感光性高分子的開發(fā)與應(yīng)用-預(yù)覽頁
【正文】 光交聯(lián)型、光聚合型、光氧化還原型、光二聚型、光分解型等。(3) 著眼于物性的變化:(5) 根據(jù)骨架化合物:但由于數(shù)據(jù)有限,提高感光性高分子的固有感度最新的研究指出, 當(dāng)感光性高分子的側(cè)鏈上引入光反應(yīng)性基團(tuán)時, 感度將大大提高。 從圖2可見, 在加入5—硝基危光引發(fā)劑以后, 它們的光譜吸收范圍和相對感光度有很大的增加。為此,國外一些專家提出：感光性高分子經(jīng)光照射感光時必須具有瞬時高速度, 在成像顯影的過程中, 用化學(xué)反應(yīng)增加和擴(kuò)大感光的幅度。例如二苯基碘鎾鹽在紫外線照射后所發(fā)生的反應(yīng)式：路易斯酸是一種強(qiáng)酸, 它分布在受光照射后的感光高分子體系中, 而未受光照部分不存在路易斯酸?！盎瘜W(xué)增幅”可大大縮短感光時間, 這是當(dāng)今感光性高分子領(lǐng)域的重要發(fā)現(xiàn), 也是今后的發(fā)展方向。所謂光刻膠,又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離沂束、X一射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料,經(jīng)曝光和顯影而使溶解度增加的是正型光刻膠,溶解度減小的是負(fù)型光刻膠。典型的微細(xì)加工過程包括基片預(yù)處理、涂膠、前烘、曝光、顯影、清洗、后烘、蝕刻、去膠,得到所需的永久性圖形,也即在圖形化處理之前,先對硅片進(jìn)行烘干和處理,然后均勻涂上光刻膠,經(jīng)前烘去除光刻膠溶劑,通過步進(jìn)縮小投影曝光,在硅片上形成曝光電路圖形。同時采用熱擴(kuò)散和離子注入進(jìn)行摻雜,最后用去膠劑去除光刻膠膜,在硅片上形成永久性的工程設(shè)計圖形。這一材料的發(fā)展十分的迅速，因為感光高分子材料具有低成本、分辨率價格比高、靈敏度高、歷史保真性好等優(yōu)點，又巨大的發(fā)展前景。目前關(guān)于感光高分子材料的重要性已是無可置疑的了?！睲〕.北京:化學(xué)工業(yè)出版社,2001駱光林,[J].2005,10,3840.〔J〕.半導(dǎo)體國際,2006,(05):22
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