干膜光致抗蝕劑的技術(shù)條件-全文預(yù)覽
【正文】 的好壞是衡量干膜質(zhì)量 的一項(xiàng)重要指標(biāo)。干膜的深度曝光性很重要。 干膜曝光一段時(shí)間后，經(jīng)顯影，光致抗蝕層已全部或大部分聚合，一般來說所形成的圖像 可以使用，該時(shí)間稱為最小曝光時(shí)間。故可選用低壓鈉燈作為干膜操作的安全光?！?光譜特性 在紫外——可見光自動(dòng)記錄分光光度計(jì)上制作光譜吸收曲線(揭去聚乙烯保護(hù)膜，以聚酯 薄膜作參比，光譜波長(zhǎng)為橫坐標(biāo)，吸收率即光密度D作縱坐標(biāo))，確定光譜吸收區(qū)域波長(zhǎng)及安 全光區(qū)域。16．5 寬度(mm) 485,300177。10．5 177。表7—2 干膜的厚度及尺寸公差規(guī)格名稱標(biāo)稱尺寸公 差一級(jí)二級(jí)厚度(um)聚酯片基光致抗蝕層聚乙烯保護(hù)膜總厚度25～30235025～30 75～110 177?！蚬庵驴刮g層厚度一般在產(chǎn)品包裝單或產(chǎn)品說明書上都標(biāo)出光致抗蝕層的厚度，可根據(jù)不同的用途選用不 同厚度的干膜。流膠不允許。，～≤15個(gè)／平方米機(jī)械雜質(zhì)不允許有明顯的機(jī)械雜質(zhì)。色澤淺色，不允許有明顯的色不均勻現(xiàn)象。聚酯薄膜必須透明度高，否則會(huì)增加曝光時(shí)間。質(zhì)量好的干膜必須無氣泡、顆粒、雜質(zhì)；抗蝕膜厚度均勻；顏色均勻一致；無膠層流動(dòng)。為此在電子部、化工部的支持下，1983年在大連召開了光致抗蝕干膜技術(shù)協(xié)調(diào)會(huì)議，制定了國(guó)產(chǎn)水溶性光致抗蝕干膜的總技術(shù)要求。生產(chǎn)干膜的廠家也需要有一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)來衡量產(chǎn)品質(zhì)量。外觀使用干膜時(shí)，首先應(yīng)進(jìn)行外觀檢查。聚酯薄膜應(yīng)盡可能薄，聚酯膜太厚會(huì)造成曝光時(shí)光線嚴(yán)重散射，而使圖像失真，降低干膜分辨率。透明度良好，允許有不明顯的渾濁。指標(biāo)名稱指 標(biāo) 一級(jí) 二級(jí) 凝膠粒子。允許有不明顯的劃傷。允許有輕微折痕。干膜厚度及尺寸公 差技術(shù)要求如表7—2。5177。10177?！蛸N膜性
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