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水利水電工程物探規(guī)程sl-預(yù)覽頁

2024-12-08 05:57 上一頁面

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【正文】 .....................................................................................................57 5 物探成果報(bào)告 .............................................................................................................59 5 成果報(bào)告的編寫 .......................................................................................................................59 成果的審查 ...............................................................................................................................60 附錄 A 物探應(yīng)用一覽表 ..............................................................................................61 附錄 B 物性參數(shù)表 ....................................................................................................63 附錄 C 基本公式及計(jì)算圖表 ........................................................................................65 標(biāo)準(zhǔn)用詞說明 ...................................................................................................................78 6 1 總 則 為規(guī)范水利水電工程物探技術(shù)要求,保證物探成果質(zhì)量,充分發(fā)揮物探在水利水電工程勘察中的作用,制定本標(biāo)準(zhǔn)。在實(shí)際應(yīng)用中應(yīng)根據(jù)地球物理特征(常見介質(zhì)的物性參數(shù)見附錄 B)、各種方法的特點(diǎn)和現(xiàn) 場(chǎng)工作條件,合理選用一種或幾種適宜的方法。 物探工作 中使用的儀器設(shè)備和主要傳感器件應(yīng)在規(guī)定的檢驗(yàn)期內(nèi)經(jīng)有關(guān)部門檢驗(yàn)合格,且應(yīng)達(dá)到本標(biāo)準(zhǔn)要求的技術(shù)指標(biāo)。 電剖面法 electrical profiling 將某一裝置極距保持不變,沿測(cè)線觀測(cè)地下一定深度內(nèi)大地電阻率沿水平方向變化,依據(jù)目的體與周邊介質(zhì)的電阻率差異,探測(cè)地下介質(zhì)特征的一種電法勘探方法。 充電法 misealamasse method 通過向被探測(cè)目的體供電,提高被探測(cè)目的體與周邊介質(zhì)的電位差并形成充電效應(yīng),探測(cè)目的體分布特征的一種電法勘探方法。 淺層地震反射波法 shallow seismic reflection 利用地震波的反射原理,對(duì)淺層具有波阻抗差異的地層或構(gòu)造進(jìn)行探測(cè)的一種地震勘探方法,簡(jiǎn)稱淺層反射波法。 8 層析成像 puterized tomography( CT) 利用彈性波或電 磁波的透射原理,對(duì)被測(cè)區(qū)域進(jìn)行斷面掃描,重建介質(zhì)的波速或能量吸收?qǐng)D像的方法。 綜合測(cè)井 prehensive logging 采用兩種或兩種以上的地球物理測(cè)井技術(shù),以測(cè)量鉆孔中介質(zhì)的物理特性的綜合探測(cè)方法。 2 現(xiàn)場(chǎng)工作前,應(yīng)對(duì)儀器進(jìn)行檢查,在同一測(cè)區(qū)觀測(cè)的多臺(tái)同類儀器應(yīng)在同一測(cè)點(diǎn)上采用相同觀測(cè)裝置和觀測(cè)方式進(jìn)行一致性對(duì)比。 2 測(cè)線方向宜垂直于地層或構(gòu)造的走向、或主要探測(cè)目的體的走向,并宜布置在地形起伏較小和表層介質(zhì)相對(duì)均勻的地段;測(cè)線宜與地質(zhì)勘探線和其它物探方法的測(cè)線一致,并應(yīng)避開干擾源。 試驗(yàn)工 作應(yīng)符合下列要求: 1 試驗(yàn)前,應(yīng)根據(jù)測(cè)區(qū)任務(wù)要求、地質(zhì)及物性條件擬定試驗(yàn)方案,試驗(yàn)成果可作為生產(chǎn)成果的一部分。 觀測(cè)、重復(fù)觀測(cè)、檢查觀測(cè)工作應(yīng)符合下列要求: 1 觀測(cè)時(shí),激發(fā)信號(hào)和接收信號(hào)應(yīng)在背景相對(duì)安靜和信號(hào)相對(duì)穩(wěn)定時(shí)刻進(jìn)行。 4 檢查點(diǎn)宜在全測(cè)區(qū)范圍內(nèi)均勻分布,異常地段、可疑點(diǎn)、突變點(diǎn)應(yīng)有檢查點(diǎn)。 2 原始記錄包括:現(xiàn) 場(chǎng)班報(bào)(包括工程名稱、測(cè)區(qū)、測(cè)線或鉆孔、測(cè)點(diǎn)號(hào)、工作單位和操作人員、校驗(yàn)人員、儀器名稱、型號(hào)、儀器主要工作技術(shù)參數(shù)、觀測(cè)系統(tǒng)等),觀測(cè)數(shù)據(jù)或記錄,文件號(hào),數(shù)據(jù)的打印記錄,儀器觀測(cè)過程中的異常情況記錄等。 3 原始資料應(yīng)評(píng)定為合格與不合格兩類,存在 下列情況之一者為不合格。 4) 未按要求做重復(fù)觀測(cè)、檢查觀測(cè)。 8) 需要進(jìn)行漏電檢查的儀器沒有進(jìn)行漏電檢查或檢查不合格。如果發(fā)現(xiàn)原始資料有可疑之處或論述解釋結(jié)論不夠充分時(shí),應(yīng)作必要的外業(yè)補(bǔ)充工作。 2 圖件應(yīng)包括工作布置圖、成果圖、成果解釋圖等。 電法勘探 電法勘探可選用電測(cè)深法、電剖面法、高密度電法、自然電場(chǎng)法、充電法、激發(fā)極化法、可控源音頻大地電磁測(cè)深法、瞬變電磁法等。 3)采用電極接地測(cè)量方式的方法,要求被探測(cè)目的層或目的體上方?jīng)]有極高電阻屏蔽層,采用線框測(cè)量方式的方法要求被探測(cè)目的層或目的體上方?jīng)]有極低電阻屏蔽層; 4) 各地層或地質(zhì)體電性穩(wěn)定,異常范圍和幅值等特征可以被測(cè)量和追蹤。 2) 下伏基巖或被探測(cè)目的層層面與地面交角應(yīng)小于 20176。 2) 飽水滲流層埋藏不深,上覆和下伏滲流巖層電阻率高。 7 可控源音頻大地電磁測(cè)深測(cè)區(qū)現(xiàn)場(chǎng)應(yīng)符合所選用的場(chǎng)源要求,被探測(cè)目的層或目的體應(yīng)位于探測(cè)肓區(qū)以下;電磁噪聲比較平靜,各種干擾較小。 3) 最大補(bǔ)償范圍為 177。 6) 最大供電電流不小于 3A。 3 瞬變電磁法應(yīng)選用具有多通道、采樣率與采樣長(zhǎng)度可調(diào)、信號(hào)疊加功能的儀器,主要技術(shù)指標(biāo)應(yīng)符合下列要求: 1)發(fā)射電壓為 12~ 400V。 5)通道靈敏度為 。 9)等效輸入噪聲不大 于 1??V。 3 電剖面法測(cè)網(wǎng)布置的要求: 1) 應(yīng)垂直于地質(zhì)構(gòu)造帶、巖性分界面走向平行布置多條測(cè)線,以追蹤其走向。 4 高密度電法應(yīng)根據(jù)裝置形式、電極排列數(shù)量、探測(cè)深度、探測(cè)精度熱范 ǖ憔嗪筒庀叩鬧氐 ざ取 ?5 自然電場(chǎng)法應(yīng)選擇地勢(shì)相對(duì)平坦、地表較濕潤(rùn)、電場(chǎng)穩(wěn)定、遠(yuǎn)離地表徑流的地段。;充電法探測(cè)低阻地質(zhì)體時(shí),應(yīng)以低阻地質(zhì)體為中心,測(cè)點(diǎn)間距宜小于探測(cè)目的體埋深的一半,測(cè)線間距宜為點(diǎn)距的 2~ 5倍,并應(yīng)有 3條以上剖面通過低阻地質(zhì)體。 漏電檢查應(yīng)符合 下列要求: 1 儀器外殼與電極間絕緣電阻應(yīng)不小于 300M??,導(dǎo)線絕緣電阻應(yīng)不小于 2M??/km。 2 裝置選擇的要求: 1) 可選擇對(duì)稱四極測(cè)深裝置、雙向三極測(cè)深裝置,也可選擇偶極測(cè)深、微分測(cè)深裝置,還可選擇由兩種以上裝置組合而成的其他裝置。 3 極距選擇的要求: 1) AB、 OA或 OB在雙對(duì)數(shù)坐標(biāo)系下應(yīng)均勻分布,相鄰極距比值宜在 ~ ,對(duì)于淺層詳細(xì)探測(cè)或電阻率參數(shù)測(cè)試的極距宜按等差級(jí)數(shù)增加電極距。 4 現(xiàn)場(chǎng)布極的要求: 1) 測(cè)量電極應(yīng)選用銅質(zhì)電極,供電電極可選用銅、鋼或鐵質(zhì)電極,水上或冰上宜選用鉛電極。 5 宜在測(cè)區(qū)范圍內(nèi)均勻布置控制性的十字形或環(huán)形電測(cè)深,其數(shù)量不少于總電測(cè)深點(diǎn)數(shù)的 3%;采用三極裝置測(cè)深宜進(jìn)行不少于 3%的雙向三極測(cè)深。 4) 一個(gè)點(diǎn)(同一測(cè)深點(diǎn)上同一極距)進(jìn)行了觀測(cè)、重復(fù)觀測(cè)或檢查觀測(cè)時(shí),可按本規(guī)程附錄 K, K大于 n??14%( n為參與計(jì)算的視電阻率值個(gè)數(shù))的數(shù)據(jù)可舍去,取其余數(shù)據(jù)的平均值作為該點(diǎn)的最終觀測(cè)數(shù)據(jù),舍去的數(shù)應(yīng)少于該點(diǎn)觀測(cè)總數(shù)的 1/3。 電剖面法現(xiàn)場(chǎng)工作應(yīng)符合下列要求: 1 裝置選擇的要求: 1) 可選擇雙向三極裝置、三極裝置、對(duì)稱四極裝置、二極裝置,也可選擇偶極、微分裝置,還可選擇由兩種以上裝置組合而成的其他裝置。 16 3) 雙向三極裝置、三極裝置、二極裝置的無窮遠(yuǎn)極應(yīng)符合本標(biāo)準(zhǔn) 3的相關(guān)規(guī)定。 4 資料檢查和評(píng)價(jià)除應(yīng)符合本標(biāo)準(zhǔn) ,單條測(cè)線的資料還應(yīng)符合本標(biāo)準(zhǔn) 7的規(guī)定。 2)雙向三極裝置、三極裝置、二極裝置的無窮遠(yuǎn)極應(yīng)符合本標(biāo)準(zhǔn) 3的相關(guān)規(guī)定。 3)觀測(cè)前應(yīng)檢查排列中全部電極的接地條件并確保電極的連接順序正確。 自然電場(chǎng)法現(xiàn)場(chǎng)工作應(yīng)符合下列要求: 1 自然電場(chǎng)法宜采用電位觀測(cè)法,也可采用梯度法;當(dāng)測(cè)試地下水滲流方向時(shí),宜增加環(huán)形觀測(cè)方式。 3)當(dāng)測(cè)線較長(zhǎng)或游散電流影響較大時(shí)應(yīng)分段觀測(cè),分段觀測(cè)的測(cè)線銜接處應(yīng)重復(fù) 3個(gè)以上測(cè)點(diǎn)。 3) 一個(gè)測(cè)區(qū)的電位觀測(cè) 平均絕對(duì)誤差 ??應(yīng)小于5mV, 梯度觀測(cè)平均絕對(duì)誤差 ??應(yīng)小于 17 3mV。 2) 應(yīng)分別在各測(cè)線上移動(dòng)電極 M,找出各測(cè)線上的等電位點(diǎn)。 6) 可采用兩個(gè)不同距離的固定測(cè)量電極 N和 N進(jìn)行測(cè)量。 6 觀測(cè)、重復(fù)觀測(cè)和檢查觀測(cè)除應(yīng)符合本標(biāo)準(zhǔn) ,還應(yīng)符合下列要求: 1) 觀測(cè)時(shí)應(yīng) 保證持續(xù)穩(wěn)定的供電電流,且宜為 ~ 1A。 5) 一個(gè)測(cè)區(qū)檢查觀測(cè)的 m應(yīng)小于 7%。 2) 測(cè)量電極應(yīng)使用不極化電極。 s3) 重復(fù)觀測(cè)數(shù)據(jù)的極差系數(shù) K應(yīng)小于 n??17%(n為觀測(cè)次數(shù) ),否則應(yīng)增加重復(fù)觀測(cè)量。 可控源音頻大地電磁測(cè)深法現(xiàn)場(chǎng)工作應(yīng)符合下列要求: 1 場(chǎng)源選擇和布置的要求: 1) 人工場(chǎng)源可選擇電偶極子或磁偶極子,應(yīng)根據(jù)探測(cè)目的體的埋深選擇電偶極子場(chǎng)或磁偶極子場(chǎng)。接地條件差時(shí)可澆鹽水,接地電阻宜小于 30??。 3) 電解類不極化電極應(yīng)在土壤中挖坑半掩埋并澆水,當(dāng)測(cè)點(diǎn)為 高阻裸露巖石時(shí),宜用泥土掩埋電極并澆水。 3)觀測(cè)時(shí)電極或磁棒連線不應(yīng)懸空、晃動(dòng)或成匝狀,磁棒應(yīng)水平放置于測(cè)點(diǎn)位置,接收機(jī)、操作員、磁性物體應(yīng)遠(yuǎn)離磁探頭。 7) 移動(dòng)或更換場(chǎng)源,同一測(cè)線應(yīng)有三個(gè)以上測(cè)點(diǎn)被覆蓋,覆蓋點(diǎn)可作為檢查點(diǎn)。 2) 同一 測(cè)深點(diǎn)進(jìn)行四分量觀測(cè)時(shí),視電阻率曲線上標(biāo)準(zhǔn)偏差小于 40%的點(diǎn)超過 70%和相位曲線上不超過 45176。 瞬變電磁法現(xiàn)場(chǎng)工作應(yīng)符合下列要求: 1 裝置和參數(shù)選取的要求: 1) 探測(cè)淺層介質(zhì)宜選用重疊回線、中心回線裝置,探測(cè)深度較深宜選用大定源回線裝置,探 19 測(cè)陡傾斷層宜選用偶極裝置。 3) 敷設(shè)線框時(shí),剩余導(dǎo)線不宜過長(zhǎng)并應(yīng)呈 ―S‖型鋪于地面或遠(yuǎn)離測(cè)區(qū)。 3) 當(dāng)一個(gè)測(cè)點(diǎn)出現(xiàn)重復(fù)觀測(cè)誤差較大時(shí)應(yīng)查明原因,若 有干擾可移動(dòng)點(diǎn)位避開干擾源重測(cè),并作詳細(xì)記錄。 2) 一條測(cè)線或測(cè)區(qū)檢查的總均方相對(duì)誤差 M應(yīng)小于 15%。 3) 應(yīng)對(duì)比分析一條或多條剖面上電測(cè)深曲線類型的變化與地層結(jié)構(gòu)、電性參數(shù)變化、地形變化的關(guān)系。 3 定量解釋應(yīng)在定性解釋的基礎(chǔ)上計(jì)算各電性層厚度、確定異常體位置、規(guī)模、埋深和產(chǎn)狀等。 3) 電測(cè)深曲線經(jīng)消差、圓滑、畸變校正后,不影響解釋精度。當(dāng)曲線比較復(fù)雜時(shí),可以使用各種簡(jiǎn)化的解釋方法或經(jīng)驗(yàn)方法。 2 應(yīng)分析曲線中異常的幅值、規(guī)模、形態(tài)等特點(diǎn),并對(duì)異常進(jìn)行定性解釋。 4 圖件應(yīng)包括:視電阻率曲線剖面或平面分布圖、剖面或平面物探成果地質(zhì)解釋圖等,并應(yīng)采用不同的線型或顏色繪制 視電阻率曲線及在曲線橫坐標(biāo)的下方繪制地形剖面及推斷的目的體位置大小及產(chǎn)狀等。 3)應(yīng)對(duì)比同一剖面多種裝置的視電阻率剖面或圖像進(jìn)行解釋。 2 可根據(jù)地質(zhì)物性、環(huán)境條件分段確定背景值并剔除干擾異常。 6 圖件可包括:自然電位或梯度的剖面曲線圖、剖面平面圖、平面等值線圖,自然電位或梯度物探成果解釋剖面或平面圖。 3)可用電位剖面曲線的極大值或梯度剖面曲線的 ―零 ‖值確定平面點(diǎn)位。 4 圖件可包括: ρ、 ε、 J、 D、 S剖面圖、平面圖,相關(guān)的物探成果地質(zhì)解釋圖,測(cè)深曲線 類型圖,含水層分布平面圖和含水層埋深圖等。 4) 靜態(tài)位移校正應(yīng)根據(jù)已知地質(zhì)資料和原始剖面等值線圖及地形起伏情況選擇參數(shù)和最佳靜態(tài)位移校正方法。 4) 可將反演的電阻率剖面或典型測(cè)深曲線與鉆孔揭示的地層和不良地質(zhì)體進(jìn)行對(duì)比,建立地質(zhì)電性模型的對(duì)應(yīng)關(guān)系。 2 應(yīng)通過處理軟件計(jì)算和繪制視電阻率、視縱向電導(dǎo)斷面圖。 22 探地雷達(dá) 探地雷達(dá)可選用剖面法、寬角法、環(huán)形法、透射法、多天線法和孔中雷達(dá)等工作方式。 4 不能探測(cè)極高電導(dǎo)屏蔽層下的目的體或目的層。 儀器性能應(yīng)符合下列要求: 1 信號(hào)增益控制應(yīng)具有指數(shù)增益功 能。 測(cè)網(wǎng)布置應(yīng)符合本標(biāo)準(zhǔn) ,進(jìn)行點(diǎn)測(cè)時(shí),點(diǎn)距宜為 ~ ,在異常區(qū)域應(yīng)有 3個(gè)以上的測(cè)點(diǎn)表現(xiàn)異常。 4 宜選擇所用天線的中心頻率的 6~ 10倍作為采樣率。 4 孔中探測(cè)應(yīng)根據(jù)探 測(cè)任務(wù)要求選用自發(fā)自收的單孔天線或一發(fā)一收的跨孔天線,天線頻率應(yīng)根據(jù)探測(cè)范圍、探測(cè)精度要求選用。 3 觀測(cè)過程中,應(yīng)保持工作天線的平面與探測(cè)面基本平行,距離相對(duì)一致。 6 使用分體天線進(jìn)行點(diǎn)測(cè)時(shí),應(yīng)通過調(diào)整天線距使來自目的體的反射信號(hào)最強(qiáng)。 8 記錄標(biāo)注應(yīng)與測(cè)線樁號(hào)一致。 2 檢查觀測(cè)的圖像與原始觀測(cè)圖像的異常形態(tài) 與位置基本一致時(shí)資料為合格。 3 在數(shù)據(jù)處理各階段均可選擇頻率濾波,消除某一頻段的干擾波。 7 可選用空間濾波的有效道疊加和道間差兩種方法,使異常具有更好的連續(xù)性或獨(dú)立性,提高數(shù)據(jù)圖像的可解釋性。 2 應(yīng)先在原始圖像上通過反射波波形及能量強(qiáng)度等特征判斷、識(shí)別和篩選異常。 2 布置在隧洞、陡
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