材料現(xiàn)代分析方法練習(xí)與答案修改(存儲(chǔ)版)
【正文】 直線傳播。1. 電子束和固體樣品作用時(shí)會(huì)產(chǎn)生哪些信號(hào)？它們各具有什么特點(diǎn)？答：具有高能量的入射電子束與固體樣品表面的原子核以及核外電子發(fā)生作用，產(chǎn)生下圖所示的物理信號(hào) 1：背散射電子背散射電子是指被固體樣品中的原子核反彈回來的一部分入射電子，其中包括彈性背散射電子和非彈性背散射電子。的區(qū)域，能量為050 eV。因此，吸收電流像可以反映原子序數(shù)襯度，同樣也可以用來進(jìn)行定性的微區(qū)成分分析。6．俄歇電子如果原子內(nèi)層電子能級(jí)躍遷過程中釋放出來的能量DE不以X射線的形式釋放，而是用該能量將核外另一電子打出，脫離原子變?yōu)槎坞娮?，這種二次電子叫做俄歇電子。由于能譜儀的探頭直接對(duì)著樣品，所以由背散射電子或X射線所激發(fā)產(chǎn)生的熒光X射線信號(hào)也被同時(shí)檢測到，從而使得Si(Li)檢測器檢測到的特征譜線在強(qiáng)度提高的同時(shí)，背底也相應(yīng)提高,譜線的重疊現(xiàn)象嚴(yán)重。以基態(tài)為躍遷能級(jí)的光譜稱為共振線，或者說具有最低激發(fā)電位的譜線稱為共振線，一般說是該元素的最強(qiáng)譜線。24. 解釋下列名詞：(1)譜線半寬度；(2)積分吸收；(3)峰值吸收；(4)銳線光源。原子熒光可分為共振熒光、非共振熒光與敏化熒光等三種類型26. 紅外光譜定性分析的基本依據(jù)是什么？簡要敘述紅外定性分析的過程。但X射線光電子能譜分析相對(duì)靈敏度不高，%以上的組分。2. X射線透過物質(zhì)時(shí)產(chǎn)生的物理效應(yīng)有： 散射 、 光電效應(yīng) 、 透射X射線 、和 熱 。a． 勞厄法；b．粉末多晶法；c．周轉(zhuǎn)晶體法。a．背散射電子； ；c. 特征X射線。a．高階勞厄斑點(diǎn) ；b. 超結(jié)構(gòu)斑點(diǎn)；c. 二次衍射斑點(diǎn)。8. 掃描電子顯微鏡常用的信號(hào)是 二次電子 和 背散射電子。俄歇譜儀分析的是極表層的成分，分析深度只有1nm.X光電子能譜儀也是分析表層成分，但X光電子能譜儀可以提供元素價(jià)態(tài)。答：X射線光電子能譜是以X射線光子激發(fā)樣品材料產(chǎn)生光電子來分析材料成分和原子價(jià)態(tài)等。原子熒光屬光致發(fā)光，也是二次發(fā)光。然后根據(jù)分析線對(duì)的相對(duì)強(qiáng)度與被分析元素含量的關(guān)系式進(jìn)行定量分析。22. 解釋下列名詞：(1)分析線、共振線、靈敏線、最后線；(2)定量分析內(nèi)標(biāo)法中的內(nèi)標(biāo)線、分析線對(duì)。 (3)譜線重復(fù)性好由于能譜儀沒有運(yùn)動(dòng)部件，穩(wěn)定性好，且沒有聚焦要求，所以譜線峰值位置的重復(fù)性好且不存在失焦問題，適合于比較粗糙表面的分析工作。因此，原子序數(shù)和特征能量之間是有對(duì)應(yīng)關(guān)系的，利用這一對(duì)應(yīng)關(guān)系可以進(jìn)行成分分析。3．吸收電子入射電子進(jìn)入樣品后，經(jīng)多次非彈性散射，能量損失殆盡（假定樣品有足夠厚度，沒有透射電子產(chǎn)生），最后被樣品吸收，此即為吸收電子。2：二次電子二次電子是指被入射電子轟擊出來的核外電子。19. 電子束和固體樣品作用時(shí)會(huì)產(chǎn)生哪些信號(hào)？它們各具有什么特點(diǎn)？答：和光學(xué)顯微鏡相比，掃描電子顯微鏡具有能連續(xù)改變放大倍率，高放大倍數(shù)，高分辨率的優(yōu)點(diǎn)；掃描電鏡的景深很大，特別適合斷口分析觀察；背散射電子成像還可以顯示原子序數(shù)襯度。透鏡的主要組成部分焦距很短的物鏡、焦距很長的目鏡。放大倍數(shù)超出有效放大倍數(shù)的部分對(duì)提高分辨率沒有貢獻(xiàn)，僅僅是讓人觀察得更舒服而已，所以放大倍數(shù)意義不大。即K層的一個(gè)空位被L層的兩個(gè)空位所替代，這種現(xiàn)象稱俄歇效應(yīng)。30. 掃描電子顯微鏡可以替代 進(jìn)行材料 觀察，也可以對(duì) 進(jìn)行分析觀察。A. 波譜儀；B. 能譜儀；C. 俄歇電子譜儀；D. 特征電子能量損失譜。2. 在掃描電子顯微鏡中，下列二次電子像襯度最亮的區(qū)域是（ ）。A. 小于真實(shí)粒子大小；B. 是應(yīng)變場大??；C. 與真實(shí)粒子一樣大小；D. 遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于真實(shí)粒子。20. 二次衍射可以使密排六方、金剛石結(jié)構(gòu)的花樣中在 產(chǎn)生衍射花樣，但體心立方和面心立方結(jié)構(gòu)的花樣中 。A. 估計(jì)樣品的厚度；B. 確定180186。2. 薄片狀晶體的倒易點(diǎn)形狀是（ ）。A. 物鏡的物平面；B. 物鏡的像平面C. 物鏡的背焦面；D. 物鏡的前焦面。A. 1000；B. 10000；C. 40000；。四點(diǎn)。，通常取Ψ為（ ）進(jìn)行測量。五、 選擇題，若采用定量X射線物相分析，常用方法是（ ）。A. 絲狀粉末多晶；B. 塊狀粉末多晶；C. 塊狀單晶；D. 任意形狀。A. 勞厄法；B. 粉末多法；C. 周轉(zhuǎn)晶體法；D. 德拜法。A．4；B．8；C．6；D．12。 5. 短波長的X射線稱 ，常用于 ；長波長的X射線稱 ，常用于 。，用鐵靶Kα（λKα=）照射該晶體能產(chǎn)生（ ）衍射線。3. 影響衍射強(qiáng)度的因素除結(jié)構(gòu)因素、晶體形狀外還有 ， ， ， 。，粉末粒度應(yīng)為（ ）。測量θ角時(shí)，底片上每毫米對(duì)應(yīng) 186。A. Hanawalt索引；B. Fenk索引；C. Davey索引；D. A或B。、45186。7. X射線物相分析包括 和 ，而 更常用更廣泛。3. 可以提高TEM的襯度的光欄是（ ）。13. TEM成像系統(tǒng)由 物鏡 、 中間鏡 和 投影鏡 組成。A. 球面外；B. 球面上；C. 球面內(nèi)；D. B+C。A. 六方結(jié)構(gòu)；B. 立方結(jié)構(gòu)；C. 四方結(jié)構(gòu)；D. A或B。2. 當(dāng)t=5s/2時(shí)，衍射強(qiáng)度為（ ）。23. 對(duì)于缺陷晶體，缺陷襯度是由缺陷引起的 點(diǎn)陣畸變 導(dǎo)致衍射波振幅增加了一個(gè) 附加的位相因子 ，但是若 位相角 =2π的整數(shù)倍時(shí)，缺陷也不產(chǎn)生襯度。的表面；D. 和電子束成60186。十四、 填空題26. 電子束與固體樣品相互作用可以產(chǎn)生 、
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