使用virtuoso設(shè)計全定制版圖(完整版)
【正文】 圖，（csm25rf）庫—標(biāo)準(zhǔn)CMOS工藝庫。如果要運行Diva LVS 。在CIW窗口選擇ToolsLibrary Manager 打開Library Manager窗口，如下：確保csm25rf,basic和analogLib這三個庫都已經(jīng)存在，如果不存在就自己手動添加它們。在彈出的對話框中，在libraryname 中輸入庫的名字，比如guan。在CIW窗口中，F(xiàn)ilenewnew cellview,打開創(chuàng)建新cellview 的對話框。幾個常用的指令及相應(yīng)的快捷鍵列舉如下：Zoom In 放大 (z)Zoom out by 2 縮小2倍(Z)Save 保存編輯(f2) Delete 刪除編輯(Del)Undo 取消編輯(u)Redo 恢復(fù)編輯 (U)Move 移動(m)Stretch 伸縮(s)Rectangle 編輯矩形圖形(r)Polygon 編輯多邊形圖形(P) Path 編輯布線路徑(p)Copy 復(fù)制編輯 (c) status banner（狀態(tài)顯示欄），位于menu banner的上方，顯示的是坐標(biāo)、當(dāng)前編輯指令等狀態(tài)信息。利用同樣的方法，可以顯示更多的圖層或者任意的一層或幾層。這些設(shè)置有利于編輯時候的圖形對準(zhǔn)，當(dāng)然有時候會設(shè)置得更小。添加矩形在N管和P管之間需要用多晶硅來連接兩個管子的柵?，F(xiàn)在首先添加電源連線，用鼠標(biāo)多次點擊形成多邊形的多個頂點，就可以構(gòu)成一個封閉的圖像，如下圖。一個小技巧：利用鼠標(biāo)右鍵可以放大到自己需要的地方，先用鼠標(biāo)右鍵點中要放大的區(qū)域的右下角，按住往左上角方向拖動，會有一個方形的邊框表示選擇的區(qū)域，如果看到該邊框已經(jīng)包圍了需要放大的區(qū)域，放開鼠標(biāo)右鍵，看看是不是如你所愿地放大了。DIVA DRC現(xiàn)在我們將要對先前設(shè)計的版圖進(jìn)行設(shè)計規(guī)則的檢查。檢查完成后，在CIW窗口有檢查結(jié)果的相關(guān)信息輸出，在進(jìn)行設(shè)計的過程中可能要經(jīng)常通過CIW窗口來獲得相關(guān)信息。CIW窗口給出信息找到0個錯誤，就是說以上版圖已經(jīng)沒有違背物理設(shè)計規(guī)則的地方了，雖然這個版圖并不完整，比如版圖上還沒有N井和襯底的偏置連接。運行完成后，查看CIW窗口，如下，沒有錯誤，我們可以進(jìn)行下一步驗證，如果有錯誤，找到并改正它。如果彈出的對話框顯示失敗，則沒有輸出文件生成。以上是在大學(xué)的時候?qū)懙?，全部屬于原?chuàng).如有疑問請聯(lián)系：guanzhzh28。LVS過程出現(xiàn)錯誤往往是由于軟件設(shè)置不當(dāng)造成的，可以通過LVS對話框的Error Display來查看信息，同樣也可以通過CIW窗口，不過如果LVS運行出問題了，往往無法通過錯誤信息直接找到錯誤的原因，比如有時會看到像：LVS目錄非法的信息。點擊Ok打開提取過的版圖，如下圖，可以看到一些跟邏輯電路圖上相同的管子符號，除了偏置端懸空外，管子的其它各個端點都已和特定的節(jié)點連接上，各個節(jié)點的命名由系統(tǒng)自動生成，當(dāng)然也可以通過添加Pin來自定義各個節(jié)點的名字。版圖的提取 現(xiàn)在我們可以將剛才那個版圖進(jìn)行提取，這一步是必須的，在LVS或者ERC時我們不再用剛才那個版圖文件。檢查結(jié)束后的CIW窗口和le 窗口如下。網(wǎng)上有很多通過把該變量改為Analog就解決問題的說法。調(diào)整后的版圖如下所示.現(xiàn)在還需要添加輸入端，反相器的輸入端應(yīng)該為金屬，所以要添加接觸孔。從圖中可以看出，兩個多邊形和金屬矩形連線都沒有對準(zhǔn)。如下圖所示，多晶硅矩形把兩個管子的柵連接到一起。還有一個需要更改設(shè)置的地方，選擇optionlayout editor（快捷鍵s
環(huán)評公示相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號-1