低溫等離子體消毒(完整版)
【正文】 無(wú)有有無(wú)無(wú)化學(xué)殘留 室溫 室溫 低（65℃左右） 高(115～135℃) 室溫 溫 C. 氣體滅菌:指用化學(xué)消毒劑形成的氣體殺滅微生物的方法。(3)注入系統(tǒng)：當(dāng)程序進(jìn)入到注液程序后，自動(dòng)將過(guò)氧化氫滅菌劑注入到滅菌艙內(nèi)。溫離子化的活性Freeradical作用，使微生物滅絕。低溫等離子體滅菌技術(shù)是消毒學(xué)領(lǐng)域繼甲醛、環(huán)氧乙烷、戊二醛等低溫滅菌技術(shù)之后又一新的滅菌技術(shù)，其特點(diǎn)是低溫、快速、毒性殘留低，而且對(duì)于耐濕熱和不耐濕熱的物品、器械均適用。這些滅菌方法存在著許多限制條件，如會(huì)對(duì)環(huán)境造成危害、滅菌時(shí)間過(guò)長(zhǎng)、滅菌溫度過(guò)高致使器械損傷較大、食品營(yíng)養(yǎng)流失等隨著對(duì)消毒、滅菌的處理要求越來(lái)越高。滅菌是獲得純培養(yǎng)的必要條件，也是食品工業(yè)和醫(yī)藥領(lǐng)域中必需的技術(shù)。傳統(tǒng)滅菌方法的局限性正在促使新的滅菌技術(shù)的產(chǎn)生和發(fā)展。采用過(guò)氧化氫做為輔助劑，將過(guò)氧化氫氣體滅菌與低溫等離子結(jié)合起來(lái) ，快速殺滅各種微生物的技術(shù)方法是目前較為最好的選擇。而RF波一停止，離子化狀態(tài)便瞬間終了。(4)等離子體發(fā)生系統(tǒng)：滅菌艙內(nèi)在注入過(guò)氧化氫后，真空度達(dá)到預(yù)定值，開(kāi)始產(chǎn)生等離子體進(jìn)行滅菌。：指將物品置于滅菌柜內(nèi)利用高壓飽和蒸汽、過(guò)熱水噴淋等手段使微生物菌體中的蛋白質(zhì)、核酸發(fā)生變性而殺滅微生物的方法。 不難看出這些傳統(tǒng)方法存在許多弊病，諸如對(duì)環(huán)境有污染（核輻射污染、化學(xué)污染）、滅菌時(shí)間長(zhǎng)、藥物殘留、安全性差等缺
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