vd鍍金基礎知識ppt課件(存儲版)
【正文】 PVD鍍金有什么關系呢？ 三、真空鍍膜與 PVD 真空鍍膜技術，也稱氣相沉積技術。 真空鍍膜方法 原理 ：在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)（或濺射），使其在被涂覆的物體（稱為基板、基塊或基體）上凝固、沉積的方法就叫真空鍍膜。 缺點 ：這種鍍膜方法不但膜的牢固性差，而且膜厚既不均勻又不易控制，同時還產出大量化學廢液造成了嚴重的環(huán)境污染。 也就是說干式鍍膜是以真空為基礎，利用物理或化學的方法，并且吸收了電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻、磁控等一系列新的技術，為科研及生產提供鍍層涂覆的新工藝、新技術。 4 1 多弧靶 靶材 離子鍍膜設備
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