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mems基本結(jié)構(gòu)ppt課件(完整版)

2025-06-10 18:19上一頁面

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【正文】 ,進(jìn)行濺射 – 濺射靶和目標(biāo)濃度區(qū)別 ? 燒結(jié)(厚度中等) – PZT粉末 +有機(jī)溶劑,涂覆 – 150?C烘干 10分鐘, 950?C燒結(jié) 1小時(shí) ? SOLGEL(大厚度) – 原料:醋酸鉛,異丙醇鈦,丙醇鋯,溶劑 – 加水解物,按配比涂覆,烘干 高分子材料:聚酰亞胺工藝 ? 高分子材料用于結(jié)構(gòu)層:類似于光刻膠,表面粘附性好,臺(tái)階覆蓋性好 ? 光敏聚酰亞胺 (PSPI: photosensitive polyimide) – 光敏聚酰亞胺可以直接光刻顯影成形,經(jīng)過亞胺化去掉光敏基團(tuán)后,性能穩(wěn)定,并與硅片有很強(qiáng)的粘附性,在一定程度上能夠抗堿性腐
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