【正文】 再 結(jié) 晶 晶 粒 增 大 晶 界 減 小 退 火 溫 度 的 選 擇 應(yīng) 注 意 薄 膜 發(fā) 生 氧 化 、 雜 質(zhì) 偏 析 或 者 相 變 過(guò) 程。濺 射 鍍 膜 濺 射 氣 體 進(jìn) 入 膜 內(nèi)（ 1 ） 淀 積 方 式 本 征 應(yīng) 力 增 大 蒸 發(fā) 鍍 膜 慢 蒸 本 征 應(yīng) 力 小淀 積 速 率 晶 粒 平 均 尺 寸 內(nèi) 應(yīng) 力 大（ 2 ）例 外 ： 有 例 外 具 體 情 況 具 體 分 析第 三 講 第二章 薄膜的力學(xué)性質(zhì) ????????????（ 3 ） 環(huán) 境 氣 氛 可 直 接 進(jìn) 入 結(jié) 構(gòu) 不 夠 緊 密 的 薄 膜 中 ， 從 而 產(chǎn) 生 壓 應(yīng) 力 。C 、 當(dāng) 薄 膜 的 生 長(zhǎng) 應(yīng) 力 發(fā) 生 明 顯 變 化 ， 這 時(shí) 對(duì) 應(yīng) 的 溫 度 是 有 序 化 溫 度 。 在 基 片 上 淀 積 有 雙 層 薄 膜 時(shí) ， 其 中 的 熱 應(yīng) 力 可 用 加 權(quán) 式 求 出 ： （ + ） 即+ 釋 放 薄 膜 中 內(nèi) 應(yīng) 力 的 有 效 方 法 ： 在 薄 膜 與 基 片 之 間 加 上 一 層 很薄 的 易 于 塑 變 的 薄 膜 ， 從 而 使 上 面 的 薄 膜 能 可 靠 的 工 作 。 薄膜內(nèi)應(yīng)力的來(lái)源尚未形成定論。 單位面積臨界剪切力為： 222t a naWF P P Pr P Wra? ?? ? ? ???單位面積的剝離能 : 21122E F x cx??第 三 講 第二章 薄膜的力學(xué)性質(zhì) 摩擦法 用標(biāo)準(zhǔn)的負(fù)荷橡皮（含有金剛砂）擦 用已知高度點(diǎn)矢落下的磨粒（如 SiC細(xì)砂）擦 11( / ) ( )(), l g l g l g ,( ) ( )()()llv c m h R R tb d v t bv tdlR R t t Rv bvlR t R tb d v tRt??????? ? ??? ? ? ? ? ? ? ?????設(shè) 磨 失 速 率 恒 定 ， 則 薄 膜 電 阻 ：當(dāng) ， 則 為 摩 擦 時(shí) 間若 編 夠 規(guī) 律 ， 說(shuō) 明 薄 膜 結(jié) 構(gòu) 成 分 和 雜 質(zhì) 在 縱 深 方 向 上 分 布 不 均 勻 由 此 可 了 解 ， 薄 膜 縱 深 分 布 ( 分 層 ) 性 質(zhì) 。 鉑、鎳、鈦等金屬基片上淀積金膜 → 金屬鍵 → 附著力強(qiáng) 選基片能與薄膜形成化學(xué)鍵 → 附著力強(qiáng) 第 三 講 第二章 薄膜的力學(xué)性質(zhì) ② 基片的表面狀態(tài)對(duì)附著力影響也很大 基片清洗 → 去掉污染層（吸附層使基片表面的化學(xué)鍵飽和，從而薄膜的附著力差） → 提高附著性能。 第 三 講 第二章 薄膜的力學(xué)性質(zhì) ③ 中間層附著 — 在薄膜與基片之間形成一個(gè)化合物而 附著，該化合物多為薄膜材料與基片材料之間的化 合物 。第 三 講 第二章 薄膜的力學(xué)性質(zhì) 第二章 薄膜的力學(xué)性質(zhì) 第 三 講 薄膜的主要力學(xué)性能： 附著性質(zhì) — 由薄膜成長(zhǎng)的初始階段 內(nèi)應(yīng)力 機(jī)械性能 第 三 講 第二章 薄膜的力學(xué)性質(zhì) 167。 基片加熱法：加溫曲線（工藝） 離子轟擊法：先在基片上淀積一層薄 2030nm） 金屬膜，再用高能（ 100KeV）氬離子對(duì) 它進(jìn)行轟擊 實(shí)現(xiàn)擴(kuò)散 再鍍膜 電場(chǎng)吸引法：在基片背面鍍上導(dǎo)體 加電壓 吸離子 濺射鍍膜比蒸發(fā)鍍膜附著牢，因?yàn)闉R射粒子動(dòng) 能大 擴(kuò)散。 ① 基片材料的性質(zhì)對(duì)附著力影響很大 微晶玻璃上淀積鋁膜 → 氧化鋁與玻璃中硅氧 → 化學(xué)鍵 → 附著力強(qiáng)。薄膜的臨界負(fù)荷一般為幾 幾百克。 在壓應(yīng)力作用下，薄膜內(nèi)部有向表面擴(kuò)散的趨勢(shì) → 過(guò)大 → 脫落。 所 以 選 擇 基 片 和淀 積 薄 膜 溫 度 ， 使 薄 膜 處 于 壓 應(yīng) 力 狀 態(tài) 為 好 。B 、 當(dāng) 表 示 在 表 面 暴 露 的 時(shí) 間 內(nèi) ， 有 序 化 的 原 子 多 ， 因 而 只 有 少 數(shù) 的 缺 陷 被 埋 在 下 面 ， 所 以 薄 膜 的 生 長(zhǎng) 應(yīng) 力 很 小 。第 三 講 第二章 薄膜的力學(xué)性質(zhì) ?????????? ? ? ? ?????3 、 淀 積 過(guò) 程 對(duì) 薄 膜 內(nèi) 應(yīng) 力 的 影 響 影 響 因 素 ： 淀 積 方 式 、 熱 源 溫 度 、 淀 積 速 率 、 入 射 角 度 和 環(huán) 境