年產(chǎn)10萬噸高強(qiáng)瓦楞紙項(xiàng)目中的應(yīng)用-文庫吧在線文庫
【正文】 在該項(xiàng)目上，輔料有淀粉、礬土、松香膠等。液位控制的目的為了獲得紙漿流域以保持適當(dāng)?shù)耐牧鱽硐拗评w維的絮聚。 漿速網(wǎng)速比控制 紙頁在網(wǎng)上成形時受到紙料在網(wǎng)上的沉積速度、堰口噴漿速度與網(wǎng)速之間的關(guān)系的影響。流漿箱內(nèi)部壓力 PID調(diào)節(jié)的給定制為： ST1201 ST1201比例系數(shù)。銀河紙業(yè)公司經(jīng)過對國內(nèi)外控制系統(tǒng)性能、價格、過程服務(wù)、工程能力的綜合分析比較，最后決 定選用由北京和利時系統(tǒng)工程股份公司生產(chǎn)的新一代現(xiàn)場總線 DCS產(chǎn)品 —— MACS系統(tǒng)。診斷結(jié)果每秒鐘都上傳到上位機(jī)的系統(tǒng)狀態(tài)圖中顯示 系統(tǒng)中所有單元上均有狀態(tài)指示燈包括運(yùn)行燈、故障燈、網(wǎng)絡(luò)通信燈等。 年產(chǎn) 10 萬噸高強(qiáng)瓦楞紙項(xiàng)目中的應(yīng)用 工程師站（由操作員站兼任）完成組態(tài)修改及下裝，包括：數(shù)據(jù)庫、圖形、控制算法、報表的組態(tài)，參數(shù)配置，操作員站、服務(wù)站、現(xiàn)場控制站及過程 I/O模塊的配置組態(tài)，數(shù)據(jù)下裝和增量下裝等。現(xiàn)場控制站主要由 I/O模塊、底座、電源模塊、終端匹配器、 DP主站接口卡組成。既可滿足高速傳輸，又有簡單實(shí)用、經(jīng)濟(jì)性強(qiáng)等特點(diǎn)。 管理網(wǎng)絡(luò) (MNET)由 100M高速冗余以太網(wǎng)絡(luò)構(gòu)成，用于系統(tǒng)服務(wù)器與工程師站、操作站、高級計算站的連接，完成工程師站的數(shù)據(jù)下裝，操作員站、打印服務(wù)站、高級計算站的在線數(shù)據(jù)通訊。 現(xiàn)場控制站內(nèi)部采用了分布式的結(jié)構(gòu)，與系統(tǒng)網(wǎng)絡(luò)相連接的是現(xiàn)場控制站的主控單元，冗余配置。 系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖如下所示： 年產(chǎn) 10 萬噸高強(qiáng)瓦楞紙項(xiàng)目中的應(yīng)用 1 0 現(xiàn)場控制站101 2 現(xiàn)場控制站121 1 現(xiàn)場控制站111 0 現(xiàn)場控制站10MNET A網(wǎng)MNET B網(wǎng)SNET A網(wǎng)SNET B網(wǎng)SNET A網(wǎng)SNET B網(wǎng)1OPS 2OPS ENSENS 3OPS 4OPS 5OPSENS6OPSSVRBSVRA1OPS 2OPSSVRBSVRA造紙車間半化學(xué)車間調(diào)漿控制室 濕部控制室 干部控制室1 控制室1 1 現(xiàn)場控制站111 0 現(xiàn)場控制站10SNET A網(wǎng)SNET B網(wǎng)1OPS 2OPSSVRBSVRA廢紙車間廢紙控制室10擴(kuò)展柜10擴(kuò)2 控制室3OPS 4OPS CNET 網(wǎng)Profibus_DP柜內(nèi)結(jié)構(gòu)I/O模塊終端匹配器中繼器主控單元 其中：半化學(xué)車間設(shè)立兩個現(xiàn)場控制站， 4個操作員站，其中兩個操作員站兼作服務(wù)器站，其中一個操作員站兼作工程師站，分別安裝于兩個控制室。如控制輸出的自動保持功能，回路控制的獨(dú)立執(zhí)行等 所有過程輸入輸出單元都采用可靠的光電隔離技術(shù)，使各單元之間和單元與上位機(jī) 之間的 CPU無任何電氣聯(lián)系，從而提高系統(tǒng)的抗干擾能力、可靠性和安全性。為了有效地排出冷凝水，并利用二次蒸汽，各段烘缸之間必須維持 30千帕以上的差壓，在這個系統(tǒng)中，除了蒸汽自然循環(huán)外，還有連接最后一段冷凝水管上的真空 泵來加強(qiáng)循環(huán)，真空泵使最后一組烘缸和冷凝水管間與其他組烘缸造成必要的壓力差，可排出進(jìn)入烘缸的空氣。 網(wǎng)速通過測速編碼器來測得，但流漿箱的堰口噴漿速度可以通過 V2=2gh來取得。 LIC1202LY1202LT1202壓縮空氣PT1201PIC1201流漿箱PY1201成漿池ST1201平方比例系數(shù)年產(chǎn) 10 萬噸高強(qiáng)瓦楞紙項(xiàng)目中的應(yīng)用 流漿箱唇板處的總壓控制 對流漿箱的控制一般來講遵循一下原理： V2=2gh 其中： V—— 噴漿速度（ m/s） g—— 重力加速度（ ） h—— 總壓頭（ m） 上述公式說明：要想維持從流漿箱到濕部網(wǎng)上的流漿具有必要的噴漿速度，流漿箱內(nèi)的壓頭必須隨網(wǎng)速的平方成正比變化。并且，這些流量比例控制均受到配漿池液位信號的連鎖控制。 關(guān)閉排砂閥 1 打開排氣閥 4 除砂器開始排氣，并延時 15秒 關(guān)閉沖洗閥 3和排氣閥 4。 初始時，△ P＝ 4
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