[精選]半導(dǎo)體制造工藝流程課件(ppt97頁)-資料下載頁

【摘要】半導(dǎo)體制造工藝流程半導(dǎo)體相關(guān)知識?本征材料：純硅9-10個9?N型硅：摻入V族元素磷P、砷As、銻Sb?P型硅：摻入III族元素—鎵Ga、硼B(yǎng)?PN結(jié)：NP+++++半導(dǎo)體元件制造過程可分為?前段（FrontEnd）制程晶圓處理制程（Wa

2025-03-01 04:29

半導(dǎo)體制造工藝流程(ppt97)-生產(chǎn)制度表格-資料下載頁

【摘要】半導(dǎo)體制造工藝流程半導(dǎo)體相關(guān)知識?本征材料：純硅9-10個9?N型硅：摻入V族元素--磷P、砷As、銻Sb?P型硅：摻入III族元素—鎵Ga、硼B(yǎng)?PN結(jié)：NP------+++++半導(dǎo)體元件制造過程可分為?

2025-08-09 19:38

半導(dǎo)體照明技術(shù)-資料下載頁

【摘要】半導(dǎo)體照明技術(shù)方志烈教授復(fù)旦大學(xué)SemiconductorLightingTechnology???（1）發(fā)光效率和顯色性的折中?（2）二基色體系?（3）多基色體系?LED?（1）二基色熒光粉轉(zhuǎn)換白光LED?（2）多基色熒光粉轉(zhuǎn)換白光LED?（3）

2025-08-01 16:32

[理學(xué)]半導(dǎo)體基礎(chǔ)-資料下載頁

【摘要】第一章半導(dǎo)體中的電子狀態(tài)?半導(dǎo)體的晶格結(jié)構(gòu)和結(jié)合性質(zhì)?半導(dǎo)體中的電子狀態(tài)和能帶?半導(dǎo)體中電子的運動有效質(zhì)量?本征半導(dǎo)體的導(dǎo)電機構(gòu)空穴?常見半導(dǎo)體的能帶結(jié)構(gòu)重點：有效質(zhì)量、空穴概念的理解研究方法?單電子近似：假設(shè)每個電子是在周期性排列且固定不動的原子核勢場及其他電子的平均勢場中運動。該勢

2025-03-22 06:44

半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)分析-資料下載頁

【摘要】半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)分析組員:93114114林怡欣93114124蔡松展93114251謝瑋璘93114169蔡文杰目錄III半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)結(jié)V.邏輯ICVI.記憶體VII.臺灣半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)概況半導(dǎo)體的定義所謂的半導(dǎo)體，是指在某些情況下，

2024-10-11 21:13

半導(dǎo)體物理基礎(chǔ)-資料下載頁

【摘要】三、pn結(jié)在前面幾結(jié)中我們了解了本征半導(dǎo)體和雜質(zhì)半導(dǎo)體，根據(jù)對導(dǎo)電性的影響，雜質(zhì)半導(dǎo)體又分為n型半導(dǎo)體和p型半導(dǎo)體。如果把一塊n型半導(dǎo)體和p型半導(dǎo)體結(jié)合在一起，在兩者的交界面就形成了所謂的pn結(jié)，在這一結(jié)我們就是要了解pn結(jié)的一些性質(zhì)。1、pn結(jié)的形成和雜質(zhì)分布在一塊n型（或p型）半導(dǎo)體單晶上，

2025-07-25 02:12

[精選]半導(dǎo)體制造工藝_11刻蝕-資料下載頁

【摘要】半導(dǎo)體制造工藝基礎(chǔ)第五章刻蝕原理兩大關(guān)鍵問題：?選擇性?方向性：各向同性/各向異性21rrS?待刻材料的刻蝕速率掩膜或下層材料的刻蝕速率vertlatrrA??1橫向刻蝕速率縱向刻蝕速率圖形轉(zhuǎn)移過程演示圖形轉(zhuǎn)移＝光刻＋刻蝕

2025-03-04 15:10

[精選]半導(dǎo)體制造工藝流程18432670-資料下載頁

【摘要】半導(dǎo)體制造工藝流程半導(dǎo)體相關(guān)知識?本征材料：純硅9-10個9?N型硅：摻入V族元素磷P、砷As、銻Sb?P型硅：摻入III族元素—鎵Ga、硼B(yǎng)?PN結(jié)：NP+++++半導(dǎo)體元件制造過程可分為?前段（FrontEnd）制程晶圓處理制程（Wa

2025-03-01 04:29

半導(dǎo)體復(fù)習(xí)ppt課件-資料下載頁

【摘要】考試時間：18周周五上午10:00（1月4日第二大節(jié)）考試地點：望江基C2022022級半導(dǎo)體物理總結(jié)第l章半導(dǎo)體(晶體)中的電子狀態(tài)問題的提出:半導(dǎo)體獨特的物理性質(zhì)半導(dǎo)體中電子的狀態(tài)及其運動特點二者之間關(guān)系與結(jié)構(gòu)的關(guān)系本章介紹重點半導(dǎo)體單晶材料中的電子狀態(tài)及其運動規(guī)律

2025-01-14 10:18

[精選]半導(dǎo)體制造工藝_01晶體的生長-資料下載頁

【摘要】半導(dǎo)體制備工藝原理第一章晶體生長1半導(dǎo)體器件與工藝半導(dǎo)體制備工藝原理第一章晶體生長2一、襯底材料的類型1.元素半導(dǎo)體Si、Ge….2.化合物半導(dǎo)體GaAs、SiC、GaN…半導(dǎo)體制備工藝原理第一章晶體生長3二、對襯底材料的要求?導(dǎo)電

2025-02-28 15:09

[精選]半導(dǎo)體制造工藝之光刻原理課件-資料下載頁

【摘要】半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ)第四章光刻原理(下)光刻膠的一些問題1、由于硅片表面高低起伏，可能造成曝光不足或過曝光。線條寬度改變！1半導(dǎo)體制備工藝基礎(chǔ)第四章光刻原理(下)2、下層反射造成駐波，下層散射降低圖像分辨率。DUV膠—ARCg線和i線膠—使用添加劑，吸光并

2025-03-03 14:53

[精選]半導(dǎo)體制造工藝第1章緒論-資料下載頁

【摘要】半導(dǎo)體制造工藝張淵主編張淵主編半導(dǎo)體制造工藝高職高?！笆濉彪娮有畔㈩悓I(yè)規(guī)劃教材第1章　緒　　論第1章　緒　　論　引言　基本半導(dǎo)體元器件結(jié)構(gòu)　半導(dǎo)體器件工藝的發(fā)展歷史　集成電路制造階段　半導(dǎo)體制造企業(yè)　基本的半導(dǎo)體材料　半導(dǎo)體制造中使用的化學(xué)品　芯片制造的生產(chǎn)環(huán)境　引言圖1-1　集成電路組成的抽象結(jié)構(gòu)圖

2025-03-01 12:19

[精選]半導(dǎo)體制造工藝_03硅的氧化-資料下載頁

【摘要】通信與電子工程學(xué)院第三章第三章硅的硅的氧化氧化v緒論vSiO2的結(jié)構(gòu)和性質(zhì)vSiO2的掩蔽作用v硅的熱氧化生長動力學(xué)v決定氧化速度常數(shù)和影響氧化速率的各種因素v熱氧化過程中的雜質(zhì)再分布v初始氧化階段以及薄氧化層的生長vSi-SiO2界面特性下一頁通信與電子工程學(xué)院二氧化硅是上帝賜給二氧化硅是上帝賜給IC的材料。的材料。通信與電

2025-02-28 12:01

1章-半導(dǎo)體-資料下載頁

【摘要】半導(dǎo)體基礎(chǔ)知識晶體三極管場效應(yīng)管單結(jié)晶體管和晶閘管半導(dǎo)體二極管半導(dǎo)體基礎(chǔ)知識一、本征半導(dǎo)體二、雜質(zhì)半導(dǎo)體三、PN結(jié)的形成及其單向?qū)щ娦运?、PN結(jié)的電容效應(yīng)一、本征半導(dǎo)體根據(jù)物體導(dǎo)電能力(電阻率)的不同，分導(dǎo)體、絕緣體和半導(dǎo)體。導(dǎo)體－鐵、鋁、銅等金屬元素

2025-08-04 09:14

半導(dǎo)體器ppt課件-資料下載頁

【摘要】主講人：申鳳娟21半導(dǎo)體器件2基本放大電路及其分析設(shè)計方法6模擬電子技術(shù)的應(yīng)用與發(fā)展3放大電路的頻率響應(yīng)與負反饋技術(shù)4通用集成運放及其應(yīng)用5波形發(fā)生電路7直流穩(wěn)壓電源CONTENTS內(nèi)容大綱C3第一章4第一章常用半導(dǎo)體器件§半導(dǎo)體基礎(chǔ)知識

2025-01-21 18:23

半導(dǎo)體制冷實驗-預(yù)覽頁

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