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pcb知識精講-全文預(yù)覽

2024-11-17 05:48 上一頁面

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【正文】 5 透光度≤0.15 B、舊菲林:阻光度≥4.0 透光度≤0.35 測試項目: 曝光尺、曝光能量均勻性 、底片光密度 無塵室環(huán)境項目,外層線路:,景旺電子(深圳)有限公司,第六十四頁,共一百一十四頁。 關(guān)鍵設(shè)備:手動散射光曝光機(jī) 半自動CCD平行光曝光機(jī) 全自動CCD平行光曝光機(jī),外層線路:,景旺電子(深圳)有限公司,第六十二頁,共一百一十四頁。,2)貼膜 溫度:22177。 工作原理:刷磨(常用)、噴砂、化學(xué) 關(guān)鍵設(shè)備:前處理機(jī)(磨板/噴砂/化學(xué)) 關(guān)鍵物料:磨刷(規(guī)格320/500) 關(guān)鍵控制:磨痕寬度: 尼龍針?biāo)ⅲ?018mm 不織布磨刷:812mm 水破時間: ≥15s 測試項目:磨痕測試、水膜測試。,外層圖形總流程:,影像轉(zhuǎn)移過程圖例,,底片,貼膜,曝光,顯影,蝕刻,褪錫,干膜,,,,圖電,褪膜,景旺電子(深圳)有限公司,第五十六頁,共一百一十四頁。,3)整板電鍍:,作用:利用電化學(xué)原理,及時的加厚孔內(nèi)的銅層,保證PCB層間互連的可靠性。,1) 磨板 關(guān)鍵物料:磨刷(規(guī)格180240320) 關(guān)鍵控制:磨痕寬度:1020mm 水破時間:≥15s 超聲波強度:6080% 測試項目:磨痕檢測;磨板過度(孔邊 凹陷、孔邊露基材)、表觀 清潔平整等 。實現(xiàn)孔金屬化,使雙面、多層板實現(xiàn)層與層之間的互連。3mil 孔位精度:一鉆177。 厚度:0.150.2mm C、墊板 作用:防止鉆孔披鋒; 防止損壞鉆機(jī)臺; 減少鉆咀損耗。,1)鉆孔 關(guān)鍵物料: A、鉆咀 定義:采用硬質(zhì)合金材料制造,它是一種 鎢鈷類合金,以碳化鎢(WC)粉 末為基體,以鈷(CO)作為粘合 劑,經(jīng)加壓燒結(jié)而成,具有高硬 度、非常耐熱,有較高的強度, 適合于高速切削,但韌性差、非 常脆。,鉆孔后板,景旺電子(深圳)有限公司,第四十四頁,共一百一十四頁。,4) 壓合后流程 作用:將壓合好的板加工成雙面板狀 態(tài),并鉆出鉆孔定位孔。成為固體的樹脂叫做CStage。2116。,景旺電子(深圳)有限公司,第三十八頁,共一百一十四頁。,1) 棕化 .作用:在銅面生成一層有機(jī)銅氧化層,保證后續(xù)壓合時芯板與PP的結(jié)合力。,8) AOI 作用:利用光學(xué)原理比對工程資料進(jìn) 行精確檢查,找出缺陷點。,6) 退膜 作用:把已經(jīng)形成的線路圖形所 覆蓋的油墨退除,得到所 需的銅面圖形線路 工作原理:是通過較高濃度的NaOH將保護(hù)線路銅面的油墨溶解并清洗掉 測試項目:/ 關(guān)鍵設(shè)備:退膜機(jī) 關(guān)鍵物料:NaOH 關(guān)鍵控制:退膜噴淋壓力、藥水濃度,內(nèi)層顯影蝕刻機(jī),內(nèi)層顯影放板,景旺電子(深圳)有限公司,第三十四頁,共一百一十四頁。 關(guān)鍵設(shè)備:蝕刻機(jī) 關(guān)鍵物料: A、鹽酸:HCL B、氧化劑:NaClO3,內(nèi)層顯影蝕刻機(jī),景旺電子(深圳)有限公司,第三十頁,共一百一十四頁。,4)顯影 作用:去掉未曝光部分,露出須蝕刻去 除的銅面圖形線路 工作原理:未發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)之油墨層與 顯影液進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)形成鈉 鹽而被溶解,而發(fā)生交聯(lián)反 應(yīng)部分油墨則不參與反應(yīng)而 得以保存。,3) 曝光 關(guān)鍵物料: A、銀鹽片(黑片) B、曝光燈(功率7/8KW) 關(guān)鍵控制: 對位精度:人工對位:177。,2) 涂布 作用:使用滾涂方式在板面涂上一 層感光油墨。,內(nèi)層流程:,影像轉(zhuǎn)移過程圖例,濕膜,底片,蝕刻,曝光,顯影,褪膜,景旺電子(深圳)有限公司,第二十二頁,共一百一十四頁。,景旺電子(深圳)有限公司,第二十頁,共一百一十四頁。 關(guān)鍵控制:不同板材焗板參數(shù)區(qū)分,焗板時間,焗板溫度、疊層厚度。 基板經(jīng)/緯向辨識:49inch為緯向,另一邊尺寸(3443inch)為經(jīng)向,保證多層板的PP與基板的經(jīng)向、緯向一致是控制漲縮、翹曲的首要條件。,制作流程: 雙面噴錫板流程:開料→鉆孔→沉銅→板面電銅→外層線路→圖形電鍍→外層蝕刻→阻焊→字符→噴錫→成形→成品測試→ FQC → FQA →包裝 四層防氧化板流程:開料→內(nèi)層→層壓→鉆孔→沉銅→板面電銅→外層線路→圖形電鍍→外層蝕刻→阻焊→字符→成形→成品測試→FQC→ OSP→FQC→ FQA →包裝,景旺電子(深圳)有限公司,第十六頁,共一百一十四頁。 潔凈房溫濕度要求:溫度22177。小時,AMIN—安培 MSDS:物質(zhì)安全資料表,是化學(xué)品生產(chǎn)商和供應(yīng)商用來 闡明危險化學(xué)品的燃、爆性能,毒性和環(huán)境危 害,以及安全使用、泄漏應(yīng)急救護(hù)處置、主要理 化參數(shù)、法律法規(guī)等方面信息的綜合性文件,景旺電子(深圳)有限公司,第十一頁,共一百一十四頁。,印制電路板常用基材 ?? 常用的 FR FR4覆銅板包括以下幾部分: ?? A、玻璃纖維布 ?? B、環(huán)氧樹脂 C、銅箔 D、填料(應(yīng)用于高性能或特殊要求板材),景旺電子(深圳)有限公司,第九頁,共一百一十四頁。,景旺電子(深圳)有限公司,第五頁,共一百一十四頁。,印制電路板分類 ??,景旺電子(深圳)有限公司,第四頁,共一百一十四頁。PCB基礎(chǔ)知識,景旺電子(深圳)有限公司,第一頁,共一百一十四頁。,景旺電子(深圳)有限公司,第三頁,共一百一十四頁。主要取其散熱功能。,D.依表面制作分 Hot Air Levelling 噴錫 Gold finger board 金手指板 Carbon oil board 碳油板 Au plating board 鍍金板 Entek(防氧化)板 Immersion Au board 沉金板 Immersion Tin 沉錫板 Immersion Silver 沉銀板,景旺電子(深圳)有限公司,第八頁,共一百一十四頁。,常用化學(xué)品純度等級 GR級(優(yōu)級純);適用于精密分析或科研,如AA機(jī) 標(biāo)準(zhǔn)樣品,要求純度≥99.8% AR級(分析純);普通化驗分析,純度≥99.7% CP級(化學(xué)純);一般工業(yè)/學(xué)校應(yīng)用,純度≥99.5% 工業(yè)級;一般工業(yè)應(yīng)用。,常用單位 電流密度:ASF—安培每平方英尺,ASD—安培每平方分米, 1ASD=9.29ASF. 電量:AH—安培,常用單位 潔凈度: 潔凈房潔凈度要求:內(nèi)層線路/外層線路/阻焊 設(shè)計為1萬級,層壓設(shè)計為10萬級。,景旺電子(深圳)有限公司,第十五頁,共一百一十四頁。,1)開料 按照生產(chǎn)指令,將大張敷銅板切割成適宜生產(chǎn)的規(guī)格尺寸; 關(guān)鍵控制:尺寸,銅厚,板厚、經(jīng)緯方向。,2) 焗板 作用:消除板料內(nèi)應(yīng)力,防止板翹,提高板的尺寸穩(wěn)定性。 基板按材料種類分類:CEM、FR無鹵素等 TG值定義:玻璃轉(zhuǎn)化溫度,可理解為材料開始軟化如玻璃熔融狀態(tài)下的溫度點。,景旺電子(深圳)有限公司,第二十一頁,共一百一十四頁。,內(nèi)層制作:,景旺電子(深圳)有限公司,第二十三頁,共一百一十四頁。 關(guān)鍵設(shè)備:手動散射光曝光機(jī) 半自動CCD散射光曝光機(jī),內(nèi)層曝光機(jī),景旺電子(深圳)有限公司,第二十五頁,共一百一十四頁。,3) 曝光 曝光能量均勻性(曝光能量min/max) A、手動散射光曝光機(jī):≥80% B、半自動CCD曝光機(jī):≥85% 底片光密度: A、新菲林:阻光度≥4.5 透光度≤0.15 B、舊菲林:阻光度≥4.0 透光度≤0.35 測試項目: 曝光尺、曝光能量均勻性 、底片光密 度無塵室環(huán)境項目,內(nèi)層曝光機(jī),景旺電子(深圳)有限公司,第二十七頁,共一百一十四頁。,5) 蝕刻 作用:把顯影后裸露出來的銅蝕去, 得到所需圖形線路 工作原理:通過強酸環(huán)境下的自體氧化還原反應(yīng)把銅層咬掉,同時通過 強氧化劑氧化再生的酸性蝕刻體系。,Etch Factor: r=2H(DA),A,D,H,覆錫,銅層+全電層,基材,b,圖電層,蝕刻因子(針對藥水、設(shè)備): 蝕銅除了要做正面向下的溶蝕(Downcut)之外,蝕液也會攻擊線路兩側(cè)無保護(hù)的腰面,稱之為側(cè)蝕(Under cut),經(jīng)常造成如蘑菇般的蝕刻缺陷,即為蝕刻品質(zhì)的一種指標(biāo)(Etch Factor),
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