低溫等離子體消毒(完整版)
【正文】 無有有無無化學殘留 室溫 室溫 低（65℃左右） 高(115～135℃) 室溫 溫 C. 氣體滅菌:指用化學消毒劑形成的氣體殺滅微生物的方法。(3)注入系統(tǒng)：當程序進入到注液程序后，自動將過氧化氫滅菌劑注入到滅菌艙內。溫離子化的活性Freeradical作用，使微生物滅絕。低溫等離子體滅菌技術是消毒學領域繼甲醛、環(huán)氧乙烷、戊二醛等低溫滅菌技術之后又一新的滅菌技術，其特點是低溫、快速、毒性殘留低，而且對于耐濕熱和不耐濕熱的物品、器械均適用。這些滅菌方法存在著許多限制條件，如會對環(huán)境造成危害、滅菌時間過長、滅菌溫度過高致使器械損傷較大、食品營養(yǎng)流失等隨著對消毒、滅菌的處理要求越來越高。滅菌是獲得純培養(yǎng)的必要條件，也是食品工業(yè)和醫(yī)藥領域中必需的技術。傳統(tǒng)滅菌方法的局限性正在促使新的滅菌技術的產(chǎn)生和發(fā)展。采用過氧化氫做為輔助劑，將過氧化氫氣體滅菌與低溫等離子結合起來 ，快速殺滅各種微生物的技術方法是目前較為最好的選擇。而RF波一停止，離子化狀態(tài)便瞬間終了。(4)等離子體發(fā)生系統(tǒng)：滅菌艙內在注入過氧化氫后，真空度達到預定值，開始產(chǎn)生等離子體進行滅菌。：指將物品置于滅菌柜內利用高壓飽和蒸汽、過熱水噴淋等手段使微生物菌體中的蛋白質、核酸發(fā)生變性而殺滅微生物的方法。 不難看出這些傳統(tǒng)方法存在許多弊病，諸如對環(huán)境有污染（核輻射污染、化學污染）、滅菌時間長、藥物殘留、安全性差等缺
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