x射線衍射譜線的線形分析6注意事項(xiàng)及應(yīng)用實(shí)例(存儲(chǔ)版)
【正文】 應(yīng)力。 A、 在衍射儀測(cè)量中要求有較大的照射體積 ，一般需要幾立方毫米以上 ， 如對(duì)薄膜試樣進(jìn)行分析中則需要有 20mm2以上的照射面積 。 標(biāo)樣晶粒尺寸在 10μm左右 。 線形分析的適用范圍 A、 亞晶塊或相干衍射疇大小分析 B、 亞晶塊內(nèi)微觀應(yīng)變分析 C、 亞晶塊內(nèi)位錯(cuò)組態(tài)分析 D、 亞晶塊內(nèi)體彈性貯能密度計(jì)算 E、 層錯(cuò)與層錯(cuò)能分析 特別提醒 X射線衍射譜線的線形分析 ， 理論上是絕對(duì)嚴(yán)格的 ， 但如果在實(shí)驗(yàn)及數(shù)據(jù)處理過(guò)程中某些環(huán)節(jié)出現(xiàn)問(wèn)題 ， 往往導(dǎo)致實(shí)驗(yàn)結(jié)果不可靠 。 (2) 標(biāo)樣的要求 A、 被選擇的標(biāo)樣要盡可能完整無(wú)缺陷 ， 標(biāo)樣越完整其衍射線形越窄 ， 它與待測(cè)試樣衍射線形差別越大 ， 分析結(jié)果越可靠 。 試樣與標(biāo)樣的要求 (1) 試樣的要求 在 X射線衍射分析中 ， 對(duì)試樣要求不太苛刻 ，且屬非破壞性分析 ， 比電子顯微鏡分析更為方便 。 C、 晶體結(jié)構(gòu)參量精煉 ， 比如晶胞參數(shù) ， 晶面間距 ， 晶胞中原子坐標(biāo) ， 形變晶體中亞晶塊大小有 效值 ， 塊內(nèi)微觀應(yīng)變平均值 ， 位錯(cuò)密度平均值 ， 位錯(cuò)分布參量平均值 ， 抽出型 、 插入型和孿生型層錯(cuò)幾率 ， 堆垛層錯(cuò)能 ， 體彈性貯能密度平均值等 。 C、 Kα雙波長(zhǎng)衍射線的分離 。X射線衍射譜線的線形分析 姜傳海 上海交通大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院 2021 年 7 月 一、緒論 二、衍射譜線的數(shù)學(xué)表達(dá) 三、寬化效
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