【正文】 體生長。但還有條紋，液體溫度也不均勻。 ? 化學反應 ：固相反應、 鹽類的分解、 水合物的分解、 結(jié)合水的排出 等。具有下面兩個特點： ? 傳熱性好 溫度均勻 ? 氣相聚合省去了溶劑的精制與回收 流化床氣相聚合設(shè)備 關(guān)鍵設(shè)備包括： ? 1流化床器反應器 ? 2循環(huán)氣體壓縮機 ? 3循環(huán)氣體冷卻器 ? 4調(diào)溫水換熱器 ? 5引發(fā)劑加料器 ? 6產(chǎn)品出料罐和產(chǎn)品吹送罐。 ? CVD原理 以金屬蒸氣，揮發(fā)金屬鹵化物，氫化物，金屬有機化合物等蒸氣為原料，進行氣相熱解反應，或兩種以上單質(zhì)或化合物的反應，再凝聚生成各種形態(tài)的材料。粒徑 100nm以下 —— 即納米粉。 二極直流濺射 Bipolar Sputtering 射頻電濺鍍 RF Sputtering 磁控濺鍍 Magron Sputtering 反應濺鍍 Reactive sputtering 磁控濺射靶材表面的磁場及電子運動軌跡 物理氣相沉積－－磁控濺射－－應用 工模具 物理氣相沉積－－－磁控濺射 具有隔熱功能的汽車風擋玻璃 物理氣相沉積－－－磁控濺射 選擇性吸收膜 太陽能熱利用 物理氣相沉積－－－磁控濺射 大幅度提高刀具壽命 物理氣相沉積－－磁控濺射 －－ 類金剛石薄膜 耐磨件 揚聲器 ?離子鍍法 的基本原理與真空沉積法相同。 電阻加熱法 物理氣相沉積 Physical Vapor Deposition (PVD) 電阻式熱蒸發(fā) 電子轟擊法 物理氣相沉積 Physical Vapor Deposition (PVD) 電子束蒸發(fā) 蒸發(fā)材料是單質(zhì)，可以具有相同的成分。 PVD的步驟 蒸氣的產(chǎn)生 使氣化材料 從供給源轉(zhuǎn)移到襯底 通過異相成核作用 和膜生長形成一種沉積膜 陰極濺射法 離子鍍法 電子轟擊法 電阻加熱法 二極直流濺射 高頻濺射 磁控濺射 反應濺射 PVD法 制備薄 膜材料 圖 34. PVD法的分類 真空沉積法 （ 1）真空沉積法 Evaporation Depostion PVD for Preparing Film Materials ? 機理： 金屬元素和化合物，在真空中蒸發(fā)或升華，在工件表面上 析出并附著 。即： 真空中殘留氣體分子越多 （真空度越低）沉積于基片上的分子數(shù)越少。 雙蒸發(fā)源蒸鍍法 ：把兩種元素分別裝入各自的蒸發(fā)源中，獨立地控制蒸發(fā)，使薄膜的合金成分可控。 T+ T+ N+ N+ e e e e e 引弧電路 真空陰極電弧離子鍍膜原理 真空陰極電弧離子鍍膜 本實驗所用設(shè)備為 MIP8800型多功能離子鍍膜設(shè)備 用途：利用該設(shè)備可制備各種金屬膜、化合物膜、多層膜和復合膜等 用于多弧離子鍍的電弧靶和控制柜 用于射頻濺射的射頻功率源和匹配箱 離子鍍實例 離子鍍 應用 各種裝飾件 離子鍍 應用 各種裝飾件 離子鍍 應用 各種裝飾件 離子鍍 應用 刀具 離子鍍 應用 各種刀具 離子鍍 應用 我國制造業(yè)規(guī)模已達世界第四位，但制造業(yè)大而不強。 PVD法制備超細粉體材料 CVD CVD是 Chemical Vapor Deposition的簡稱 ，是指高溫下的氣相反應，例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發(fā)生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的方法。由以下幾個過程構(gòu)成 ： P105 ? 原料氣體向基片 表面擴散 ? 原料氣體 吸附 到基片上 ? 吸附在基片上的化學物質(zhì)的 表面反應 ? 析出顆粒在 表面的擴散 ? 產(chǎn)物從 氣相分離 ? 從產(chǎn)物析出區(qū)向 塊狀固體擴散 ? 從氣相析出固相 的驅(qū)動：擴散層內(nèi)存在的溫差。 ? 反應在此發(fā)生。 熔融過程可分為 5個階段 ? 1 硅酸鹽形成階段（ 8001000℃ ） 各種原料在高溫下相互反應，生成燒結(jié)狀態(tài)的硅酸鹽及其熔融物，存在大量的石英砂粒，氣泡和條紋。 ? 5玻璃液冷卻階段（降低 200300℃ ） 達到成型所要求的粘度。 本體聚合 本體聚合是不加入溶劑和其它介質(zhì)的情況下，只有單體在引發(fā)劑，熱，光，輻射的作用下進行的聚合方法，純單體的聚合 優(yōu)點 ： 無雜質(zhì)，產(chǎn)品純度高 ，聚合設(shè)備簡單。反應溫度較高。 (2)體系的粘度低，混合和傳熱容易，溫度容易控制。 :在純?nèi)軇┗蚧旌先軇┲羞M行的縮聚反應。 水溶性高分子 難溶于水的無機物 ? 定義：是指借助于機械攪拌和劇烈振蕩，使單體在水中由乳化劑分散成乳液狀態(tài)進行的聚合。聚氯乙烯、 聚 苯乙烯等都是采用此法進行大規(guī)模生產(chǎn)的。4H2O 過慮沉淀加熱分解 BaTiO3超細粉。 ? 區(qū)別于傳統(tǒng)工藝中，既未進行幾何控制，又未進行化學控制的原材料。 這使得低熔點材料與玻璃形成復合材料成為可能。 ? 4制備過程時間長。 ? 噴霧法分為： 1噴霧干燥法 —— 熱氣流干燥。 ? 可分為： 1低溫溶液生長法、變溫法（降溫法、升溫法）、流動法。稱為 泰曼溫度或燒結(jié)溫度 。 ? 燒結(jié)包括：固相燒結(jié)：發(fā)生在單純的固體之間的燒結(jié) 。 B. 氧化分解階段（ 300950℃ ） ? 1坯體中所含有機物、碳酸鹽、鐵質(zhì)化合物等氧化或分解。硫酸鹽的分解，高價鐵的分解與還原。 圖 323 SHS過程示意圖。 應用： 粉末、多孔材料、 致密材料、 復合材料 梯度功能材料