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測試與分析ppt課件-文庫吧在線文庫

2025-06-06 04:17上一頁面

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【正文】 光點(diǎn)子能譜技術(shù)以光波為激發(fā)源,即用 X射線或紫外光射線照射試樣表面。 第二節(jié) 磨損微粒分析技術(shù) 磨損微粒分析包括微粒的尺寸、形狀與成分的分析,主要的分析方法由鐵譜技術(shù)與光譜技術(shù),磨損微粒分析技術(shù)不僅是研究磨損機(jī)理的一種重要研究方法,也是監(jiān)控與預(yù)測磨損狀態(tài)的一項(xiàng)重要手段。 二、光譜技術(shù) 光譜技術(shù)是利用物質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來確定其化學(xué)成分或結(jié)構(gòu)的一種分析技術(shù),物質(zhì)在外界足夠大的能量作用后,會(huì)發(fā)出各種不同波長的光線,從而可得到按一定波長順序排列的光帶,即發(fā)和光譜。它的工作原理與掃描隧道顯微鏡基本相同,二者的主要區(qū)別是: ( 1)檢測的物理量不同 掃描隧道顯微鏡檢測隧道電流;而原子力顯微鏡檢測力,它最小可檢測到 1 109N的力,相當(dāng)于互相靠近的兩個(gè)氖原子之間的作用力,故稱原子力顯微鏡。電子能譜技術(shù)的基本原理就是用電子束、 X射線、真空紫外光束等作為激發(fā)源,照射試樣表面,使其激發(fā)出具有不同動(dòng)能的電子(俄歇電子或光電子),從而得到這些電子動(dòng)能統(tǒng)計(jì)分布的譜圖,即電子能譜圖。 1942: 劍橋大學(xué)的 馬倫 首次制成世界第一臺(tái)掃描電鏡。目前 TEM的分辨力可達(dá) 。 1940~41 RCA 公司推出 美國 第一部穿透式電子顯微鏡 (解像力 50 nm) 。奠定了顯微鏡的理論基礎(chǔ)。第九章 現(xiàn)代測試分析技術(shù) 摩擦學(xué)研究所應(yīng)用的主要分析測試技術(shù)大體上可分為三類。 電子顯微鏡發(fā)展 * 1873 Abbe 和 Helmholfz 分別提出解像力與照射光的波長成反比。Ari) 。 1932年 Ruska發(fā)明了以電子束為光源的透射電子顯微鏡( transmissionelectronmicroscope, TEM),電子束的波長要比可見光和紫外光短得多,并且電子束的波長與發(fā)射電子束的電壓平方根成反比,也就是說電壓越高波長越短。 與透射電鏡比較 ,有如下特點(diǎn) : 用于觀察尺寸較大的試樣 放大倍數(shù)變化范圍 景深較大 分析功能多 分辯率低 History of SEM 1935:
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