié)或改變蒸發(fā)速率及反應(yīng)氣體壓力可以十分方便地制取不同配比、不同結(jié)構(gòu)、不同性質(zhì)的同類化合物；由于采用了大功率、高功率密度的電子束蒸發(fā)源，幾乎可以蒸鍍所有金屬和化合物；清潔，無(wú)公害。
磁控濺射：使用了磁控靶,施加磁場(chǎng)來(lái)改變電子的運(yùn)動(dòng)方向，束縛并延長(zhǎng)電子運(yùn)動(dòng)軌跡，進(jìn)而提高電子對(duì)工作氣體的電離效率和濺射沉積